JP5428264B2 - 光学補償膜及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、光学補償膜、特に塗工後未延伸の状態でも光学補償機能を有する液晶表示素子用の光学補償膜及びその製造方法に関するものである。
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話からコンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。
特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償などに大きな役割を果たしている。従来の光学補償フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィン、セルロース系樹脂の延伸フィルムが用いられている。しかしながらこれらのフィルムには延伸工程が必要となること、延伸工程での位相差の均一性を求めることが困難となる、等の課題がある。また、特に大面積のフィルムにおいては、延伸により発現する位相差の制御を行うことがよりいっそう困難となる。
この延伸による課題を解決する方法として、塗工(コーティング)により未延伸での光学補償機能を発現させる光学補償膜の検討がなされている。
アクロン大学のハリス及びチェンは、剛直棒状のポリイミド、ポリエステル、ポリアミド、ポリ(アミド−イミド)、ポリ(エステル−イミド)よりなる光学補償膜を提案しており(例えば特許文献1,2参照。)、これらの材料は、自発的な分子配向性を有していることから塗工により延伸工程を経ることなく位相差を発現するという特徴がある。
更に、ポリイミドの塗工性(溶剤への溶解性)を向上したポリイミドからなる光学補償膜(例えば特許文献3参照。)、ディスコティック液晶化合物を偏光板の保護フィルムに塗工した偏光板(例えば特許文献4参照。)、等が提案されている。
また、フェニルマレイミド−イソブテン共重合体からなる延伸フィルム(例えば特許文献5参照。)が提案されている。
米国特許第5344916号公報 特表平10−508048号公報 特開2005−070745号公報 特許第2565644号公報 特開2004−269842号公報
しかし、特許文献1〜3において提案された方法で用いられるポリマーは、芳香族ポリマーであることから位相差の波長依存性が大きく、液晶表示素子の光学補償膜として用いた場合に色ずれなど画質低下の課題を有するものであった。
また、特許文献4に提案されているディスコティック液晶化合物を用いる方法は、液晶化合物を均一に配向させることが必要となり塗工プロセスが煩雑化する、配向ムラが大きい等の課題を有するばかりか、該液晶化合物も芳香族化合物が主体となることから位相差の波長依存性が大きいという品質上の課題も有するものであった。
特許文献5で得られる延伸フィルムは、塗工するだけでは位相差は発現しない(nx=ny=nz)。
そこで、本発明は、光学特性に優れた光学補償膜を提供することを目的とするものであり、さらに詳しくは、より薄い塗工膜にて大きな光学補償機能を発現すると共に、その位相差の波長依存性の小さな光学補償膜を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、マレイミド系樹脂からなる塗工膜が光学補償機能を有する膜、特に液晶表示素子用の光学補償に好適な塗工型光学補償膜となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、基材上に少なくとも2層以上のマレイミド系樹脂からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の2軸をx軸、y軸とし、面外方向をz軸とし、x軸方向の屈折率をnx、y軸方向の屈折率をny、z軸方向の屈折率をnzとした際の3次元屈折率関係がnx≒ny>nzであり、各塗工膜の厚さが10μm以下において、面外複屈折ΔPが0.007以上であることを特徴とする光学補償膜に関するものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の光学補償膜に用いるマレイミド系樹脂としては、例えばN−置換マレイミド重合体樹脂、N−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等が挙げられ、該マレイミド系樹脂を構成するN−置換マレイミド残基単位としては、例えば下記一般式(1)で示されるN−置換マレイミド残基単位を挙げることができる。
Figure 0005428264
(ここで、Rは、炭素数1〜18の直鎖状アルキル基,分岐状アルキル基,環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を示す。)
一般式(1)で示されるN−置換マレイミド残基単位におけるRは、炭素数1〜18の直鎖状アルキル基,分岐状アルキル基,環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基であり、炭素数1〜18の直鎖状アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ラウリル基等が挙げられ、炭素数1〜18の分岐状アルキル基としては、例えばイソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられ、炭素数1〜18の環状アルキル基としては、例えばシクロヘキシル基が挙げられ、ハロゲン基としては、例えば塩素、臭素、フッ素、ヨウ素等があげられる。
一般式(1)で示されるN−置換マレイミド残基単位の具体的例示としては、例えばN−メチルマレイミド残基単位、N−エチルマレイミド残基単位、N−クロロエチルマレイミド残基単位、N−メトキシエチルマレイミド残基単位、N−n−プロピルマレイミド残基単位、N−イソプロピルマレイミド残基単位、N−n−ブチルマレイミド残基単位、N−イソブチルマレイミド残基単位、N−s−ブチルマレイミド残基単位、N−t−ブチルマレイミド残基単位、N−ヘキシルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−オクチルマレイミド残基単位、N−ラウリルマレイミド残基単位等の1種又は2種以上が挙げられ、特に位相差が発現しやすく、溶剤への溶解性、機械的強度に優れる光学補償膜となることから、N−n−ブチルマレイミド残基単位、N−イソブチルマレイミド残基単位、N−s−ブチルマレイミド残基単位、N−t−ブチルマレイミド残基単位、N−ヘキシルマレイミド残基単位、N−オクチルマレイミド残基単位が好ましい。
具体的なN−置換マレイミド重合体樹脂としては、例えばN−メチルマレイミド重合体樹脂、N−エチルマレイミド重合体樹脂、N−クロロエチルマレイミド重合体樹脂、N−メトキシエチルマレイミド重合体樹脂、N−n−プロピルマレイミド重合体樹脂、N−イソプロピルマレイミド重合体樹脂、N−n−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−イソブチルマレイミド重合体樹脂、N−s−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−t−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、N−シクロヘキシルマレイミド重合体樹脂、N−オクチルマレイミド重合体樹脂、N−ラウリルマレイミド重合体樹脂等を挙げることができる。
具体的なN−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂としては、例えばN−メチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−エチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−クロロエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−メトキシエチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−n−プロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−イソプロピルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−n−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−イソブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−s−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−t−ブチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−ヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−シクロヘキシルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂、N−ラウリルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等を挙げることができる。
その中でも、特に製膜時の成膜性に優れ、光学補償機能、耐熱性に優れた光学補償膜となることからN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂、N−ヘキシルマレイミド重合体樹脂、N−オクチルマレイミド重合体樹脂、N−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂が好ましい。
また、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂は、本発明の目的を逸脱しない限りにおいてN−置換マレイミド残基単位、無水マレイン酸残基単位以外の残基単位を含有するものであってもよく、該残基単位としては、例えばスチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;アクリル酸残基単位;アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位等のアクリル酸エステル残基単位;メタクリル酸残基単位;メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位等のメタクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基;アクリロニトリル残基;メタクリロニトリル残基等の1種又は2種以上を挙げることができる。
また、該マレイミド系樹脂としては、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(以下、GPCと記す。)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1×10以上のものであることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れた光学補償膜となることから2×10以上2×10以下であることが好ましい。
本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂の製造方法としては、該マレイミド系樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えばN−置換マレイミド類、無水マレイン酸、場合によってはN−置換マレイミド類と共重合可能な単量体を併用しラジカル重合あるいはラジカル共重合を行うことにより製造することができる。この際のN−置換マレイミド類としては、例えばN−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−クロロエチルマレイミド、N−メトキシエチルマレイミド、N−n−プロピルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−n−ブチルマレイミド、N−イソブチルマレイミド、N−s−ブチルマレイミド、N−t−ブチルマレイミド、N−ヘキシルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−オクチルマレイミド等の1種又は2種以上が挙げられ、共重合可能な単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類;アクリル酸;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のビニルエステル類;アクリロニトリル;メタクリロニトリル等の1種又は2種以上を挙げることができる。
また、ラジカル重合法としては、公知の重合方法で行うことが可能であり、例えば塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤が挙げられる。
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン(THF);アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水;N−メチルピロリドン等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には40〜150℃の範囲で行うことが好ましい。
本発明の光学補償膜に用いる基材としては、例えばガラス基板;トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、環状ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のフィルム等が挙げられ、その中でも透明性、強度、接着性に優れる光学補償膜となることからガラス基板、セルロース系樹脂製フィルムが好ましく、特にトリアセチルセルロースフィルムが好ましい。ここでセルロース系樹脂製フィルムとしては、可塑剤、紫外線安定剤などの添加剤の他に複屈折を制御するための複屈折向上剤などを配合したものでも良く、更には延伸配向させられたセルロース系樹脂製フィルムであっても良い。ここで用いられる可塑剤、紫外線安定剤および複屈折向上剤は公知のものを用いることができ、セルロース系樹脂製フィルムを延伸する手段としては一軸ないし二軸延伸法として公知の方法により延伸したものでよい。
本発明の光学補償膜は、基材上に少なくとも2層以上のマレイミド系樹脂からなる塗工膜であり、好ましい製造方法として、例えばガラス基板;トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、環状ポリオレフィン、PET等のフィルムにマレイミド系樹脂と溶媒からなるマレイミド系樹脂溶液を塗工し、乾燥することにより製造する方法が挙げられる。塗工方法は、マレイミド系樹脂溶液をガラス基板、あるいはフィルム上に塗工後、加熱等により溶媒を除去する方法である。その際の塗工方法としては、例えばドクターブレード法、バーコーター法、グラビアコーター法、スロットダイコーター法、リップコーター法、コンマコーター法等が用いられる。工業的には薄膜塗工はグラビアコーター法、厚膜塗工はコンマコーター法が一般的である。
使用するマイレミド樹脂としては、例えばN−置換マレイミド重合体樹脂、N−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂等が挙げられ、該マレイミド系樹脂を構成するN−置換マレイミド残基単位としては、例えば前記一般式(1)で示されるN−置換マレイミド残基単位を挙げることができる。
使用する溶剤としては、例えばトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル系溶剤;ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカン等の炭化水素系溶剤;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶剤;四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤;N−メチルピロリドン等が挙げられ、これらは2種類以上組み合わせて用いることが出来る。溶液塗工においては、より容易に高い透明性を有し、且つ厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償膜が得られることから、溶液粘度0.1〜2000cpsとすることが好ましく、特に1〜1000cpsとすることが好ましい。
塗工する際のマレイミド系樹脂からなる塗工膜の各層の厚みとしては、優れた表面平滑性、視野角改良効果に優れた光学補償膜が得られることから、それぞれ各塗工層の乾燥後の膜厚みが1〜10μmが好ましく、特に好ましくは2〜10μmである。
本発明の光学補償膜は、基材上に少なくとも2層以上のマレイミド系樹脂からなる塗工膜であって、塗工膜の面内で直交する任意の2軸をx軸、y軸とし、面外方向をz軸とし、x軸方向の屈折率をnx、y軸方向の屈折率をny、z軸方向の屈折率をnzとした際の3次元屈折率関係がnx≒ny>nzで、各塗工膜の厚さが10μm以下において、面外複屈折ΔPが0.007以上であることを特徴とする光学補償膜であり、特に光学補償膜として用いる際の光学補償機能に優れたものである。そして高分子よりなるフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御をフィルムの延伸などにより行うが、該延伸工程には製造工程や品質の管理が複雑になったりする等の課題を有する。それに反し、本発明の光学補償膜は、未延伸で膜の厚み方向の屈折率が小さくなるという特異な挙動を示すことを見出している。
また、本発明の光学補償膜の膜厚み方向の位相差量(面外位相差量)(Rth)は、該マレイミド系樹脂の塗工膜の製膜によって発現する面外複屈折ΔPとこの塗工膜の厚みにより容易に制御することが可能であり、位相差フィルムとしての適応が期待できる光学補償膜となることから、測定波長589nmの光で測定した際の下記式(2)で示される面外位相差量(Rth)が30〜2000nmの範囲にあることが好ましく、さらに30〜1000nm、特に30〜500nmであることが好ましい。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (2)
(ここで、dは光学補償膜の膜厚(nm)を示す。)
また、測定波長589nmの光で測定した際の下記式(3)で示される面外複屈折(ΔP)は0.007以上であり、好ましくは0.007〜0.5、特に好ましくは0.007〜0.03である。
ΔP=((nx+ny)/2−nz) (3)
該マレイミド系樹脂からなる塗工膜の各層の厚みは、位相差フィルムとしての適応が期待できる光学補償膜となることから10μm以下であり、1〜10μmが好ましく、特に2〜10μmが好ましい。
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に色ずれの小さい液晶表示素子となることから位相差量の波長依存性が小さいものであることが好ましく、特に塗工膜を40度傾斜させ測定波長450nmの光で測定した位相差量(R450)と測定波長589nmの光で測定した位相差量(R589)の比で示される位相差量の波長依存性(R450/R589)が1.1以下が好ましく、特に1.08以下であること好ましい。
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際に画質の特性が良好なものとなることから、JIS K 7361−1(1997年版)を準拠し測定した光学補償膜の光線透過率が85%以上であることが好ましく、特に90%以上であることが好ましい。また、JIS K 7136(2000年版)を準拠し測定した光学補償膜のヘーズ(曇り度)が2以下であることが好ましく、特に1以下であることが好ましい。
本発明の光学補償膜は、液晶表示素子に用いた際の品質の安定性から耐熱性が高いマレイミド系樹脂が好ましく、具体的には該マレイミド系樹脂のガラス転移温度が100℃以上であるものが好ましく、さらに120℃以上であるものが好ましく、特に135℃以上であるものが好ましい。
また、本発明の基材上に2層以上からなる光学補償膜の構成として、基材の片面または両面に2層以上を形成したものである。
本発明の光学補償膜は、偏光板と積層して用いることもできる。また、本発明の光学補償膜は熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていても良い。該酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤100重量部に対してリン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することが特に好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の光学補償膜を構成するマレイミド系樹脂100重量部に対して0.01〜10重量部が好ましく、特に0.5〜1重量部の範囲であることが好ましい。
さらに、紫外線吸収剤として、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエートなどの紫外線吸収剤を必要に応じて配合していてもよい。
本発明の光学補償膜は、発明の主旨を越えない範囲で、その他ポリマー、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、滑剤等が配合されたものであってもよい。
本発明の光学補償膜は、塗工するだけで光学補償機能を発現するマレイミド系樹脂からなるものであり、その光学補償機能の制御も容易であることから液晶表示素子、特にVA−モードの液晶テレビのコントラストや視角特性の改良に有効な光学補償膜として有用なものである。
以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。
〜マレイミド系樹脂の数平均分子量の測定〜
ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)(東ソー株式会社製、商品名HLC−802A)を用い、ジメチルホルムアミドを溶剤とし標準ポリスチレン換算値として求めた。
〜ガラス転移温度の測定〜
示差走査型熱量計(セイコー電子工業(株)製、商品名DSC2000)を用い、10℃/min.の昇温速度にて測定した。
〜光線透過率の測定〜
透明性の一評価として、JIS K 7361−1(1997年版)に準拠して光線透過率の測定を行った。
〜ヘーズの測定〜
透明性の一評価として、JIS K 7136(2000年版)に準拠してヘーズの測定を行った。
〜屈折率の測定〜
JIS K 7142(1981年版)に準拠してアッベ屈折率計(アタゴ製)を用いて測定した。
〜3次元屈折率の計算〜
試料傾斜型自動複屈折計(王子計測機器(株)製、商品名KOBRA−WR)を用いて仰角を変えて測定波長589nmの光で3次元屈折率を測定した。さらに、3次元屈折率より面外位相差量(Rth)を算出した。
位相差量の波長依存性(R450/R589)は、塗工膜を40度傾斜させ測定波長450nmの光で測定した位相差量(R450)と測定波長589nmの光で測定した位相差量(R589)の比で示した。
合成例1(N−n−ブチルマレイミド重合体樹脂の製造例)
ガラス封管中に、N−n−ブチルマレイミド32.4g、重合開始剤としてジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.054gを仕込み、窒素置換後、重合温度60℃、重合時間5時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し80℃にて乾燥し20gのN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は120000であった。また、ガラス転移温度は185℃であった。
合成例2(N−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の製造例)
ガラス封管中に、N−n−ヘキシルマレイミド40g、重合開始剤として、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.05gを仕込み、窒素置換後、重合温度60℃、重合時間5時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し80℃にて乾燥し32gのN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は160000であった。また、ガラス転移温度は148℃であった。
合成例3(N−n−オクチルマレイミド重合体樹脂の製造例)
ガラス封管中に、N−n−オクチルマレイミド28g、重合開始剤として、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.032gを仕込み、窒素置換後、重合温度60℃、重合時間5時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し80℃にて乾燥し15gのN−n−オクチルマレイミド重合体樹脂を得た。得られたN−n−オクチルマレイミド重合体樹脂の数平均分子量は270000であった。また、ガラス転移温度は138℃であった。
合成例4(N−n−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂の製造例)
ガラス封管中に、N−n−オクチルマレイミド26g、無水マレイン酸2.4g、重合開始剤として、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.036gを仕込み、窒素置換後、重合温度60℃、重合時間5時間の条件にてラジカル重合反応を行なった。反応後、クロロホルムを加えポリマー溶液とした後に、過剰のメタノールと混合することにより重合体を析出させた。得られた重合体を濾過後、メタノールで十分洗浄し80℃にて乾燥し19gのN−n−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂を得た。得られたN−n−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂は、無水マレイン酸残基を20重量%含有するものであり、数平均分子量は120000であった。また、ガラス転移温度は150℃であった。
実施例1
合成例1で得られたN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂を50重量%のトルエンと50重量部のメチルエチルケトンからなる混合溶剤に溶解し、10重量%の樹脂固形分溶液を調整し、フィルムコーターを用いて厚み100μmのガラス基板の両面に塗工し、室温にて24時間乾燥することでそれぞれ幅270mm、厚み4μmの塗工膜を2層形成した。得られた塗工膜フィルム(基材+塗工膜)の物性を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.5であり、3次元屈折率はnx=1.51890、ny=1.51890、nz=1.50890であり、面外複屈折ΔP=0.0100であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは80nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例2
ガラス基材の両面にそれぞれ幅270mm厚み7μmの塗工膜を2層形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.4であり、3次元屈折率はnx=1.51800、ny=1.51799、nz=1.51090であり、面外複屈折ΔP=0.00710であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは100nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例3
ガラス基材の片面に2回に分けてそれぞれ幅270mm厚み4μm、両面の合計厚み8μmの塗工膜を形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.6%、ヘーズ0.5であり、3次元屈折率はnx=1.51850、ny=1.51850、nz=1.50944であり、面外複屈折ΔP=0.00906であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.06であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは72nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例4
厚さ80μmトリアセチルセルロース樹脂フィルムの両面にそれぞれ幅270mm厚み5μmの塗工膜を2層形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.4であり、3次元屈折率はnx=1.48837、ny=1.48837、nz=1.47835であり、面外複屈折ΔP=0.01002であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは142nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例5
厚さ80μmトリアセチルセルロース樹脂フィルムの片面に2回に分けてそれぞれ幅270mm厚み5μmの塗工膜を合計2層形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.4であり、3次元屈折率はnx=1.48737、ny=1.48737、nz=1.47936であり、面外複屈折ΔP=0.00801であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは120nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例6
合成例2で得られたN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂を用い、溶剤としてクロロホルムを用いて、ガラス基材の両面にそれぞれ幅270mm厚み2μmの塗工膜を2層形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.4であり、3次元屈折率はnx=1.52280、ny=1.52278、nz=1.51481であり、面外複屈折ΔP=0.00798であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは32nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例7
合成例3で得られたN−n−オクチルマレイミド重合体樹脂を溶剤としてクロロホルムを用いて、ガラス基材の両面にそれぞれ幅270mm厚み2μmの塗工膜を2層形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.4であり、3次元屈折率はnx=1.518305、ny=1.518305、nz=1.510305であり、面外複屈折ΔP=0.00800であった。った。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは32nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例8
合成例4で得られたN−n−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂を溶剤としてクロロホルムを用いて、ガラス基材の両面にそれぞれ幅270mm厚み3μmの塗工膜を2層形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.4であり、3次元屈折率はnx=1.51882、ny=1.51883、nz=1.51181であり、面外複屈折ΔP=0.00702であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは42nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
実施例9
予め同時二軸延伸により160℃にてフィルム面内方向へそれぞれ1.25倍延伸したトリアセチルセルロース樹脂フィルムの両面にそれぞれ幅270mm厚み5μmの塗工膜を2層形成した以外は、実施例1と同様の方法により塗工膜フィルム(基材+塗工膜)を得、物性を評価した。その結果を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.4であり、3次元屈折率はnx=1.48837、ny=1.48837、nz=1.47835であり、面外複屈折ΔP=0.01002であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、面外位相差量Rthは145nmであり、波長依存性が小さいことからより薄い塗工膜にて位相差フィルムとしての光学補償の機能を有する。
比較例1
合成例1で得られたN−n−ブチルマレイミド重合体樹脂をクロロホルムに溶解し12%溶液とし、フィルムコーターによりガラス基板に塗工し、室温で24時間乾燥しガラス基板の片面に幅50mm、厚み20μmの塗工膜を1層コートしたフィルムを得た。得られた塗工膜フィルムの物性を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.6%、ヘーズ0.6であり、3次元屈折率はnx=1.51607、ny=1.51607、nz=1.50954、即ち面外複屈折ΔP=0.0065であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.06であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、また波長依存性が小さかったが、厚い膜に対して面外複屈折が小さく、位相差フィルムとしてはより厚い塗工膜が必要となる。
比較例2
合成例2で得られたN−n−ヘキシルマレイミド重合体樹脂をクロロホルムに溶解し15%溶液としフィルムコーターによりガラス基板に塗工し、室温で24時間乾燥しガラス基板の片面に幅50mm、厚み30μmの塗工膜を1層コートしたフィルムを得た。得られた塗工膜フィルムの物性を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率91.8%、ヘーズ0.7であり、3次元屈折率はnx=1.52000、ny=1.52002、nz=1.51638、即ち面外複屈折ΔP=0.00363であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、波長依存性が小さかったが、厚い膜に対して面外複屈折が小さく、位相差フィルムとしてはより厚い塗工膜が必要となる。
比較例3
合成例4で得られたN−n−オクチルマレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂をクロロホルムに溶解し16%溶液としフィルムコーターによりガラス基板に塗工し、室温で24時間乾燥しガラス基板の片面に幅50mm、厚み50μmの塗工膜を1層コートしたフィルムを得た。得られた塗工膜フィルムの物性を以下に示す。
得られた塗工膜フィルムは、光線透過率92.2%、ヘーズ0.8であり、3次元屈折率はnx=1.50680、ny=1.50680、nz=1.50422、即ち面外複屈折ΔP=0.00258であった。さらに位相差量の波長依存性を示すR450/R589は1.05であった。
これらの結果、得られた塗工膜フィルムは、nx≒ny>nzであり、波長依存性が小さかったが、厚い膜に対して面外複屈折が小さく、位相差フィルムとしてはより厚い塗工膜が必要となる。

Claims (10)

  1. 基材上に少なくとも2層以上のマレイミド系樹脂からなる塗工膜であって、当該マレイミド系樹脂がN−置換マレイミド重合体樹脂又はN−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂であり、塗工膜の面内で直交する任意の2軸をx軸、y軸とし、面外方向をz軸とし、x軸方向の屈折率をnx、y軸方向の屈折率をny、z軸方向の屈折率をnzとした際の3次元屈折率関係がnx≒ny>nzであり、各塗工膜の厚さが10μm以下において、面外複屈折ΔPが0.007以上であって、測定波長589nmの光で測定した際の下記式(2)で示される面外位相差量(Rth)が30〜2000nmの範囲内にあることを特徴とする光学補償膜。
    Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (2)
    (ここで、dは光学補償膜の膜厚(nm)を示す。)
  2. 下記一般式(1)で示されるN−置換マレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載の光学補償膜。
    Figure 0005428264
    (ここで、Rは、炭素数1〜18の直鎖状アルキル基,分岐状アルキル基,環状アルキル基、ハロゲン基、エーテル基、エステル基、アミド基を示す。)
  3. 塗工膜を40度傾斜させ、測定波長450nmの光で測定した位相差量(R450)と測定波長589nmの光で測定した位相差量(R589)の比で示される位相差量の波長依存性(R450/R589)が、1.1以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学補償膜。
  4. 塗工膜が未延伸膜であることを特徴する請求項1〜のいずれかに記載の光学補償膜。
  5. 請求項1〜のいずれかに記載の光学補償膜よりなることを特徴とする液晶表示素子用光学補償フィルム。
  6. 請求項1〜のいずれかに記載の光学補償膜とセルロース系樹脂製フィルムとの積層体であることを特徴とする光学補償フィルム。
  7. 液晶表示素子用光学補償膜フィルムであることを特徴とする請求項に記載の光学補償フィルム。
  8. 基材上にN−置換マレイミド重合体樹脂又はN−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂のマレイミド系樹脂溶液を塗工し、乾燥することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の光学補償膜を作製する光学補償膜の製造方法。
  9. マレイミド系樹脂溶液が、上記一般式(1)で示されるマレイミド残基単位よりなるマレイミド系樹脂の溶液であることを特徴とする請求項に記載の光学補償膜の製造方法。
  10. 基材上にN−置換マレイミド重合体樹脂又はN−置換マレイミド−無水マレイン酸共重合体樹脂のマレイミド系樹脂溶液を塗工し、乾燥して得られる光学補償膜が2層以上であり、塗工する基材の片面または両面に形成することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の光学補償膜を作製する光学補償膜の製造方法。
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JP2002082225A (ja) * 2000-06-29 2002-03-22 Konica Corp 光学フィルム、その製造方法、液晶表示用偏光板及び液晶表示装置
JP2002293956A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 透明フィルム
JP2002338703A (ja) * 2001-05-11 2002-11-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 透明フィルム
JP4191711B2 (ja) * 2004-09-10 2008-12-03 大日本印刷株式会社 位相差フィルムおよびその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに、表示装置
JP2008197223A (ja) * 2007-02-09 2008-08-28 Nippon Zeon Co Ltd 光学素子、偏光板、位相差板、照明装置、および液晶表示装置

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