JP5428171B2 - 研磨方法 - Google Patents
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Description
実施形態1
図1は本発明を有効に実施できる研磨装置用の研磨工具の一実施形態を示す図、図2は図1の研磨工具と研磨対象であるガラス基板との関係を示す図、図3は本発明を実施できる研磨装置の実施形態を示し、(a)は概略上面図、(b)は概略正面図および制御ブロック図を示す。
12 ワーク回転駆動機構
13 水平回転テーブル
14 ワーク保持手段
15 研磨工具
16 工具回転駆動機構
17 工具昇降機構
18 工具水平移動機構
19 水平案内手段
20 制御装置
tr 研磨軌跡
Claims (2)
- 中心に内径部が形成された円板状の研磨材を工具保持円盤の片面側に固定し、該工具保持円盤を研磨装置により回転させて該研磨材に当接する矩形状の被研磨部材の表面を研磨する研磨装置用の研磨工具において、前記円板状の研磨材は、前記内径部の内径に対する研磨材の外径の比である内外径比を10%以上、20%以下とし、前記研磨工具を用いて被研磨部材の表面を平坦に加工する研磨方法において、
前記研磨工具を単一の研磨軌跡をトレースさせ、あるいは複数の研磨軌跡をトレースさせて研磨する際、被研磨部材の中心から当該被研磨部材長手方向を0°方向としたとき、研磨軌跡の最外周軌跡の0°位置と最内周軌跡の0°位置の間隔を工具移動幅とすると、該工具移動幅が内径穴の直径よりも狭い範囲で研磨することを特徴とする研磨方法。 - 前記単一の研磨軌跡は、少なくとも対向する二辺が内側に向かって湾曲し、前記矩形状被研磨部材の四隅に向かって尖った形状としたことを特徴とする請求項1に記載の研磨方法。
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