JP5431304B2 - 生理不活性被膜を有する基材 - Google Patents

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Description

本発明は、基材の表面への生物学的材料の低下された付着性を付与する方法と、基材を被覆する方法と、前記方法における使用に適した化合物の混合物とに関する。
基材を生物学的な侵襲及び増殖から保護するために、殺生物剤で基材を処理することができる。基材の表面上の生物学的材料（例えば植物、藻又は微生物）の望ましくない蓄積は、通常、生物学的汚損と呼ばれる。一般的な防汚剤としては、テトラブチルスズ（ＴＢＴ）や酢酸フェニル水銀がある。防汚剤は、環境中に漏出すると、環境を汚染する。これらの殺生物剤の漏出は、標的生物の中に耐性を引き起こす可能性があり、防汚剤は、通常、ヒトや他の哺乳類等の非標的生物に対しても非常に毒性が高いことから、これらの生物体に対する望ましくない害を除外することはできない。
従って、本発明の目的は、一般的な防汚剤を必要とすることなく基材を生物学的な侵襲及び増殖から保護する方法を提供することである。前記方法はまた、既存の装置で、大量に、且つ、連続的な様式で技術的に可能となる。
この目的は、請求項１及び１０の方法、請求項１７の基材、及び請求項１８の混合物により解決される。
本発明の基材の表面への生物学的材料の低下された付着性を付与する方法は、以下のステップ
（ｉ）基材の表面を酸化するステップ
（ｉｉ）基材の酸化表面に１種以上のエチレン性不飽和化合物を含む組成物を塗布するステップ、及び
（ｉｉｉ）前記組成物を硬化させて、被膜層を形成させるステップ、を含む。
生物学的材料は、タンパク質、胞子、核酸、ウィルス又は生物学的細胞、並びに生物学的細胞の断片又は抽出物であり得る。
タンパク質の例としては、繊維状タンパク質（例えばアクチンやチューブリン）、球状タンパク質（例えばアルブミン、フィブリン、トロンビン、免疫グロブリン）、酵素（例えば酸化還元酵素、トランスフェラーゼ、加水分解酵素）、プリオンがある。
胞子の例としては、真菌、シダ類、シダ類似植物の胞子がある。
核酸の例としては、デオキシリボ核酸やリボ核酸がある。
ウィルスの例としては、アデノウイルス、ＡＩＤＳウィルス、ラムダファージ、Ｔ４ファージ、Ｔ７ファージがある。
生物学的細胞の例としては、古細菌、細菌細胞、真核細胞がある。
細菌細胞の例としては、アクチノバクテリア門、クラミジア門、シアノバクテリア門、ファーミキューテス門、プロテオバクテリア門、スピロヘータ門に由来する細胞がある。アクチノバクテリア門の属の例としては、アクチノミセス属、アルトロバクター属、コリネバクテリウム属、ノカルジア属、ストレプトミセス属がある。ファーミキューテス門の属の例としては、バチルス属、エンテロコッカス属、ラクトバシラス属、ラクトコッカス属、ストレプトコッカス属、アセトバクテリウム属、クロストリジウム属、ユーバクテリウム属、ヘリオバクテリウム属がある。プロテオバクテリア門の属の例としては、エンテロバクター属、エシェリヒア属、クレブシエラ属、サルモネラ属、シュードモナス属、ビブリオ属、バークホルデリア属、ヘリコバクター属、カンピロバクター属がある。大腸菌種の細胞が、特に好ましい細菌細胞である。
真核細胞の例としては、真菌細胞、ヒト細胞、動物細胞、植物細胞がある。
真菌細胞の例としては、カビ、キノコ、イースト細胞がある。イースト細胞の例としては、サッカロミセス属やカンジダ属の細胞がある。サッカロミセスセレビジエ種及びカンジダアルビカンス種の細胞は、特に好ましいイースト細胞である。
好ましい生物学的材料は、タンパク質、細菌細胞及び生物学的細胞である。より好ましい生物学的材料は、タンパク質、細菌細胞及び真菌細胞である。最も好ましい生物学的材料は、細菌細胞、特に大腸菌の細菌細胞である。
基材の表面に対する生物学的物質の付着度は、本発明の方法に従って処理された基材の表面に付着した生物学的材料の量を、未処理の基材の表面に付着した生物学的材料の量と比較することにより決定することが可能である。
基材は、シートやフィルム等の二次元的な対象物、又はいかなる三次元的な対象物であってよく、それは、透明又は不透明であり得る。基材は、紙、厚紙、木、革、金属、織物、ガラス、セラミック、石及び／又はポリマーから作製され得る。
金属の例としては、鉄、ニッケル、パラジウム白金、銅、銀、金、亜鉛、アルミニウムや、合金（例えば鋼、黄銅、青銅、ジュラルミン）がある。
織物は、動物や植物由来の繊維等の天然繊維、又は合成繊維から作製され得る。動物由来の天然繊維の例としては、羊毛や絹がある。植物起源の天然繊維の例としては、綿、亜麻、ジュートがある。合成織物の例としては、ポリエステル、ポリアクリルアミド、ポリオレフィン（例えばポリエチレンやポリプロピレン）、ポリアミド（例えばナイロンやライクラ）がある。
セラミックの例としては、粘土から主に作製される製品（例えばレンガ、タイル、磁器）や、技術的なセラミックがある。技術的セラミックは、酸化物（例えば酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸バリウム）、炭化物（例えば炭化ナトリウム、炭化ケイ素、炭化ホウ素）、ホウ化物（例えばホウ化チタン）、窒化物（例えば窒化チタンや窒化ホウ素）及びケイ化物（例えばケイ化ナトリウムやケイ化チタン）であり得る。
石の例としては、石灰岩、花崗岩、片麻岩、大理石、粘板岩、砂岩がある。
ポリマーの例としては、アクリルポリマー、スチレンポリマー及びその水素化物、ビニルポリマー及びその誘導体、ポリオレフィン及びその水素化物又はエポキシド化物、アルデヒドポリマー、エポキシドポリマー、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、スルホン系ポリマー並びにその天然ポリマー及び誘導体がある。
アクリルポリマーは、少なくとも１種のアクリルモノマー或いは又は少なくとも１種アクリルモノマー及び少なくとも１種の他のエチレン性不飽和モノマー（例えばスチレンモノマー、ビニルモノマー、オレフィンモノマー、マレイン酸モノマー）から形成されるポリマーであり得る。
アクリルモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリシジルメタクリレート、アセトアセトキシエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレートがある。スチレンモノマーの例としては、スチレン、４−メチルスチレン、４−ビニルビフェニルがある。ビニルモノマーの例としては、ビニルアルコール、ビニルクロライド、ビニリデンクロライド、ビニルイソブチルエーテル、ビニルアセテートがある。オレフィンモノマーの例としては、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、それらの塩素化誘導体やフッ素化誘導体（例えばテトラフルオロエチレン）がある。マレイン酸モノマーの例としては、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイミドがある。
アクリルポリマーの例としては、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリ（ブチルメタクリレート）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリアクリル酸、スチレン／２−エチルヘキシルアクリレートコポリマー、スチレン／アクリル酸コポリマー。
スチレンポリマーは、少なくとも１種のスチレンモノマー或いは少なくとも１種のスチレンモノマー及び少なくとも１種のビニルモノマー、オレフィンモノマー及び／又はマレイン酸モノマーから形成されるポリマーであり得る。スチレンポリマーの例としては、ポリスチレン（ＰＳ）、スチレンブタジエンスチレンブロックポリマー、スチレンエチレンブタジエンブロックポリマー、スチレンエチレンプロピレンスチレンブロックポリマー、スチレン−無水マレイン酸コポリマーがある。
ビニルポリマーは、少なくとも１種のビニルモノマー或いは少なくとも１種のビニルモノマー及び少なくとも１種のオレフィンモノマー又はマレイン酸モノマーから形成されるポリマーであり得る。ビニルポリマーの例としては、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、部分的加水分解ポリビニルアセテート、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸コポリマーがある。それらの誘導体の例としては、カルボキシ修飾ポリビニルアルコール、アセトアセチル修飾ポリビニルアルコール、ジアセトン修飾ポリビニルアルコール、ケイ素修飾ポリビニルアルコールがある。
ポリオレフィンは、少なくとも１種のオレフィンモノマー或いは少なくとも１種のオレフィンモノマー及びマレイン酸モノマーから形成されるポリマーであり得る。ポリオレフィンの例としては、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）、ポリブタジエン、ポリテトラフルオロエチレン（Ｔｅｆｌｏｎ−ＰＴＦＥ）、塩素化ポリエチレン、イソプロピレン−無水マレイン酸コポリマーがある。
アルデヒドポリマーは、少なくとも１種のアルデヒドモノマー又はアルデヒドポリマーと、少なくとも１種のアルコールモノマー又はアルコールポリマー、アミンモノマー又はアミンポリマー及び／又は尿素モノマー又は尿素ポリマーとから形成されるポリマーであり得る。アルデヒドモノマーの例としては、ホルムアルデヒド、フルフラール、ブチラールがある。アルコールモノマーの例としては、フェノール、クレゾール、レゾルシノール、キシレノールがある。ポリアルコールの例としては、ポリビニルアルコールがある。アミンモノマーの例としては、アニリンやメラミンがある。尿素モノマーの例としては、尿素、チオ尿素、ジシアンジアミドがある。アルデヒドポリマーの例としては、ブチラールから形成されるポリビニルブチラールや、ポリビニルアルコールがある。
エポキシドポリマーは、少なくとも１種のエポキシドモノマーと、少なくとも１種のアルコールモノマー及び／又はアミンモノマーとから形成されるポリマーであり得る。エポキシドモノマーの例としては、エピクロロヒドリンやグリシドールがある。アルコールモノマーの例としては、フェノール、クレゾール、レゾルシノール、キシレノール、ビスフェノールＡ、グリコールがある。エポキシドポリマーの例としては、エピクロロヒドリンとビスフェノールＡとから形成されるフェノキシ樹脂がある。
ポリアミドは、アミド基又はアミノ基並びにカルボキシ基を有する少なくとも１種のモノマーから、或いは２個のアミノ基を有する少なくとも１種のモノマー及び２個のカルボキシ基を有する少なくとも１種のモノマーから形成されるポリマーであり得る。アミド基を有するモノマーの例としては、カプロラクタムがある。ジアミンの例としては、１，６−ジアミノヘキサンがある。ジカルボン酸の例としては、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸がある。ポリアミドの例としては、ポリヘキサメチレンアジパミドやポリカプロラクタムがある。
ポリエステルは、ヒドロキシ基並びにカルボキシ基を有する少なくとも１種のモノマーから、或いは２個のヒドロキシ基を有する少なくとも１種のモノマーと、２個のカルボキシ基又は１個のラクトン基を有する少なくとも１種のモノマーとから形成されるポリマーであり得る。ヒドロキシ基並びにカルボキシ基を有するモノマーの例としては、アジピン酸がある。ジオールの例としては、エチレングリコールがある。ラクトン基を有するモノマーの例としては、カプロラクトンがある。ジカルボン酸の例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸がある。ポリエステルの例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）がある。いわゆるアルキド樹脂もまた、ポリエステルポリマーに属すると考えられる。
ポリウレタンは、少なくとも１種のジイソシアネートモノマーと、少なくとも１種のポリオールモノマー及び／又はポリアミンモノマーとから形成されるポリマーであり得る。ジイソシアネートモノマーの例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアナートがある。
ポリカーボネートの例としては、ポリ（芳香族カーボネート）やポリ（脂肪族カーボネート）がある。ポリ（脂肪族カーボネート）は、二酸化炭素及び少なくとも１種のエポキシドから形成され得る。
スルホン系ポリマーの例としては、ポリアリールスルホン、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニルスルホン（ＰＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）がある。ポリスルホン（ＰＳＦ）は、４，４−ジクロロジフェニルスルホン及びビスフェノールＡから形成されるポリマーである。
天然ポリマーの例としては、デンプン、セルロース、ゼラチン、カゼイン、天然ゴムがある。誘導体の例としては、酸化デンプン、デンプン−ビニルアセテートグラフトコポリマー、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ニトリルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アセチルセルロースがある。
基材は、医療分野で使用する基材であってよい。かかる基材の例としては、インプラント、人工臓器、人工関節、人工血管、医療機器（例えば創傷包帯、カテーテル、聴診器、チューブ、注射器、針）等のｉｎ−ｖｉｖｏで使用される基材がある。
基材は、水ライナ又は包装、例えば食品包装であってよい。基材は、膜である可能性もあった。
好ましくは、基材はポリマーから作製される。より好ましくは、基材は、スチレンポリマー、ビニルポリマー及びその誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル及びスルホン系ポリマーから成る群から選択されるポリマーから作製される。更により好ましくは、基材は、ポリオレフィンから作製される。最も好ましくは、基材は、ポリプロピレン（ＰＰ）又は二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）から作製される。
好ましくは、ポリマーから作製される基材はフィルムである。
基材の表面の酸化は、例えば、コロナ放電、プラズマ、火炎、オゾン、電子ビーム、Ｘ線又は紫外線放射による処理によって行うことが可能である。
コロナ放電は、コロナを特徴とする、気体中の２つの電極の内の１つが、電極間よりも著しく大きいその表面での電界を引き起こす形状を有する場合に発生する放電であり得る。気体としては、通常、空気が用いられる。基材は、例えば２つの電極間に基材としてのフィルムを通すことによって、通常、２つの電極間の放電場における周囲圧力で位置する。
プラズマは、電子及びイオンが存在する気体であり得る。プラズマは、高温又は高電場で気体を処理することにより作製することが可能である。プラズマ処理は、通常、真空室において、不活性ガス又は反応性ガス、例えば酸素から成るガス雰囲気中で非熱的プラズマにより１０〜１００Ｐａで行われる。
火炎は、可燃性ガスと、酸素含有ガス、例えば大気とが混合して燃焼する際に形成される火炎であり得る。可燃性ガスの例としては、プロパン、ブタン、都市ガスがある。火炎処理は、通常、周囲圧力で行われる。
オゾンは、コロナ放電において、又は、紫外線放射によって、大気酸素から生成させることができる。
電子ビームは、電子ビーム加速器によって、例えば陰極線管によって生成させることができる。
Ｘ線は、Ｘ線発生装置によって、例えばＸ線管によって生成させることができる。
好ましくは、表面の酸化は、コロナ放電、プラズマ又は火炎による処理によって行われる。より好ましくは、それは、コロナ放電処理又はプラズマ処理によって行われる。
１種以上のエチレン性不飽和化合物は、重合可能な任意のエチレン性不飽和化合物であってよい。
１種以上のエチレン性不飽和化合物は、例えば、式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、同一又は異なってよく、及び、水素、ハロゲン又はＣ1-6アルキルであってよく、
Ａは、アリール、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）Ｒ4、Ｃ（Ｏ）ＯＲ5、ＯＲ6、ＯＣ（Ｏ）Ｒ7、ＮＲ8Ｃ（Ｏ）Ｒ9又はＣ（Ｏ）ＮＲ10Ｒ11であってよく、ここでアリールは、以下で概説されるように、非置換又は置換されていてもよく、
ここで、
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は、同一又は異なってよく、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、アリール、Ｃ1-6アルキレン−アリール−Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルキレン−アリール−（Ｃ1-6アルキル）2、Ｃ1-6アルキレン−Ｃ1-12シクロアルキル−Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルキレン−Ｃ1-12シクロアルキル−（Ｃ1-6アルキル）2又はアリール−Ｃ1-30アルキレン−アリールであってよく、及び
Ｒ8及びＲ9は、同一又は異なってよく、Ｒ5と同じ意味を有してよく、更に、ＮＣ（Ｏ）と共に４〜７員環を形成してよく、
ここで、
Ｃ1-100アルキル、Ｃ1-6アルキレン−アリール−Ｃ1-6アルキル、Ｃ1-6アルキレン−アリール−（Ｃ1-6アルキル）2、Ｃ1-6アルキレン−Ｃ1-12シクロアルキル−Ｃ1-6アルキル及びＣ1-6アルキレン−Ｃ1-12シクロアルキル−（Ｃ1-6アルキル）2は、１つ以上のＣ3-8シクロアルキル、アリール、ＯＣ2-30アルケニル、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ12、Ｃ（Ｏ）ＮＲ13Ｒ14、ＯＲ15、ＮＲ16Ｒ17、ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）Ｒ20、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ21）＝Ｃ（Ｒ22）Ｒ23又は非置換又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ24）＝Ｃ（Ｒ25）Ｒ26で置換されていてもよく、
Ｃ2-30アルケニル基は、非置換又は１つ以上のＣ3-8シクロアルキル、アリール、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ12、Ｃ（Ｏ）ＮＲ13Ｒ14、ＯＲ15、ＮＲ16Ｒ17、ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）Ｒ20、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ21）＝Ｃ（Ｒ22）Ｒ23又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ24）＝Ｃ（Ｒ25）Ｒ26で置換されていてもよく、
アリール基又はアリール−Ｃ1-30アルキレン−アリール基は、１つ以上のＣ1-6アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ12、Ｃ（Ｏ）ＮＲ13Ｒ14、ＯＲ15、ＮＲ16Ｒ17、ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）Ｒ20、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ21）＝Ｃ（Ｒ22）Ｒ23又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ24）＝Ｃ（Ｒ25）Ｒ26で置換されていなくても置換されていてもよく、ここで
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25及びＲ26は、同一又は異なってよく、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、
及び
Ｃ1-100アルキル又はＣ2-30アルケニルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−、−ＮＨ−及び／又はフェニレンで置換してよく、Ｃ3-8シクロアルキルの１個のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい］のものであってよい。
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であってよい。Ｃ1-6アルキルは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル又はヘキシルであってよい。
Ｃ1-6アルキレン−アリール−（Ｃ1-6−アルキル）2の例としては、トリエチルイソシアヌレートがある。Ｃ1-6アルキレン−Ｃ1-12シクロアルキル−Ｃ1-6アルキルの例としては、ジメチルトリシクロデカンがある。
アリールは、フェニル又はナフチル又はヘテロアリール（例えばイミダゾリル、ピリル、イソシアヌリル）であってよい。好ましくは、アリールはフェニルである。
Ｃ1-6アルキルは、分岐鎖又は非分岐鎖であってもよく、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル又はヘキシルであってよい。
Ｃ1-100アルキルは、分岐鎖又は非分岐鎖であってもよい。Ｃ1-100アルキルの例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、イコシル、エイコシル、ドコシル、テトラコシル、トリアコンチルがある。
Ｃ3-8シクロアルキルの例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルがある。
Ｃ2-30アルケニルの例としては、ビニルやアリルがある。
アリール−Ｃ1-30アルキレン−アリールの例としては、フェニル−エチレン−フェニルやフェニル−プロピレン−フェニルがある。
式１のエチレン性不飽和化合物の例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタアクリル酸、メタクリルアミド、ビニルアセテート、イソブチルビニルエーテル、スチレン、Ｎ−ビニルピロリジノン、ビニルクロライド、ビニリデンクロライド、エチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、４，４’−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ）ジフェニルプロパン、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシネート、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、グリセロールエトキシレートトリアクリレート、グリセロールプロポキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート、ペンタエリスリトールプロポキシレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールプロポキシレートテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレート、エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（９）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（１５）トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールエトキシレートジアクリレート及びネオペンチルグリコールプロポキシレートジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジメタクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレート、ポリエチレングリコール−モノ−メタクリレートがある。
好ましくは、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、同一又は異なって、水素又はＣ1-6アルキルである。
Ａは、アリール、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ5、ＯＲ6、ＯＣ（Ｏ）Ｒ7、ＮＲ8Ｃ（Ｏ）Ｒ9又はＣ（Ｏ）ＮＲ10Ｒ11であり、ここでＲ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ10及びＲ11は、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｃ2-30アルケニル又はアリール−Ｃ1-30アルキレン−アリールであり；Ｒ8及びＲ9は、同一又は異なり、Ｒ5と同じ意味を有し、更に、ＮＣ（Ｏ）と共に４〜７員環を形成してよく、ここで、Ｃ1-100アルキルは、非置換又は１つ以上のＣ3-8シクロアルキル、Ｏ−Ｃ2-30アルケニル、ＯＲ15、ＮＲ16Ｒ17、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ21）＝Ｃ（Ｒ22）Ｒ23、ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）Ｒ20又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ24）＝Ｃ（Ｒ25）Ｒ26で置換されていてもよく、及びアリールは、非置換又は１つ以上のＣ2-30アルケニル又はＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ21）＝Ｃ（Ｒ22）Ｒ23で置換されていてもよく；Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25及びＲ26は、同一又は異なってよく、水素又はＣ1-6アルキルであり、及び、Ｃ1-100アルキル又はＣ2-30アルケニルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−、−ＮＨ−及び／又はフェニレンで置換してよく、及びＣ3-8シクロアルキルの１個のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい。
より好ましくは、Ａは、Ｃ（Ｏ）ＯＲ5［式中、Ｒ5は、Ｃ1-100アルキルであり、ここでＣ1-100アルキルは、１つ以上のＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ21）＝Ｃ（Ｒ22）Ｒ23で置換され、Ｃ1-100アルキルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい］である。
式１の好ましいエチレン性不飽和化合物の例としては、エチレングリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、グリセロールエトキシレートトリアクリレート、グリセロールプロポキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート、トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート、ペンタエリスリトールプロポキシレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールプロポキシレートテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（９）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（１５）トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールエトキシレートジアクリレート、ネオペンチルグリコールプロポキシレートジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジメタクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレートがある。
これらの化合物は、例えばＳａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙから市販されている。或いは、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート及びポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレートは、例えば、ポリエチレングリコール（６００）をそれぞれメチルアクリレート及びメチルメタクリレートと反応させることによって製造することが可能である。
最も好ましくは、Ａは、Ｃ（Ｏ）ＯＲ5［式中、Ｒ5は、Ｃ30-60アルキルであり、ここでＣ30-60アルキルは、分岐鎖又は非分岐鎖であってもよく、１つ以上のＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ21）＝Ｃ（Ｒ22）Ｒ23で置換され、Ｃ30-60アルキルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい］である。
式１の特に好ましいエチレン性不飽和化合物の例としては、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート及びポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレート、エトキシ化（９）トリメチロールプロパントリアクリレート及びエトキシ化（１５）トリメチロールプロパントリアクリレートがある。ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレートは、式１の最も好ましい化合物である。
また、前記１種以上のエチレン性不飽和化合物は、アリル基、例えばジアリルフタレート、トリアリルホスフェート及びトリアリルイソシアヌレートであってもよい。
また、前記１種以上のエチレン性不飽和化合物は、少なくとも５個のモノマー単位を有するポリマーを形成し得るマクロモノマーであってもよく、そのマクロモノマーは、１’０００〜１’０００’０００’０００ｇ／モルの範囲の分子量を有し、且つ、エチレン性不飽和基を有する側鎖を有する。この種のマクロモノマーの例としては、（メタ）アクリロイル修飾ポリビニルアルコール、（メタ）アクリロイル修飾部分加水分解ポリビニルアセテート、（メタ）アクリロイル修飾メチルビニルエーテル−無水マレイン酸コポリマー、（メタ）アクリロイル修飾メチルイソプロピレン−無水マレイン酸コポリマー、（メタ）アクリロイル修飾ポリウレタン、（メタ）アクリロイル修飾セルロースがある。
前記１種以上のエチレン性不飽和化合物は、好ましくは式１の化合物である。
好ましくは、前記組成物は、溶媒を含むこともできる。
前記溶媒は、水、有機溶媒又はそれらの混合物であってよい。
有機溶媒の例としては、Ｃ1-4アルカノール、Ｃ2-4ポリオール、Ｃ3-6ケトン、Ｃ4-6エーテル、Ｃ2-3ニトリル、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、スルホランがあり、それによってＣ1-4アルカノール及びＣ2-4ポリオールはＣ1-4アルコキシで置換してよい。Ｃ1-4アルカノールの例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールがある。そのＣ1-4アルコキシ誘導体の例としては、２−エトキシエタノールや１−メトキシ−２−プロパノールがある。Ｃ2-4ポリオールの例としては、グリコールやグリセロールがある。Ｃ3-6ケトンの例としては、アセトンやメチルエチルケトンがある。Ｃ4-6エーテルの例としては、ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランがある。Ｃ2-3ニトリルの例としては、アセトニトリルがある。好ましくは、有機溶媒は、Ｃ1-4アルカノール、Ｃ2-4ポリオール、Ｃ3-6ケトン、ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトアミドから成る群から選択され、それによってＣ1-4アルカノール及びＣ2-4ポリオールはＣ1-4アルコキシで置換してよい。より好ましくは、有機溶媒はＣ1-4アルカノールである。
好ましくは、前記溶媒は、水或いは水及び有機溶媒の混合物である。
前記組成物はまた、１種以上のラジカル開始剤を含むこともできる。前記１種以上のラジカル開始剤は、２，２−アゾビスイソブチロニトリル等の熱開始剤や光重合開始剤であってよい。好ましくは、前記１種以上のラジカル開始剤は光重合開始剤である。
前記光重合開始剤は、式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｌは、水素又は
Figure 0005431304
 ［式中、Ｃ1-6アルキレンは非置換又はヒドロキシルで置換されてもよい］であってよく、及び
Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、同一又は異なってよく、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、Ｃ1-6アルキル、アリール、Ｏ−Ｃ1-6アルキル、Ｏ−アリール、Ｓ−Ｃ1-6アルキル、Ｓ−アリール又はＮＲ30Ｒ31であってよく、
ここでＲ30及びＲ31は、同一又は異なってよく、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、或いは、窒素と共に５〜７員環を形成してよく、ここで前記環のＣＨ2基は−Ｏ−で置換してよく、及びＣ1-6アルキル、Ｏ−Ｃ1-6アルキル及びＳ−Ｃ1-6アルキルは、非置換又は１つ以上のヒドロキシル、Ｃ2-30アルケニル、ＯＣ（Ｏ）Ｃ2-30アルケニル又はアリールで置換してもよく、及び
Ｘは、
Figure 0005431304
 であってよく、ここでＥ及びＧは、−Ｏ−、−Ｓ−又はＮＲ40であってよく、ここでＲ40は水素又はＣ1-6アルキルであってよく、或いはＲ40、Ｒ32、Ｒ35はそれぞれ、窒素と共に５〜７員環を形成してよく、ここで前記環のＣＨ2基は、−Ｏ−、ＮＨ、ＮＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ41）Ｃ＝Ｃ（Ｒ42）Ｒ43及び／又は
Figure 0005431304
 で置換してよく；
Ｒ32、Ｒ35及びＲ39は、同一又は異なってよく、及び、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、アリール又はＣ（Ｏ）Ｒ44であってよく、
Ｒ36、Ｒ37及びＲ38は、同一又は異なってよく、及び、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｏ−Ｃ1-100アルキル、Ｓ−Ｃ1-100アルキル、ＮＲ45Ｃ1-100アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、アリール又はＣ（Ｏ）Ｒ44であってよく、ここでＲ45はＲ32と同じ意味を有してよく、Ｒ44はＲ36と同じ意味を有してよく、
Ｒ33及びＲ34は、Ｒ36と同じ意味を有してよく、更に、結合炭素原子と共に５〜７員環を形成してよく、
Ｃ1-100アルキル及びＣ2-30アルケニルは、非置換又は１つ以上のＣ3-8シクロアルキル、アリール、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシル、ＣＮ、ＣＯＯＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ46、Ｃ（Ｏ）ＯＲ47、Ｃ（Ｏ）ＮＲ48Ｒ49、ＯＲ50、ＯＣ（Ｏ）Ｒ51、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ52）＝Ｃ（Ｒ53）Ｒ54、Ｃ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ55）＝Ｃ（Ｒ56）Ｒ57、
Figure 0005431304
 で置換されていてもよく、
アリールは、非置換又は１つ以上のＣ1-4アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、ハロゲン、ヒドロキシル、ＣＮ、ＣＯＯＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ46、Ｃ（Ｏ）ＯＲ47、Ｃ（Ｏ）ＮＲ48Ｒ49、ＯＲ50、ＯＣ（Ｏ）Ｒ51、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ52）＝Ｃ（Ｒ53）Ｒ54又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ55）＝Ｃ（Ｒ56）Ｒ57で置換されていてもよく；
ここでＲ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56及びＲ57は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、
及び
Ｃ1-100アルキル又はＣ2-30アルケニルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−、−ＮＲ40−及び／又はフェニレンで置換してよく、及びＣ3-8シクロアルキルの１個のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい］のものであってよい。Ｃ1-6アルキレンの例としては、メチレン、プロピレン及びブチレンがある。
式２の光重合開始剤の例としては、ベンゾインエーテル（例えばベンゾインエチルエーテル）、ベンジルモノケタール（例えば２，２−ジエトキシ−１−フェニルエタノンや２，２−ジエトキシ−１，２−ジフェニルエタノン）、α置換アセトフェノン誘導体（例えば２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−４’−モルホリノブチロフェノン）、アシルホスフィン酸化物（例えばジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィン酸化物やフェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィン酸化物）、α−アシルオキシムエステル（例えば１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）オクタン−１，２−ジオン）、フェニルグリオキサル酸エステル（例えばジエチレングリコールジ（フェニルグリオキシレート）、トリエチレングリコールジ（フェニルグリオキシレート）、ポリエチレングリコール（１５０）ジ（フェニルグリオキシレート）、ポリエチレングリコール（３００）ジ（フェニルグリオキシレート）、ポリエチレングリコール（４００）ジ（フェニルグリオキシレート）、ポリエチレングリコール（６００）ジ（フェニルグリオキシレート））がある。
式２の好ましい化合物において、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、同一又は異なってよく、水素、ヒドロキシル、Ｃ1-6アルキル、Ｏ−Ｃ1-6アルキル、Ｓ−Ｃ1-6アルキル、Ｓ−アリール又はＮＲ30Ｒ31であってよく、ここでＲ30及びＲ31は、同一又は異なってよく、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、或いは、窒素と共に５〜７員環を形成してよく、ここで前記環のＣＨ2基は−Ｏ−で置換してよく、及びＣ1-6アルキル及びＯ−Ｃ1-6アルキルは、非置換又は１つ以上のヒドロキシル、Ｃ2-30アルケニル又はアリールで置換してもよく、及び
Ｘは、
Figure 0005431304
 であり、ここでＥ及びＧは、−Ｏ−又はＮＲ40であってよく、ここでＲ40は水素又はＣ1-6アルキルであってよく、或いはＲ40、Ｒ32、Ｒ35はそれぞれ、窒素と共に５〜７員環を形成してよく、ここで前記環のＣＨ2基は、−Ｏ−、ＮＨ、ＮＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ41）Ｃ＝Ｃ（Ｒ42）Ｒ43及び／又は
Figure 0005431304
 で置換してよく、
Ｒ32、Ｒ35及びＲ39は、同一又は異なってよく、及び、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｃ2-30アルケニル、アリール又はＣ（Ｏ）Ｒ44であってよく；
Ｒ36、Ｒ37及びＲ38は、同一又は異なってよく、及び、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｏ−Ｃ1-100アルキル又はＣ（Ｏ）Ｒ44であってよく；Ｒ33及びＲ34は、Ｒ36と同じ意味を有してよく、更に、結合炭素原子と共に５〜７員環を形成してよく、Ｒ44はＲ36と同じ意味を有してよく、
Ｃ1-100アルキル及びＣ2-30アルケニルは、非置換又は１つ以上のアリール、アミノ、ヒドロキシル、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ52）＝Ｃ（Ｒ53）Ｒ54、Ｃ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ55）＝Ｃ（Ｒ56）Ｒ57、
Figure 0005431304
 で置換されていてもよく、
ここでＲ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55及びＲ56及びＲ57は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、
アリールは、非置換又は１つ以上のＣ1-4アルキルで置換されていてもよく、及び
Ｃ1-100アルキル又はＣ2-30アルケニルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−及び／又は−ＮＲ40−で置換してよい。
式２のより好ましい化合物において、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、同一又は異なってよく、水素、ヒドロキシル、Ｃ1-6アルキル、Ｏ−Ｃ1-6アルキル、Ｓ−Ｃ1-6アルキル又はＮＲ30Ｒ31であってよく、ここでＲ30及びＲ31は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、ここでＣ1-6アルキル及びＯ−Ｃ1-6アルキルは、非置換又は１つ以上のヒドロキシル、Ｃ2-30アルケニル又はアリールで置換してもよく、及び
Ｘは、
Figure 0005431304
 であり、ここでＧは、−Ｏ−又はＮＲ40であってよく、ここでＲ40は水素であってよく、或いはＲ40及びＲ35は窒素と共に５〜７員環を形成してよく、ここで前記環のＣＨ2基は、ＮＨ、ＮＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ41）Ｃ＝Ｃ（Ｒ42）Ｒ43及び／又は
Figure 0005431304
 で置換してよく、Ｒ35は、水素、Ｃ1-100アルキル又はＣ2-30アルケニルであり、ここでＣ1-100アルキル及びＣ2-30アルケニルは、非置換又は１つ以上のアミノ、ヒドロキシル、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ52）＝Ｃ（Ｒ53）Ｒ54及び／又は
Figure 0005431304
 で置換されていてもよく、
ここでＲ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ52、Ｒ53及びＲ54は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、及び
Ｃ1-100アルキル又はＣ2-30アルケニルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−及び／又は−ＮＲ40−で置換してよい。
式２の最も好ましい化合物において、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、水素又はＣ1-6アルキルであり、及び
Ｘは、
Figure 0005431304
 であり、
ここでＧは、−Ｏ−であり；Ｒ35は、Ｃ1-100アルキルであり、ここでＣ1-100アルキルは、非置換又は１つ以上の
Figure 0005431304
 で置換されていてもよく、及び
Ｃ1-100アルキルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい。
式２の特に好ましい光重合開始剤は、ジエチレングリコールジ（フェニルグリオキシレート）、トリエチレングリコールジ（フェニルグリオキシレート）、ポリエチレングリコール（１５０）ジ（フェニルグリオキシレート）、ポリエチレングリコール（３００）ジ（フェニルグリオキシレート）、ポリエチレングリコール（４００）ジ（フェニルグリオキシレート）及びポリエチレングリコール（６００）ジ（フェニルグリオキシレート）である。ポリエチレングリコール（６００）ジ（フェニルグリオキシレート）が特に好ましい。
また、前記光重合開始剤は、チタノセン、或いは共開始剤（例えば三級アミン）とのそれぞれベンゾフェノン及びチオキサントン誘導体の組み合わせであってもよい。しかし、好ましくは、前記光重合開始剤は式２の化合物である。
前記組成物は、１個以上のエチレン性不飽和基を有する１種以上の四級アンモニウム化合物を含むこともできる。通常、これらの化合物は、殺生物的活性を有する。１種以上のエチレン性不飽和基を有する四級アンモニウム化合物は、式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｒ58、Ｒ59及びＲ60は、同一又は異なってよく、及び、水素、ハロゲン又はＣ1-6アルキルであり、
Ｒ61、Ｒ62及びＲ63は、同一又は異なってよく、及び、Ｃ1-30アルキル、Ｃ2-30アルケニル、Ｃ3-8シクロアルキル、アリールであるか、或いはＲ61及びＲ62は、アンモニウム基のＮと共に４〜８員環を形成し、ここで前記環の１個のＣＨ2基は、ＮＨ又はＯで置換してよく、
Ｑ及びＹは、同一又は異なってよく、及び、Ｃ1-15アルキレンであり、
Ｍは架橋基であり、
ｎ及びｍは、同一又は異なってよく、及び、０又は１であり、
Ｊ-はアニオンであり、
ここでＣ1-30アルキル、Ｃ2-30アルケニル、Ｃ3-8シクロアルキル又はＣ1-15アルキレンは、非置換又は１つ以上のアリール、ＯＣ2-6アルケニル、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ64、Ｃ（Ｏ）ＮＲ65Ｒ66、ＯＲ67、ＮＲ68Ｒ69、ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ70）＝Ｃ（Ｒ71）Ｒ72、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ73）＝Ｃ（Ｒ74）Ｒ75又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ76）＝Ｃ（Ｒ77）Ｒ78で置換されてもよく；
ここでアリールは、非置換又は１つ以上のＣ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニル、ＯＣ2-6アルケニル、ハロゲン、ＣＮ、Ｃ（Ｏ）ＯＲ64、Ｃ（Ｏ）ＮＲ65Ｒ66、ＯＲ67、ＮＲ68Ｒ69、ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ70）＝Ｃ（Ｒ71）Ｒ72、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ73）＝Ｃ（Ｒ74）Ｒ75又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ76）＝Ｃ（Ｒ77）Ｒ78で置換されてもよく；
Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73、Ｒ74、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77及びＲ78は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、
及びＣ1-15アルキレンの１個以上のＣＨ2基は、Ｎ−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ2、ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ2、ＮＨ及び／又はＯで置換してよい］のものであってよい。
Ｃ1-30アルキルは、分岐鎖又は非分岐鎖であってもよい。Ｃ1-30アルキルの例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル、ヘンエイコシル、ドコシル、テトラコシル、トリアコンチルがある。
Ｃ1-15アルキレンの例としては、メチレン、プロピレン、ブチレンがある。
架橋基Ｍの例としては、Ｃ3-8シクロアルキレン、アリーレン、ポリマー、ＯＣ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）Ｏ、ＮＨ（ＣＯ）、Ｃ（Ｏ）ＮＨがある。アリーレンは、フェニレンであってよい。ポリマーの例としては、ポリエチレンイミンがある。
Ｊ-は、任意のアニオン、例えばサルフェート、サルファイト、カーボネート、ホスフェート又はハロゲン化物であってよい。ハロゲン化物は、フッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であってよい。
１種以上のエチレン性不飽和基を有する四級アンモニウム化合物の例としては、トリメチルアミノエチルアクリレートクロライド、トリメチルアミノエチルメタクリレートクロライド、トリメチルアミノテトラデシルアクリレートクロライド、トリメチルアミノヘキサデシルアクリレートクロライド、トリメチルアミノオクタデシルアクリレートクロライド及びジアリルジメチルアンモニウムクロリド、並びに式
Figure 0005431304
 の化合物がある。
より好ましい、１種以上のエチレン性不飽和基を有する四級アンモニウム化合物は、式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｒ58、Ｒ59及びＲ60は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、
Ｒ61、Ｒ62及びＲ63は、同一又は異なってよく、及び、Ｃ1-30アルキル又はＣ2-30アルケニルであり、
Ｑ及びＹは、同一又は異なってよく、及び、Ｃ1-15アルキレンであり、
Ｍは、アリーレン、ポリマー、ＯＣ（Ｏ）及びＣ（Ｏ）Ｏから成る群から選択される架橋基であり、
ｎ及びｍは、同一又は異なってよく、及び、０又は１であり、
Ｊ-はハロゲン化物であり、
ここでＣ1-30アルキル、Ｃ2-30アルケニル又はＣ1-15アルキレンは、非置換又は１つ以上のＯＣ2-6アルケニル、Ｃ（Ｏ）ＯＲ64、Ｃ（Ｏ）ＮＲ65Ｒ66、ＯＲ67、ＮＲ68Ｒ69、ＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ70）＝Ｃ（Ｒ71）Ｒ72、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ73）＝Ｃ（Ｒ74）Ｒ75又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ76）＝Ｃ（Ｒ77）Ｒ78で置換されてもよく、
ここでＲ64、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73、Ｒ74、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77及びＲ78は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、
及びＣ1-15アルキレンの１個以上のＣＨ2基は、Ｎ−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ2、ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ2、ＮＨ及び／又はＯで置換してよい］のものである。
最も好ましい、１種以上のエチレン性不飽和基を有する四級アンモニウム化合物は、式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｒ58、Ｒ59及びＲ60は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、
Ｒ61、Ｒ62及びＲ63は、同一又は異なってよく、及び、Ｃ1-30アルキルであり、
Ｑ及びＹは、同一又は異なってよく、及び、Ｃ1-6アルキレンであり、
Ｍは、ポリマー及びＯＣ（Ｏ）から成る群から選択される架橋基であり、
ｎ及びｍは、同一又は異なってよく、及び、０又は１であり、
Ｊ-はハロゲン化物であり、
ここでＣ1-30アルキル又はＣ1-6アルキレンは、非置換又は１つ以上のＯＲ67で置換されてもよく、Ｒ67は、水素又はＣ1-6アルキルであり、
及びＣ1-6アルキレンの１個以上のＣＨ2基は、Ｎ−ＣＨ2−ＣＨ＝ＣＨ2で置換してよい］のものである。
Ｃ1-6アルキレンの例としては、メチレン、プロピレン、ブチレンがある。
化合物３Ａ及び３Ｂは、特に好ましい、１種以上のエチレン性不飽和基を有する四級アンモニウム化合物である。
化合物３Ａは、Ｎ−３−クロロ−２−ヒドロキシ−プロピル−Ｎ−ラウリル−ジメチルアンモニウムクロライド及び臭化アリルとポリエチレンイミンを反応させることによって製造することが可能である。化合物３Ｂは、Ｓ．Ｍ．Ｈａｍｉｄ ａｎｄ Ｄ．Ｃ．Ｓｈｅｒｒｉｎｇｔｏｎ、Ｐｏｌｙｍｅｒ１９８７，２８，３２５−３３１に記載のようにドデシルブロマイドとＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレートを反応させることによって製造することが可能である。
前記組成物は、更なる成分（例えば殺生物剤、界面活性剤、消泡剤）を含むこともできる。
殺生物剤の例としては、例えば商品名Ｃｉｂａ（登録商標）Ｉｒｇａｓａｎ（登録商標）ＤＰ３００で販売されている５−クロロ−２−（２，４−ジクロロフェノキシ）フェノール、商品名Ｃｉｂａ（登録商標）Ｉｒｇａｒｏｌ（登録商標）１０５１で販売されているＮ’−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−シクロプロピル−６−（メチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２，４−ジアミン、商品名Ｃｉｂａ（登録商標）Ｉｒｇａｇｕａｒｄ（登録商標）Ｆ３０００で販売されている２−チアゾール−４−イル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール、クロルヘキシジン、没食子酸、ムコブロム酸、イタコン酸、商品名Ｍａｇｕａｒｄ（商標）ｌ−１００で販売されている３−ヨード−２−プロピニルブチルカルバメートがある。
界面活性剤の例としては、アニオン界面活性剤（例えばドデシル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウム）、カチオン界面活性剤（例えば臭化セチルトリメチルアンモニウムや塩化セチルピリジニウム）、両性界面活性剤（例えばドデシルベタイン）、非イオン性界面活性剤（例えば、ポリ（エチレンオキシド）やポリ（プロピレンオキシド）のコポリマー）がある。
消泡剤の例としては、商品名Ｃｉｂａ（登録商標）ＥＦＫＡ（登録商標）２５２６で販売されている消泡剤等の鉱油製造品や、商品名Ｃｉｂａ（登録商標）ＥＦＫＡ（登録商標）２５５０で販売されている消泡剤等のポリエーテル官能性ポリシロキサンがある。
前記組成物は、前記組成物の質量に対して０．００１〜１００質量％の１種以上のエチレン性不飽和化合物を含むことができる。好ましくは、それは、０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％の１種以上のエチレン性不飽和化合物を含む。
前記組成物は、前記組成物の質量に対して０〜９９．９９９質量％の溶媒を含むことができる。好ましくは、それは１０〜９９．９質量％、より好ましくは８０〜９９質量％の溶媒を含む。
前記組成物は、前記組成物の質量に対して０〜５０質量％の１種以上のラジカル開始剤を含むことができる。好ましくは、それは、０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％の１種以上のラジカル開始剤を含む。
前記組成物は、前記組成物の質量に対して０〜５０質量％の、１種以上のエチレン性不飽和基を有する１種以上の四級アンモニウム化合物を含むことができる。好ましくは、それは、０．００１〜１０質量％、より好ましくは０．０１〜５質量％の四級アンモニウム化合物を含む。
前記組成物は、前記組成物の質量に対して０〜５０質量％の更なる成分を含むことができる。好ましくは、それは、０．００１〜１０質量％、より好ましくは０．０１〜５質量％の更なる成分を含む。
好ましくは、１種以上のエチレン性不飽和化合物／溶媒の質量比は、０．０１／１００〜５０／１００、より好ましくは、０．１／１００〜２０／１００、最も好ましくは０．５／１００〜１０／１００の範囲である。
好ましくは、１種以上のエチレン性不飽和化合物／１種以上のラジカル開始剤のモル比は、１００／１〜１／１００、好ましくは１０／〜１／１０、より好ましくは２／１〜１／２の範囲である。最も好ましくは、１種以上のエチレン性不飽和化合物及び１種以上のラジカル開始剤は、ほとんど等モル量で用いられる。
前記組成物は、溶液、乳濁液又は分散液であってよい。好ましくは、前記組成物は溶液である。前記組成物は、例えば、ワイヤバーを用いて、或いは、浸漬、スプレー又はスピン被覆によって塗布することが可能である。
組成物の硬化は、１種以上のエチレン性不飽和化合物と、重合可能で、且つ、必要に応じて前記組成物中に存在する他の成分、例えば１種以上のエチレン性不飽和基を有する四級アンモニウム化合物との重合によって達成され得る。
十分なラジカルが基材の酸化表面に存在する場合、１種以上のエチレン性不飽和化合物は、いずれの更なる処理を行うことなく塗布後に重合することが可能である。しかし、通常、重合は、熱、電子ビーム又は電磁放射による処理によって開始される。電磁放射の例としては、Ｘ線、ガンマ線、紫外線放射、赤外線放射、可視光、マイクロ波がある。好ましくは、重合は、電磁放射による処理によって、より好ましくは紫外線放射による処理によって開始される。通常、紫外線放射は、６０〜３００ワット／ｃｍ及びベルト速度１〜１０００ｍ／分、好ましくは１０〜２００ｍ／分で行われる。
好ましくは、重合は、ほんの極微量の酸素を含有する不活性ガス雰囲気下で行われる。不活性ガスの例としては、窒素、アルゴン、二酸化炭素、ヘリウムがある。好ましくは、不活性ガス雰囲気中に存在する酸素の量は、１０００体積ｐｐｍ未満、より好ましくは、それは５００体積ｐｐｍ未満、最も好ましくは、それは１５０体積ｐｐｍ未満である。
硬化被膜層は、０．１〜１００μｍ、好ましくは１〜５０μｍの厚みを有することができる。
殺生物剤は、例えば表面の酸化前（ステップ（ｉ）の前）、表面の酸化後、且つ、エチレン性不飽和化合物を含む組成物の塗布前（ステップ（ｉ）の後、且つ、ステップ（ｉｉ）の前）、前記組成物の塗布後、且つ、硬化前（ステップ（ｉｉ）の後で、ステップ（ｉｉｉ）の前）、又は前記組成物の硬化後（ステップ（ｉｉｉ）の後）に、基材の表面に塗布することが可能である。
基材は、本発明の方法により形成された被膜層の前又は後に基材に塗布することができる更なる被膜層で被覆してよい。
また、本発明の一部は基材を被覆する方法であって、その方法は、以下のステップ
（ｉ）基材の表面を酸化するステップ
（ｉｉ）式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｒ79、Ｒ80及びＲ81は、同一又は異なってよく、及び、水素、ハロゲン又はＣ1-6アルキルであり、Ｙは、Ｃ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキル、Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣ30-100アルキル又はＯ−Ｃ30-100アルキルであり、ここでＣ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキル、Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣ30-100アルキル又はＯ−Ｃ30-100アルキルは、非置換又は１つ以上のＯＣ2-30アルケニル、ＯＲ82、ＮＲ83Ｒ84、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ85）Ｃ＝Ｃ（Ｒ86）Ｒ87及び／又はＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ88）Ｃ＝Ｃ（Ｒ89）Ｒ90で置換されてもよく、ここでＲ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89及びＲ90は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、ここでＣ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキル、Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣ30-100アルキル又はＯ−Ｃ30-100アルキルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−及び／又は−ＮＨ−で置換してよい］の１種以上のエチレン性不飽和化合物を含む組成物を、基材の酸化表面に塗布するステップ、及び
（ｉｉｉ）前記組成物を硬化させて、被膜層を形成させるステップ、を含む。
Ｃ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキル、Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣ30-100アルキル及びＯ−Ｃ30-100アルキル中のＣ30-100アルキルは、分岐鎖又は非分岐鎖であってもよい。
式１Ａの好ましいエチレン性不飽和化合物の例としては、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレートやポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレートがある。
式１Ａの好ましい化合物において、Ｒ79、Ｒ80及びＲ81は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、ＹはＣ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキルであり、そのＣ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキルは、非置換又は１つ以上のＯＣ2-30アルケニル、ＯＲ82、ＮＲ83Ｒ84、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ85）Ｃ＝Ｃ（Ｒ86）Ｒ87及び／又はＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ88）Ｃ＝Ｃ（Ｒ89）Ｒ90で置換されてもよく、ここでＲ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89及びＲ90は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、ここでＣ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−及び／又は−ＮＨ−で置換してよい。
式１Ａのより好ましい化合物において、Ｒ79、Ｒ80及びＲ81は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、ＹはＣ（Ｏ）−ＯＣ30-60アルキルであり、そのＣ（Ｏ）−ＯＣ30-60アルキルは、非置換又は１つ以上のＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ85）Ｃ＝Ｃ（Ｒ86）Ｒ87で置換されてもよく、ここでＣ（Ｏ）−ＯＣ30-60アルキルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい。
Ｃ（Ｏ）−ＯＣ30-60アルキルにおけるＣ30-60アルキルは、分岐鎖又は非分岐鎖であってもよい。
式１Ａの特に好ましい化合物は、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート及びポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレートである。
基材の定義は、上記で定義された通りである。表面の酸化、組成物の塗布、及び組成物の硬化は、上記で定義された通りである。
また、本発明の一部は、後の方法によって得ることができる基材である。
また、本発明の一部は、式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｒ79、Ｒ80及びＲ81は、同一又は異なってよく、及び、水素、ハロゲン又はＣ1-6アルキルであり、Ｙは、Ｃ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキル、Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣ30-100アルキル又はＯ−Ｃ30-100アルキルであり、ここでＣ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキル、Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣ30-100アルキル又はＯ−Ｃ30-100アルキルは、非置換又は１つ以上のＯＣ2-30アルケニル、ＯＲ82、ＮＲ83Ｒ84、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ85）Ｃ＝Ｃ（Ｒ86）Ｒ87及び／又はＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ88）Ｃ＝Ｃ（Ｒ89）Ｒ90で置換されてもよく、ここでＲ82、Ｒ83、Ｒ84、Ｒ85、Ｒ86、Ｒ87、Ｒ88、Ｒ89及びＲ90は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであり、ここでＣ（Ｏ）−ＯＣ30-100アルキル、Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣ30-100アルキル又はＯ−Ｃ30-100アルキルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−及び／又は−ＮＨ−で置換してよい］の１種以上のエチレン性不飽和化合物と、式
Figure 0005431304
 ［式中、
Ｌは、水素又は
Figure 0005431304
 ［式中、Ｃ1-6アルキレンは非置換又はヒドロキシルで置換されてもよい］であってよく、及び
Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は、同一又は異なってよく、水素、ハロゲン、ヒドロキシル、Ｃ1-6アルキル、アリール、Ｏ−Ｃ1-6アルキル、Ｏ−アリール、Ｓ−Ｃ1-6アルキル、Ｓ−アリール又はＮＲ30Ｒ31であってよく、
ここでＲ30及びＲ31は、同一又は異なってよく、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、或いは、窒素と共に５〜７員環を形成してよく、ここで前記環のＣＨ2基は−Ｏ−で置換してよく、及びＣ1-6アルキル、Ｏ−Ｃ1-6アルキル及びＳ−Ｃ1-6アルキルは、非置換又は１つ以上のヒドロキシル、Ｃ2-30アルケニル、ＯＣ（Ｏ）Ｃ2-30アルケニル又はアリールで置換してもよく、及び
Ｘは、
Figure 0005431304
 であってよく、ここでＥ及びＧは、−Ｏ−、−Ｓ−又はＮＲ40であってよく、ここでＲ40は水素又はＣ1-6アルキルであってよく、或いはＲ40、Ｒ32、Ｒ35はそれぞれ、窒素と共に５〜７員環を形成してよく、ここで前記環のＣＨ2基は、−Ｏ−、ＮＨ、ＮＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ41）Ｃ＝Ｃ（Ｒ42）Ｒ43及び／又は
Figure 0005431304
 で置換してよく；
Ｒ32、Ｒ35及びＲ39は、同一又は異なってよく、及び、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、アリール又はＣ（Ｏ）Ｒ44であってよく、
Ｒ36、Ｒ37及びＲ38は、同一又は異なってよく、及び、水素、Ｃ1-100アルキル、Ｏ−Ｃ1-100アルキル、Ｓ−Ｃ1-100アルキル、ＮＲ45Ｃ1-100アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、アリール又はＣ（Ｏ）Ｒ44であってよく、ここでＲ45はＲ32と同じ意味を有してよく、Ｒ44はＲ36と同じ意味を有してよく、
Ｒ33及びＲ34は、Ｒ36と同じ意味を有してよく、更に、結合炭素原子と共に５〜７員環を形成してよく、
Ｃ1-100アルキル及びＣ2-30アルケニルは、非置換又は１つ以上のＣ3-8シクロアルキル、アリール、ハロゲン、アミノ、ヒドロキシル、ＣＮ、ＣＯＯＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ46、Ｃ（Ｏ）ＯＲ47、Ｃ（Ｏ）ＮＲ48Ｒ49、ＯＲ50、ＯＣ（Ｏ）Ｒ51、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ52）＝Ｃ（Ｒ53）Ｒ54、Ｃ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ55）＝Ｃ（Ｒ56）Ｒ57、
Figure 0005431304
 で置換されていてもよく、
アリールは、非置換又は１つ以上のＣ1-4アルキル、Ｃ3-8シクロアルキル、Ｃ2-30アルケニル、ハロゲン、ヒドロキシル、ＣＮ、ＣＯＯＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ46、Ｃ（Ｏ）ＯＲ47、Ｃ（Ｏ）ＮＲ48Ｒ49、ＯＲ50、ＯＣ（Ｏ）Ｒ51、ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ52）＝Ｃ（Ｒ53）Ｒ54又はＣ（Ｏ）ＯＣ（Ｒ55）＝Ｃ（Ｒ56）Ｒ57で置換されていてもよく；
ここでＲ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48、Ｒ49、Ｒ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56及びＲ57は、同一又は異なってよく、及び、水素又はＣ1-6アルキルであってよく、
及び
Ｃ1-100アルキル又はＣ2-30アルケニルの１個以上のＣＨ2基は、−Ｏ−、−ＮＲ40−及び／又はフェニレンで置換してよく、及びＣ3-8シクロアルキルの１個のＣＨ2基は、−Ｏ−で置換してよい］の１種以上のラジカル光重合開始剤との混合物である。
式１Ａのエチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤２に対する上記の好ましさは、ここでもまた当てはまる。
本発明の方法は、生物学的材料の低下された付着性を付与する被膜層で被覆された基材を提供するという利点がある。これらの被覆基板によって、生物学的材料に対する耐性が増加し、従って、重金属に基づく可能性があり、且つ、毒性が高い可能性もある殺生物剤による更なる処理は時代遅れのものとなる。本発明の方法の別の利点は、大量連続方法での既存のプリント装置における生物学的材料への付着が抑制された被膜で、基材を容易に被覆することが可能であるということである。
実施例
実施例１
ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙによって供給された５０μｍ幅の二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）フィルムの両面に対して、ＢＯＰＰフィルムまで０．８ｍｍ離れた１個のセラミック電極を用いて、３ｍ／分のベルト速度で１×６００Ｗのコロナ放電でコロナ前処理を行う。次いで、イソプロパノールにおけるＳａｒｔｏｍｅｒ ＣｏｍｐａｎｙによりＳＲ−６１０として販売されているポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート（１Ｂ）の１質量％溶液を、４μｍワイヤバーを用いてＢＯＰＰフィルムの両面に塗布する。イソプロパノールが蒸発するまで、処理ＢＯＰＰフィルムを保存する。５０ｍ／分のベルト速度で１２０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサと二色性反射器とを使用して、約５００ｐｐｍの酸素を含有する窒素雰囲気下で乾燥処理ＢＯＰＰフィルムに照射を行う。
Figure 0005431304
実施例２
１Ｂの１質量％の溶液の代わりに、ＷＯ０６／０６７０６１の実施例３に記載のように製造した１Ｂとポリエチレングリコール（６００）ジ（フェニルグリオキシレート）（２Ａ）との等モルの混合物の１質量％溶液を用いること以外は、実施例１の方法を繰り返す。
Figure 0005431304
実施例３
４μｍのワイヤバーの代わりに、１２μｍのワイヤバーを用いること以外は、実施例２の方法を繰り返す。
実施例４
１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の１質量％溶液の代わりに、イソプロパノールにおける、１Ｂ及び２Ａの９０質量％の等モル混合物（１Ｂ、２Ａ及び３Ａの全質量に対する）と、１０質量％の殺生物剤３Ａ（１Ｂ、２Ａ及び３Ａの全質量に対する）との１質量％溶液を用いること以外は、実施例２の方法を繰り返す。
Figure 0005431304
化合物３Ａを、以下のように製造する。ポリエチレンイミン（５ｇ）の溶液に、エタノール（６０ｇ）におけるＮ−３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ−ラウリル−ジメチルアンモニウムクロリド（１０．３５ｇ）及び水酸化カリウム（１．７１ｇ）を添加し、窒素下で、混合物を８０℃で２９時間加熱する。臭化アリル（５．６３ｇ）及び水酸化カリウム（２．６ｇ）を添加し、混合物を還流下で６時間撹拌する。反応混合物を冷却し、濾過し、濃縮して、不透明な淡黄色のシロップを得る。２２時間にわたる真空乾燥後、８．６ｇの化合物３Ａを得る。ポリアミン部分、ドデシル部分及びアリル部分は、ＮＭＲにより同定する。各ドデシル部分につき約１個のアリル部分が存在し、存在する各９個のエチレンアミノ部分につき、約１個のドデシル部分及び１個のアリル部分が存在する。
実施例５
１Ｂ及び２Ａの９０質量％の等モル混合物（１Ｂ、２Ａ及び３Ａの全質量に対する）と、１０質量％の３Ａ（１Ｂ、２Ａ及び３Ａの全質量に対する）との１質量％溶液の代わりに、イソプロパノールにおける、１Ｂ及び２Ａの９０質量％の等モル混合物（１Ｂ、２Ａ及び３Ｂの全質量に対する）と、１０質量％の３Ｂ（１Ｂ、２Ａ及び３Ｂの全質量に対する）との１質量％の溶液を用いること以外は、実施例４の方法を繰り返す。３Ｂを、Ｓ．Ｍ．Ｈａｍｉｄ ａｎｄ Ｄ．Ｃ．Ｓｈｅｒｒｉｎｇｔｏｎ，Ｐｏｌｙｍｅｒ１９８７，２８，３２５−３３１に記載のように製造する。
Figure 0005431304
Figure 0005431304
実施例６
ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙによって供給された５０μｍ幅の二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）フィルムの両面に対して、ＢＯＰＰフィルムまで１．５ｍｍ離れた２個のセラミック電極（１５’０００Ｖ、５００ｍＡ、１０〜４０ｋＨｚ）を用いて、５０ｍ／分のベルト速度で３×７００Ｗのコロナ放電でコロナ前処理を行う。次いで、イソプロパノールにおける１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の１質量％溶液を、４μｍの大きなワイヤバーを用いてＢＯＰＰフィルムの両面に塗布する。イソプロパノールが蒸発するまで、処理ＢＯＰＰフィルムを保存する。５０ｍ／分のベルト速度で８０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサと二色性反射器とを使用して、約５００ｐｐｍの酸素を含有する窒素雰囲気下で乾燥処理ＢＯＰＰフィルムに照射を行う。
実施例７
８０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサの代わりに、１２０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサを用いること以外は、実施例６の方法を繰り返す。
実施例８
１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の１質量％溶液の代わりに、１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の１０質量％溶液を用いること以外は、実施例６の方法を繰り返す。
実施例９
８０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサの代わりに、１２０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサを用いること以外は、実施例８の方法を繰り返す。
実施例１０
８０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサの代わりに、２００Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサを用いること以外は、実施例８の方法を繰り返す。
実施例１１
ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙによって供給された５０μｍ幅の二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）フィルムの両面に対して、ＢＯＰＰフィルムまで１．５ｍｍ離れた２個のセラミック電極（１５’０００Ｖ、５００ｍＡ、１０〜４０ｋＨｚ）を用いて、５０ｍ／分のベルト速度で３×７００Ｗのコロナ放電でコロナ前処理を行う。次いで、イソプロパノールにおける１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の１質量％溶液を、スプレーボトルを用いるスプレーによりＢＯＰＰフィルムの両面に塗布する。イソプロパノールが蒸発するまで、処理ＢＯＰＰフィルムを保存する。５０ｍ／分のベルト速度で１２０Ｗ／ｃｍの出力を有する中圧水銀ランプを有するＵＶプロセッサと二色性反射器とを使用して、約７０〜８０ｐｐｍの酸素を含有する窒素雰囲気下で乾燥処理ＢＯＰＰフィルムに照射を行う。
実施例１２
スプレーの代わりに浸漬によって１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の１質量％溶液を塗布すること以外は、実施例１１の方法を繰り返す。
実施例１３
１質量％溶液の代わりに、イソプロパノールにおける１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の３質量％溶液を用いること以外は、実施例１１の方法を繰り返す。
実施例１４
１質量％溶液の代わりに、イソプロパノールにおける１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の３質量％溶液を用いること以外は、実施例１２の方法を繰り返す。
実施例１５
１質量％溶液の代わりに、イソプロパノールにおける１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の６質量％溶液を用いること以外は、実施例１１の方法を繰り返す。
実施例１６
１質量％溶液の代わりに、イソプロパノールにおける１Ｂ及び２Ａの等モル混合物の６質量％溶液を用いること以外は、実施例１２の方法を繰り返す。
実施例１〜１６の処理ＢＯＰＰフィルム上の細菌細胞の付着率の試験
実施例１〜１６において得られた処理ＢＯＰＰフィルムの一方の面を、粘着テープによってガラススライドに取り付ける。処理ＢＯＰＰフィルムの反対面上に、ポリマーガスケットを配置する。１００μＬのＨＥＰＥＳ緩衝液（１５０ｍＭ、ｐＨ＝７．４）と、次いで約１０9細胞／ｍＬの大腸菌Ｋ１２（Ｐｒｏｆｅｓｓｏｒ Ｓｏｋｕｒｅｎｋｏ、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ，Ｓｅａｔｔｌｅ，ＷＡ９８１９５，ＵＳＡから得られる）を含有する４００μＬの溶液とを、ガスケットに添加する。３７℃で２０分間インキュベーションを行った後、処理ＢＯＰＰフィルムに付着していない細菌細胞を、ＨＥＰＥＳ緩衝液（１０×３００μＬ）で洗い流す。ＢＯＰＰフィルムを投影し、処理ＢＯＰＰフィルムの表面に付着した細菌細胞の数を計数する。
また、未処理のＢＯＰＰフィルム（比較例１）、ＢＯＰＰフィルムまで０．８ｍｍ離れた１個のセラミック電極を用いて、３ｍ／分のベルト速度で１×６００Ｗのコロナ放電でコロナ前処理されたＢＯＰＰフィルム（比較例２）、ＢＯＰＰフィルムまで１．５ｍｍ離れた２個のセラミック電極を用いて、５０ｍ／分のベルト速度で３×７００Ｗのコロナ放電でコロナ前処理されたＢＯＰＰフィルム（比較例３）で、それぞれ同じ手順を繰り返す。未処理のＢＯＰＰフィルムに付着した細菌細胞の数は、細菌細胞の付着率１００％に相当する。下記の第１表に結果をまとめる。
Figure 0005431304
 第１表
また、シリーズＣのＢＯＰＰフィルムを、ａ）蒸留水中に３週間、ｂ）２００７年２月、投影前の３週間、Ｆｒｉｃｋ／Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄにおいて庭で（太陽、風、雨等の外的条件に曝露して）保存する。
下記の第２表に結果をまとめる。
Figure 0005431304
 第２表 a決定されず
実施例１７
Ｋｌｏｅｃｋｎｅｒ Ｐｅｎｔａｐｌａｓｔ ＧＭＢＨによって供給されている２５０μｍ幅のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）箔を、Ｏ2プラズマで１０秒間処理する。次いで、イソプロパノールにおける、Ｓａｒｔｏｍｅｒ ＣｏｍｐａｎｙによりＳＲ−６１０として販売されているポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート（１Ｂ）と、ＷＯ０６／０６７０６１の実施例３に記載のように製造したポリエチレングリコール（６００）ジ（フェニルグリオキシレート）（２Ａ）との６０／４０（モル／モル）の混合物の３質量％溶液を、ＰＥＴ箔の一方の面に、スピン被覆（１０００ｒｐｍ）によって塗布する。イソプロパノールが蒸発するまで、処理ＰＥＴ箔を保存する。３５０Ｗ圧水銀ランプ及び３２０ｎｍフィルターを用いて、乾燥処理ＰＥＴ箔を、約２０ｐｐｍの酸素を含有する窒素雰囲気下で５分間ＵＶ照射する。得られた被膜層は、１００ｎｍの厚さを有し、水又は石鹸液で２０分間洗浄した際に安定する。
実施例１８
イソプロパノールにおける１Ｂ及び２Ａの６０／４０（モル／モル）混合液の３質量％溶液の代わりに、エタノールにおける、１Ｂと、２Ａと、Ｓａｒｔｏｍｅｒ ＣｏｍｐａｎｙによりＳａｒｔｏｍｅｒ ＣＤ−５５２として販売されている式１Ｃのモノメトキシル化メタクリレートとの２／１０／８８（モル／モル／モル）混合液の３質量％溶液を用いたこと以外は、実施例１７の方法を繰り返す。
Figure 0005431304
実施例１９
１Ｂと、２Ａと、１Ｃとの２／１０／８８（モル／モル／モル）混合液の３質量％溶液の代わりに、１Ｂと、２Ａと、１Ｃとの２／１０／８８（モル／モル／モル）混合液の６質量％溶液を用いたこと以外は、実施例１８の方法を繰り返す。
実施例１７〜１９の処理ＰＥＴ箔上の細菌細胞の付着率の試験
上記に記載される実施例１〜１６の処理ＢＯＰＰフィルムと同様にして、実施例１７〜１９の処理ＰＥＴ箔上の細菌細胞の付着率を試験する。下記の第３表に結果をまとめる。
Figure 0005431304
 第３表

Claims (8)

  1. 以下のステップ
    （ｉ）基材の表面を酸化するステップと、
    （ｉｉ）基材の酸化表面に１種以上のエチレン性不飽和化合物を含む組成物を塗布するステップと、
    （ｉｉｉ）前記組成物を硬化させて、被膜層を形成させるステップと
    を含む、基材の表面への生物学的材料の低下された付着性を付与する方法であって、
    前記１種以上のエチレン性不飽和化合物が、式
    Figure 0005431304
     ［式中、
    Ｒ 1 、Ｒ 2 及びＲ 3 は、同一又は異なっており、及び、水素又はＣ 1-6 アルキルであり、
    Ａは、Ｃ（Ｏ）ＯＲ 5 であり、ここで、
    Ｒ 5 は、Ｃ 1-100 アルキルであり、
    ここで、
    Ｃ 1-100 アルキルは、１つ以上のＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ 21 ）＝Ｃ（Ｒ 22 ）Ｒ 23 で置換されており；
    ここで
    Ｒ 21 、Ｒ 22 及びＲ 23 は、同一又は異なっており、水素又はＣ 1-6 アルキルであり、
    及び
    Ｃ 1-100 アルキルの１個以上のＣＨ 2 基は、−Ｏ−で置換してよい］のものである、
    前記方法。
  2. 前記組成物が溶媒も含む、請求項１記載の方法。
  3. 前記組成物が１種以上のラジカル開始剤も含む、請求項１または２に記載の方法。
  4. エチレン性不飽和化合物が、エチレン性不飽和基を有するナノ粒子でなくてよい場合、前記組成物がラジカル開始剤を含まない、請求項１または２に記載の方法。
  5. 前記組成物が、１種以上のエチレン性不飽和基を有する１種以上の四級アンモニウム化合物も含む、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
  6. 前記組成物が更なる成分も含む、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
  7. １種以上の殺生物剤が、ステップ（ｉ）の前、ステップ（ｉ）の後、且つ、ステップ（ｉｉ）の前、ステップ（ｉｉ）の後、且つ、ステップ（ｉｉｉ）の前、又はステップ（ｉｉｉ）の後に、前記基材の表面に塗布される、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
  8. 前記基材が更なる被膜層で被覆される、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2744013C (en) * 2008-11-19 2014-01-07 Munir Salomão Barrier for guided bone regeneration comprising a film of polypropylene
US20150274891A1 (en) 2012-12-17 2015-10-01 Basf Se Membranes with improved flux and method for their preparation
WO2015061097A1 (en) * 2013-10-21 2015-04-30 Basf Se Lubricious, anti-adhesive coatings
KR102578739B1 (ko) * 2018-12-20 2023-09-13 주식회사 엘지화학 신규한 화합물, 이를 포함하는 항균제, 및 항균성 고분자 코팅 조성물
CN109912829A (zh) * 2019-02-15 2019-06-21 美瑞新材料股份有限公司 一种表带材料耐脏污的处理方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5804263A (en) * 1990-10-24 1998-09-08 University Of Florida Research Foundation, Inc. Combined plasma and gamma radiation polymerization method for modifying surfaces
JPH05269181A (ja) 1991-09-24 1993-10-19 Seiko Epson Corp 抗菌性樹脂成形体及びその製造方法
TW228529B (ja) * 1992-12-23 1994-08-21 Ciba Geigy
KR20020079840A (ko) * 2000-02-08 2002-10-19 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 플라즈마-활성화된 그라프팅에 의한 강한 접착성표면-피복물의 제조방법
JP2001337298A (ja) * 2000-03-21 2001-12-07 Menicon Co Ltd 親水性表面を有する眼用レンズ材料およびその製法
WO2005014874A1 (en) * 2003-08-04 2005-02-17 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for the production of strongly adherent coatings
GB0407433D0 (en) * 2004-04-01 2004-05-05 Dow Corning Substituted aminosiloxanes and polymeric products
EP1836002B1 (en) 2004-12-22 2012-08-29 Basf Se Process for the production of strongly adherent coatings
AU2006325820B2 (en) * 2005-12-12 2013-02-14 Allaccem, Inc. Methods and systems for preparing antimicrobial films and coatings
US7585919B2 (en) * 2006-09-26 2009-09-08 3M Innovative Properties Company Polymer derived from monomers with long-chain aliphatic, poly(oxyalkylene) and substrate-reactive groups

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