JP5417650B2 - 表面被覆切削工具 - Google Patents
表面被覆切削工具 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5417650B2 JP5417650B2 JP2012106659A JP2012106659A JP5417650B2 JP 5417650 B2 JP5417650 B2 JP 5417650B2 JP 2012106659 A JP2012106659 A JP 2012106659A JP 2012106659 A JP2012106659 A JP 2012106659A JP 5417650 B2 JP5417650 B2 JP 5417650B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- group
- cutting tool
- coated cutting
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Description
本発明は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具に関する。
切削工具を構成する基材は、その表面保護を目的とするとともに耐摩耗性や靭性等の諸特性の更なる向上を目的として、各種の被膜でその表面を被覆することが行なわれてきた。中でも酸化アルミニウムは、高い硬度を有し耐摩耗性に特に優れる効果が発揮されるとともに、基材の表面酸化を防止する効果が期待されることから、上記基材の表面を被覆する被膜として用いる試みが古くから行なわれてきた。
一般的にＡｌ2Ｏ3は熱伝導性が悪く、断熱材料として広く用いられており、ＴｉＡｌＮ層などの窒化物の上にＡｌ2Ｏ3層を設けた構造の工具が知られている。しかしながらＡｌ2Ｏ3層は工具に用いられる他の材料に比べて靭性に劣る。酸化物層の靭性を向上することを目的として酸化物層に金属成分を添加する方法が知られている。
たとえば、特許文献１には、基体表面に周期律表のIVａ、Ｖａ、VIａ族金属の炭化物、窒化物、炭窒化物、酸化物、炭酸化物、窒酸化物及び炭窒酸化物のいずれか１種の単層皮膜又は２種以上からなる多層皮膜並びに少なくとも１層の酸化アルミニウム膜が形成され、該酸化アルミニウム膜の結晶粒界にイットリウムが含有されている酸化被膜工具が開示されている。酸化アルミニウム膜は、α型の結晶構造を有し、ＣＶＤで被膜を形成し、引張り残留応力を付与したものである。Ｙ含有量が２．５ｗｔ％を超えると固溶し始めるとあり、２．５ｗｔ％未満ではＹは結晶粒界に粒子として存在していると考えられる。しかし、ＹはＡｌ2Ｏ3結晶と反応（拡散・固溶）するため、かかる被膜に衝撃が加わると被膜が剥離するとともにチッピングや欠損を生じ靭性に劣るという問題点を有していた。
たとえば、特許文献１には、基体表面に周期律表のIVａ、Ｖａ、VIａ族金属の炭化物、窒化物、炭窒化物、酸化物、炭酸化物、窒酸化物及び炭窒酸化物のいずれか１種の単層皮膜又は２種以上からなる多層皮膜並びに少なくとも１層の酸化アルミニウム膜が形成され、該酸化アルミニウム膜の結晶粒界にイットリウムが含有されている酸化被膜工具が開示されている。酸化アルミニウム膜は、α型の結晶構造を有し、ＣＶＤで被膜を形成し、引張り残留応力を付与したものである。Ｙ含有量が２．５ｗｔ％を超えると固溶し始めるとあり、２．５ｗｔ％未満ではＹは結晶粒界に粒子として存在していると考えられる。しかし、ＹはＡｌ2Ｏ3結晶と反応（拡散・固溶）するため、かかる被膜に衝撃が加わると被膜が剥離するとともにチッピングや欠損を生じ靭性に劣るという問題点を有していた。
また、特許文献２には、基材上にα型の結晶構造の酸化アルミニウムとγ型の結晶構造の酸化アルミニウムとを混在して含む酸化アルミニウム被膜を有する表面切削工具が開示されている。該酸化アルミニウム被膜は、Ｚｒ、Ｈｆ、ＢまたはＴｉの少なくとも１種を含有することができるが、これらの元素は、酸化アルミニウム被膜を形成するＵＢＭスパッタ源に添加しているので、酸化アルミニウム結晶粒内に原子として固溶してしまうため、近年における高速切削や難削材加工などの膜への負荷が高い加工においては靭性が不十分であった。
硬質被膜層に金属粒子を含有させる方法としては、アークイオンプレーティング法がある。しかし、アークイオンプレーティング法で発生するドロップレットと呼ばれる金属粒子は粒径が約１．０μｍと非常に大きいため、ドロップレット周囲に空隙が生じる。特許文献３では、アークイオンプレーティング法で発生するドロップレットと呼ばれる金属粒子を部分的に除去することで、工具部位におけるドロップレットの面積比を制御しているが、近年における高速切削や難削材加工などの膜への負荷が高い加工においては靭性が不十分である。
本発明は、Ａｌ2Ｏ3層を設けた構造の表面被覆切削工具において、高速加工やステンレス、インコネル、チタンなどの難削材加工において、非常に優れた靭性を有する表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、Ａｌ2Ｏ3層に特定の金属粒子を含有させることにより上記課題が解決されることを見出し本発明に至った。
即ち、本発明は以下のとおりである。
（１）基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、前記被膜は、
Ａｌ2Ｏ3層を含み、
前記Ａｌ2Ｏ3層は金属粒子が分散した構造であり、
前記金属粒子は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含み、
前記金属粒子の粒子サイズは１０ｎｍ〜２５０ｎｍ
であることを特徴とする表面被覆切削工具。
（２）前記金属粒子が、Ａｌ2Ｏ3層中、Ａｌに対して０．０１〜２０．００ａｔ％含有されることを特徴とする前記（１）記載の表面被覆切削工具。
（３）前記Ａｌ2Ｏ3層が、（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3（但し、ＭｅはＡｌ 2 Ｏ 3 に固溶しており、ＭｅはＶ，Ｃｒ，Ｙ，Ｚｒ、Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂ，Ｓｉの少なくとも１種であり、ｘは０〜０．２０である。）層であることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の表面被覆切削工具。
（４）前記Ａｌ2Ｏ3層が、（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3（但し、ＭｅはＡｌ 2 Ｏ 3 に固溶しており、ＭｅはＶ，Ｃｒ，Ｙ，Ｚｒ、Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂ，Ｓｉの少なくとも１種であり、ｘ＝０．００１〜０．２０である。）層であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
（５）前記被膜が、前記（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3においてｘ＝０のＡｌ2Ｏ3層と、ｘ＝０．００１〜０．２０のＡｌ2Ｏ3層とを含むことを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の表面被覆切削工具。
（６）前記被膜は、Ａｌ2Ｏ3層以外に、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ，及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、及び硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を、少なくとも１層有することを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
（７）前記硬質被膜層は、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉから選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成されることを特徴とする前記（６）に記載の表面被覆切削工具。
（８）前記被膜は、Ａｌ2Ｏ3層以外に、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉから選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を２種以上、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして積層されてなる積層被膜を１以上有しており、該積層被膜において２種以上の各硬質被膜層が周期的に積層されてなることを特徴とする前記（６）又は（７）に記載の表面被覆切削工具。
（９）前記基材が、超硬合金、サーメット、ｃＢＮ、高速度鋼、セラミクス、またはダイヤモンド焼結体により構成されることを特徴とする前記（１）〜（８）のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
即ち、本発明は以下のとおりである。
（１）基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、前記被膜は、
Ａｌ2Ｏ3層を含み、
前記Ａｌ2Ｏ3層は金属粒子が分散した構造であり、
前記金属粒子は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含み、
前記金属粒子の粒子サイズは１０ｎｍ〜２５０ｎｍ
であることを特徴とする表面被覆切削工具。
（２）前記金属粒子が、Ａｌ2Ｏ3層中、Ａｌに対して０．０１〜２０．００ａｔ％含有されることを特徴とする前記（１）記載の表面被覆切削工具。
（３）前記Ａｌ2Ｏ3層が、（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3（但し、ＭｅはＡｌ 2 Ｏ 3 に固溶しており、ＭｅはＶ，Ｃｒ，Ｙ，Ｚｒ、Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂ，Ｓｉの少なくとも１種であり、ｘは０〜０．２０である。）層であることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の表面被覆切削工具。
（４）前記Ａｌ2Ｏ3層が、（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3（但し、ＭｅはＡｌ 2 Ｏ 3 に固溶しており、ＭｅはＶ，Ｃｒ，Ｙ，Ｚｒ、Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂ，Ｓｉの少なくとも１種であり、ｘ＝０．００１〜０．２０である。）層であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
（５）前記被膜が、前記（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3においてｘ＝０のＡｌ2Ｏ3層と、ｘ＝０．００１〜０．２０のＡｌ2Ｏ3層とを含むことを特徴とする前記（３）又は（４）に記載の表面被覆切削工具。
（６）前記被膜は、Ａｌ2Ｏ3層以外に、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ，及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、及び硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を、少なくとも１層有することを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
（７）前記硬質被膜層は、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉから選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成されることを特徴とする前記（６）に記載の表面被覆切削工具。
（８）前記被膜は、Ａｌ2Ｏ3層以外に、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉから選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を２種以上、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして積層されてなる積層被膜を１以上有しており、該積層被膜において２種以上の各硬質被膜層が周期的に積層されてなることを特徴とする前記（６）又は（７）に記載の表面被覆切削工具。
（９）前記基材が、超硬合金、サーメット、ｃＢＮ、高速度鋼、セラミクス、またはダイヤモンド焼結体により構成されることを特徴とする前記（１）〜（８）のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
本発明の表面被覆切削工具は、高速加工やステンレス、インコネル、チタンなどの難削材加工において、非常に優れた靭性を得ることができる。
本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、前記被膜は、
Ａｌ2Ｏ3層を含み、
前記Ａｌ2Ｏ3層は金属粒子が分散した構造であり、
前記金属粒子は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含み、
前記金属粒子の粒子サイズは１０ｎｍ〜２５０ｎｍ
である。
Ａｌ2Ｏ3層を含み、
前記Ａｌ2Ｏ3層は金属粒子が分散した構造であり、
前記金属粒子は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含み、
前記金属粒子の粒子サイズは１０ｎｍ〜２５０ｎｍ
である。
＜表面被覆切削工具＞
本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものである。このような基本的構成を有する本発明の表面被覆切削工具は、たとえばドリル、エンドミル、フライス加工用または旋削加工用刃先交換型切削チップ、メタルソー、歯切工具、リーマ、タップ、またはクランクシャフトのピンミーリング加工用チップ等として極めて有用である。
本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものである。このような基本的構成を有する本発明の表面被覆切削工具は、たとえばドリル、エンドミル、フライス加工用または旋削加工用刃先交換型切削チップ、メタルソー、歯切工具、リーマ、タップ、またはクランクシャフトのピンミーリング加工用チップ等として極めて有用である。
＜基材＞
本発明の表面被覆切削工具の基材としては、このような切削工具の基材として知られる従来公知のものを特に限定なく使用することができる。たとえば、超硬合金（たとえばＷＣ基超硬合金、ＷＣの他、Ｃｏを含み、あるいはさらにＴｉ、Ｔａ、Ｎｂ等の炭窒化物等を添加したものも含む）、サーメット（ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ等を主成分とするもの）、高速度鋼、セラミックス（炭化チタン、炭化硅素、窒化硅素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、およびこれらの混合体など）、立方晶型窒化硼素焼結体、ダイヤモンド焼結体等をこのような基材の例として挙げることができる。このような基材として超硬合金を使用する場合、そのような超硬合金は、組織中に遊離炭素やη相と呼ばれる異常相を含んでいても本発明の効果は示される。
本発明の表面被覆切削工具の基材としては、このような切削工具の基材として知られる従来公知のものを特に限定なく使用することができる。たとえば、超硬合金（たとえばＷＣ基超硬合金、ＷＣの他、Ｃｏを含み、あるいはさらにＴｉ、Ｔａ、Ｎｂ等の炭窒化物等を添加したものも含む）、サーメット（ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ等を主成分とするもの）、高速度鋼、セラミックス（炭化チタン、炭化硅素、窒化硅素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、およびこれらの混合体など）、立方晶型窒化硼素焼結体、ダイヤモンド焼結体等をこのような基材の例として挙げることができる。このような基材として超硬合金を使用する場合、そのような超硬合金は、組織中に遊離炭素やη相と呼ばれる異常相を含んでいても本発明の効果は示される。
なお、これらの基材は、その表面が改質されたものであっても差し支えない。たとえば、超硬合金の場合はその表面に脱β層が形成されていたり、サーメットの場合には表面硬化層が形成されていても良く、このように表面が改質されていても本発明の効果は示される。
＜被膜＞
本発明の表面被覆切削工具の上記基材上に形成される被膜は、少なくとも１層の特定のＡｌ2Ｏ3層を含むものである。
また、このような被膜は、さらに硬質被膜を含むことができ、この硬質皮膜は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、及び硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を、少なくとも１層有することができるとともに、さらに他の組成の被膜を含むこともできる。
本発明の表面被覆切削工具の上記基材上に形成される被膜は、少なくとも１層の特定のＡｌ2Ｏ3層を含むものである。
また、このような被膜は、さらに硬質被膜を含むことができ、この硬質皮膜は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、及び硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を、少なくとも１層有することができるとともに、さらに他の組成の被膜を含むこともできる。
なお、このような被膜の合計厚み（総膜厚）は、０．５μｍ以上１５μｍ以下とすることが好ましく、より好ましくはその上限が１０μｍ以下、さらに好ましくは７μｍ以下、その下限が１μｍ以上、さらに好ましくは２μｍ以上である。その厚みが０．５μｍ未満の場合、靭性の向上作用が十分に示されない場合があり、１５μｍを超えると靭性が低下するため好ましくない。
＜Ａｌ2Ｏ3層＞
本発明の被膜は、少なくとも１層のＡｌ2Ｏ3層を含み、前記Ａｌ2Ｏ3層は金属粒子が分散した構造であり、前記金属粒子は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含み、該金属粒子の粒子サイズは１０ｎｍ〜２５０ｎｍである。
金属粒子の粒子サイズは１０〜２５０ｎｍであることが重要であり、３０〜１５０ｎｍが好ましく、５０〜１００ｎｍがより好ましい。１０ｎｍ未満では成膜中にＡｌ2Ｏ3結晶との界面において金属粒子とＡｌ2Ｏ3結晶間での反応が起こり、靭性向上効果が得られない。一方、２５０ｎｍを超えるとＡｌ2Ｏ3結晶との界面において空隙が発生し、被膜硬度が低下するとともに空隙から結晶粒子が脱落してしまい靭性が低下する。
金属粒子の粒子サイズは、膜断面をＴＥＭで観察し、任意の３μｍ長さの線分上で金属粒子のサイズを測定した。３線分における金属粒子のサイズを測定し、平均を粒子サイズとした。
尚、本発明においては、Ｓｉは構造によらず金属とする。
本発明の被膜は、少なくとも１層のＡｌ2Ｏ3層を含み、前記Ａｌ2Ｏ3層は金属粒子が分散した構造であり、前記金属粒子は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含み、該金属粒子の粒子サイズは１０ｎｍ〜２５０ｎｍである。
金属粒子の粒子サイズは１０〜２５０ｎｍであることが重要であり、３０〜１５０ｎｍが好ましく、５０〜１００ｎｍがより好ましい。１０ｎｍ未満では成膜中にＡｌ2Ｏ3結晶との界面において金属粒子とＡｌ2Ｏ3結晶間での反応が起こり、靭性向上効果が得られない。一方、２５０ｎｍを超えるとＡｌ2Ｏ3結晶との界面において空隙が発生し、被膜硬度が低下するとともに空隙から結晶粒子が脱落してしまい靭性が低下する。
金属粒子の粒子サイズは、膜断面をＴＥＭで観察し、任意の３μｍ長さの線分上で金属粒子のサイズを測定した。３線分における金属粒子のサイズを測定し、平均を粒子サイズとした。
尚、本発明においては、Ｓｉは構造によらず金属とする。
前記周期表のIVａ族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ等）、Ｖａ族元素（Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等）、VIａ族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ等）、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属としては、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ，Ｃｒ、Ｓｉ等が好ましい。
また、Ａｌ2Ｏ3層における金属粒子の割合は、Ａｌ2Ｏ3のＡｌに対して０．０１〜２０．００ａｔ％含有されることが好ましく、１．０〜１６ａｔ％がより好ましく、４〜１３ａｔ％が特に好ましい。０．０１ａｔ％未満では金属粒子による靭性向上効果が不十分であり、２０．００ａｔ％を超えると金属粒子同士が隣接して粗大化してしまうという事象が発生してしまい靭性が低下する。
Ａｌ2Ｏ3層における金属粒子の割合は、ＸＰＳで測定することにより求めることができる。
また、Ａｌ2Ｏ3層における金属粒子の割合は、Ａｌ2Ｏ3のＡｌに対して０．０１〜２０．００ａｔ％含有されることが好ましく、１．０〜１６ａｔ％がより好ましく、４〜１３ａｔ％が特に好ましい。０．０１ａｔ％未満では金属粒子による靭性向上効果が不十分であり、２０．００ａｔ％を超えると金属粒子同士が隣接して粗大化してしまうという事象が発生してしまい靭性が低下する。
Ａｌ2Ｏ3層における金属粒子の割合は、ＸＰＳで測定することにより求めることができる。
また、前記Ａｌ2Ｏ3層は、（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3（Ｍｅ＝Ｖ，Ｃｒ，Ｙ，Ｚｒ、Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂ，Ｓｉの少なくとも１種、ｘ＝０〜０．２０）層であることが好ましく、前記ｘ＝０．００１〜０．２０であることがより好ましい。このＭｅはＡｌ2Ｏ3層中に固溶している。
前記Ａｌ2Ｏ3層がＭｅを上記の含有量で含有することによって、硬度・耐熱性・高温安定性・潤滑性が向上する。
また、前記被膜は、前記（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3においてｘ＝０のＡｌ2Ｏ3層（Ｍｅ含有しないＡｌ2Ｏ3層）と、ｘ＝０．００１〜０．２０のＡｌ2Ｏ3層（Ｍｅを含有するＡｌ2Ｏ3層）とを有していてもよい。
Ａｌ2Ｏ3の結晶構造はα、γ、アモルファス、またはそれらが混在してもよいが、γ型の結晶構造を含むことが好ましい。
前記Ａｌ2Ｏ3層がＭｅを上記の含有量で含有することによって、硬度・耐熱性・高温安定性・潤滑性が向上する。
また、前記被膜は、前記（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3においてｘ＝０のＡｌ2Ｏ3層（Ｍｅ含有しないＡｌ2Ｏ3層）と、ｘ＝０．００１〜０．２０のＡｌ2Ｏ3層（Ｍｅを含有するＡｌ2Ｏ3層）とを有していてもよい。
Ａｌ2Ｏ3の結晶構造はα、γ、アモルファス、またはそれらが混在してもよいが、γ型の結晶構造を含むことが好ましい。
Ａｌ2Ｏ3層の膜厚は０．１〜１０．０μｍが好ましく、０．５〜７．５μｍがより好ましく、１．０〜４．０μｍが特に好ましい。０．１μｍ以上であることによりＡｌ2Ｏ3層の効果が十分に発揮され、１０．０μｍ以下であることによりＡｌ2Ｏ3層が内部応力による自己破壊を伴うことがなく、効果を十分に発揮することができる。
前記膜厚は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いてＡｌ2Ｏ3層の基材に対する垂直方向の断面を観察し、測定することができる。
前記膜厚は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いてＡｌ2Ｏ3層の基材に対する垂直方向の断面を観察し、測定することができる。
上記のような優れた特性を有するＡｌ2Ｏ3層は、被膜の大規模破壊や自己剥離が防止されるとともに靭性と耐摩耗性とを高度に両立させることにより優れた工具寿命を提供することができる。
また、このような切削工具自体のメリットばかりではなく、この工具により加工された被削材は、その仕上り面が極めて美麗なものになるという優れた効果が示される。
また、このような切削工具自体のメリットばかりではなく、この工具により加工された被削材は、その仕上り面が極めて美麗なものになるという優れた効果が示される。
一方、本発明におけるＡｌ2Ｏ3層とは、Ａｌ2Ｏ3を主成分として含む層を意味し、不可避不純物が包含されていても差し支えない。また、α型の結晶構造とは結晶学的にコランダム型の結晶構造を有するものであり、γ型の結晶構造とは結晶学的にスピネル型の結晶構造を有するものである。これらは、いずれもＸ線回折法（ＸＲＤ）により同定することができる。
また、α型の結晶構造の酸化アルミニウムとγ型の結晶構造の酸化アルミニウムとが混在するとは、Ｘ線回折法で上記α型とγ型の双方に起因する回折スペクトルを有するものをいう。
また、α型の結晶構造の酸化アルミニウムとγ型の結晶構造の酸化アルミニウムとが混在するとは、Ｘ線回折法で上記α型とγ型の双方に起因する回折スペクトルを有するものをいう。
上記のような優れた特性を有する本発明のＡｌ2Ｏ3層は、物理蒸着法により形成することが最適である。物理蒸着法としては、従来公知の物理蒸着法をいずれも採用することができ、このような物理的蒸着法としては、たとえばスパッタリング法、イオンプレーティング法、アークイオンプレーティング法、電子イオンビーム蒸着法等を挙げることができる。原料元素のイオン率が高いカソードアークイオンプレーティング法もしくはスパッタリング法を用いると、被膜を形成する前に基材表面に対して金属またはガスイオンボンバードメント処理が可能となるため、被膜と基材との密着性が格段に向上するので好ましい。特に、非導電性材料であるＡｌ2Ｏ3を被覆するためにはスパッタリング法が好ましい。スパッタリング法は、表面平滑な被膜を容易に作成することができ、被削材に対する耐溶着性に優れた被膜となり、同時に被削材の仕上げ面粗度が良好になるという利点を有する。また、基材を劣化させることなく有利にＡｌ2Ｏ3層を形成することができる。また、金属粒子はイオンクラスタービーム（ＩＣＢ）法を用いて含有させることが、Ａｌ2Ｏ3層中に好適なサイズの金属粒子を分散させることができ、好ましい。特に、パルス化スパッタ法とイオンクラスタービーム法を併用し、パルススパッタ法でＡｌ2Ｏ3マトリクス、イオンクラスタービーム法で金属成分を添加することが好ましい。
具体的には、図１に示すように、Ａｌ、前記Ｍｅ等のＡｌ2Ｏ3マトリクス組成の原料をスパッタ源、添加金属原料をＩＣＢ源にセットし、成膜温度４５０〜７００℃、スパッタ内のガスはアルゴン等の希ガスと酸素、ＩＣＢ内はアルゴン等の希ガスを投入し成膜することが好ましい。
金属添加量はスパッタ出力とＩＣＢ法の出力との比で制御することができる。
また、Ａｌ2Ｏ3マトリクス、金属粒子の添加は、特に以下のような条件を採用することが好ましい。すなわち、Ａｌ2Ｏ3マトリクスは、スパッタリング法としてパルス化スパッタ法を採用し、圧力は０．１〜１．０Ｐａ、単位面積あたりのスパッタ出力を３．０〜１０．０Ｗ／ｃｍ2、スパッタ周波数を５０〜３５０ｋＨｚ、基材へのバイアス電圧を２０〜１２０Ｖ、バイアス周波数を３０〜１００ｋＨｚの条件で成膜することが好ましい。
金属粒子は、イオンクラスタービーム法において、圧力０．０１〜０．１Ｐａ、加速電圧０．１〜１ｋＶ、エミッション電流１００〜５００ｍＡの条件で添加することが好ましい。
金属添加量はスパッタ出力とＩＣＢ法の出力との比で制御することができる。
また、Ａｌ2Ｏ3マトリクス、金属粒子の添加は、特に以下のような条件を採用することが好ましい。すなわち、Ａｌ2Ｏ3マトリクスは、スパッタリング法としてパルス化スパッタ法を採用し、圧力は０．１〜１．０Ｐａ、単位面積あたりのスパッタ出力を３．０〜１０．０Ｗ／ｃｍ2、スパッタ周波数を５０〜３５０ｋＨｚ、基材へのバイアス電圧を２０〜１２０Ｖ、バイアス周波数を３０〜１００ｋＨｚの条件で成膜することが好ましい。
金属粒子は、イオンクラスタービーム法において、圧力０．０１〜０．１Ｐａ、加速電圧０．１〜１ｋＶ、エミッション電流１００〜５００ｍＡの条件で添加することが好ましい。
＜硬質被膜＞
本発明の被膜は、上記で説明したＡｌ2Ｏ3層以外に、さらに周期律表のIVａ族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ等）、Ｖａ族元素（Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等）、VIａ族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ等）、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を、少なくとも１層含むことができる。
本発明の被膜は、上記で説明したＡｌ2Ｏ3層以外に、さらに周期律表のIVａ族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ等）、Ｖａ族元素（Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等）、VIａ族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ等）、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を、少なくとも１層含むことができる。
そして、このような硬質被膜層としては、特にＴｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層が好ましく、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を２種以上、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして積層されてなる積層被膜を有し、該積層被膜において、各硬質被膜層が周期的に積層されてなる積層被膜を１以上含むことが好ましい。
このような硬質被膜層は、高硬度で耐摩耗性に優れるとともに、極めて優れた靭性を示すものが好ましい。特に、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される１層以上の硬質被膜層は、耐酸化性および耐熱性に優れていることから特に優れた耐摩耗性が示されるため極めて有効である。なお、該硬質被膜層は、物理蒸着法により形成されることが好ましく、圧縮応力を有していることが好ましい。
このような硬質被膜層を物理蒸着法により形成することが好適である理由は、第一に硬質被膜層に圧縮応力を付与するためであり、第二に上記のＡｌ2Ｏ3層が物理蒸着法により形成される場合においてこれらの被膜と同じ成膜方法を採用することにより製造効率を向上させるためである。このような物理蒸着法は、上記のＡｌ2Ｏ3層について述べたのと同様の方法を採用することができる。
そして、このような硬質被膜層を構成する元素または化合物としては、たとえば、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｈｆ、ＴｉＡｌ、ＴｉＳｉ、ＡｌＣｒ、ＴｉＮ、ＴｉＯＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣＮＯ、ＴｉＢＮ、ＴｉＣＢＮ、ＴｉＡｌＣＮ、ＡｌＮ、ＡｌＣＮ、ＡｌＣｒＣＮ、ＡｌＯＮ、ＣｒＮ、ＣｒＣＮ、ＴｉＳｉＮ、ＴｉＳｉＣＮ、Ｔｉ2Ｏ3、ＴｉＡｌＯＮ、ＺｒＮ、ＺｒＣＮ、ＡｌＺｒＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＡｌＳｉＮ、ＴｉＡｌＣｒＳｉＮ、ＡｌＣｒＮ、ＡｌＣｒＳｉＮ、ＴｉＺｒＮ、ＴｉＡｌＭｏＮ、ＴｉＡｌＮｂＮ、ＴｉＳｉＮ、ＴｉＳｉＣＮ、ＡｌＣｒＴａＮ、ＡｌＴｉＶＮ、ＴｉＢ2、ＴｉＣｒＨｆＮ、ＣｒＳｉＷＮ、ＴｉＡｌＣＮ、ＴｉＳｉＣＮ、ＡｌＺｒＯＮ、ＡｌＣｒＣＮ、ＡｌＨｆＮ、ＣｒＳｉＢＯＮ、ＴｉＡｌＷＮ、ＡｌＣｒＭｏＣＮ、ＴｉＡｌＢＮ、ＴｉＡｌＣｒＳｉＢＣＮＯ等を挙げることができる。
とりわけ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物としては、Ｔｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｓｉ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＡｌＮＯ、ＴｉＡｌＣＮＯ、ＴｉＢＮ、ＴｉＣＢＮ、ＴｉＳｉＮ、ＴｉＳｉＮＯ、ＴｉＳｉＣＮＯ、ＣｒＴｉＮ、ＣｒＴｉＮＯ、ＣｒＴｉＣＮＯ、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＮＯ、ＳｉＡｌＣＮＯ、ＣｒＳｉＮ、ＣｒＳｉＮＯ、ＣｒＳｉＣＮＯ、ＳｉＡｌＮ、ＳｉＡｌＮＯ、ＳｉＡｌＣＮＯ、ＣｒＳｉＮ、ＣｒＳｉＮＯ、ＣｒＳｉＣＮＯ、ＴｉＡｌＳｉＮ、ＴｉＡｌＳｉＮＯ、ＴｉＡｌＳｉＣＮＯ、ＴｉＡｌＣｒＮ、ＴｉＡｌＣｒＮＯ、ＴｉＡｌＣｒＣＮＯ、ＴｉＣｒＳｉＮ、ＴｉＣｒＳｉＮＯ、ＴｉＣｒＳｉＣＮＯ、ＡｌＣｒＮ、ＡｌＣｒＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＮＯ、ＡｌＣｒＣＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＢＮＯ等を挙げることができ、特にＡｌＣｒＮ、ＡｌＣｒＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＮＯ、ＡｌＣｒＳｉＢＮＯ、ＡｌＣｒＣＮＯ等が好適である。
なお、上記の化学式において、各元素の原子比が特に記載されていないものは必ずしも等比となるものではなく、従来公知の原子比が全て含まれるものとする。たとえば単にＴｉＮと記す場合、ＴｉとＮとの原子比は１：１が含まれる他、２：１、１：０．９５、１：０．９等が含まれる（特に断りのない限り、以下において同じ）。
なお、これらの元素からなる金属または化合物によって構成される硬質被膜層は、単層または多層として形成することができ、多層の場合はこれらの元素からなる金属または化合物からなる硬質被膜層を５ｎｍ〜５μｍの厚みで積層する場合も含む。そして、特にＴｉ、Ｃｒ、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を２種以上、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして積層されてなる積層被膜を有し、該積層被膜において、各硬質被膜層が周期的に積層されてなる積層被膜を１以上含むことが好ましい。このように上記各層を周期的に積層させることにより、耐酸化性および耐熱性がさらに向上し極めて優れた耐摩耗性が示される。ここで、周期的に積層させるとは、たとえば組成が異なる２種の層を上下交互に積層させるなど、一定の周期性をもって積層させることをいう。なお、各層の厚みが１ｎｍ未満となる場合や１００ｎｍを超える場合には積層による耐摩耗性の向上効果が示されない場合があるが、その場合であってもこれらの元素や化合物によってもたらされる固有の耐摩耗性の向上効果は示される。各層の厚みはより好ましくは５ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
さらに本発明の硬質被膜層は、上記のように圧縮応力を有することが好ましく、これにより高い靭性を示すものとなる。ここで、圧縮応力とは、被膜に存する内部応力（固有ひずみ）の一種であって、「−」（マイナス）の数値（単位：ＧＰａ）で表されるものである。このため、数値を用いずに圧縮応力（内部応力）の大小を表現する場合は、上記数値の絶対値が大きくなるものを「圧縮応力が大きい」と表現し、上記数値の絶対値が小さくなるものを「圧縮応力が小さい」と表現する場合がある。一般に、圧縮応力が大きくなる程高い靭性を示す。硬質被膜層の圧縮応力は、好ましくは−１０ＧＰａ以上−１ＧＰａ以下、さらに好ましくはその上限が−１．５ＧＰａ以下、さらに好ましくは−２ＧＰａ以下、その下限が−８ＧＰａ以上、さらに好ましくは−７ＧＰａ以上の範囲の応力とすることが好適である。−１ＧＰａを超える残留応力を有する場合には、靭性が劣る（耐欠損性が劣る）ことになり、一方、残留応力が−１０ＧＰａ未満になると圧縮応力が大きくなり過ぎて被膜の自己破壊による剥離を生じる場合がある。なお、このような圧縮応力は、ｓｉｎ2ψ法を用いた方法により測定することができる。また、硬質被膜層が多層で形成される場合には、最大の圧縮応力（その絶対値が最大となる圧縮応力）を有する層の応力を硬質被膜層の圧縮応力とするものとする。
また、このような硬質被膜層は、０．３μｍ以上１０μｍ以下の厚み（多層で形成される場合はその全体の厚み）を有することが好ましく、より好ましくはその上限が７μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下、その下限が０．５μｍ以上、さらに好ましくは１μｍ以上である。その厚みが０．３μｍ未満の場合には、十分な耐摩耗性が示されなくなるとともに十分な靭性を示さなくなる場合があり、１０μｍを超えると耐欠損性が低下することがあるため好ましくない。
なお、このような硬質被膜層は、基材とＡｌ2Ｏ3層との間に形成することができるとともに、Ａｌ2Ｏ3層上に形成することもでき、その積層配置は特に限定されない。
＜補助酸化物被膜＞
本発明の被膜は、上記のＡｌ2Ｏ3層、硬質被膜以外にさらに補助酸化物被膜を含むことができる。そして、このような補助酸化物被膜は、Ａｌ2Ｏ3以外の酸化物を含むものであり、上記Ａｌ2Ｏ3層に接する下層として形成されていることが好ましい。ここで、Ａｌ2Ｏ3以外の酸化物を含むとは、そのような酸化物を主成分として含むことを意味し、不可避不純物が包含されていても差し支えない。
本発明の被膜は、上記のＡｌ2Ｏ3層、硬質被膜以外にさらに補助酸化物被膜を含むことができる。そして、このような補助酸化物被膜は、Ａｌ2Ｏ3以外の酸化物を含むものであり、上記Ａｌ2Ｏ3層に接する下層として形成されていることが好ましい。ここで、Ａｌ2Ｏ3以外の酸化物を含むとは、そのような酸化物を主成分として含むことを意味し、不可避不純物が包含されていても差し支えない。
このように補助酸化物被膜を上記Ａｌ2Ｏ3層に接する下層として形成することにより、上記のような物理蒸着法の採用と相俟って、本発明のＡｌ2Ｏ3層を極めて有利に形成することができる。これは恐らく、Ａｌ2Ｏ3と親和性の高い酸化物でこの補助酸化物被膜を形成することにより、補助酸化物被膜上にＡｌ2Ｏ3との結晶核（シード）を極めて高密度に形成することができ、しかもそのように形成された結晶核を極めて均一に成長させることができるためではないかと考えられる。
したがって、このような補助酸化物被膜に含まれる酸化物としては、Ａｌ2Ｏ3と親和性の高い酸化物を用いることが好ましく、たとえばＣｒ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ、ＨｆＯ2、ＴｉＺｒＯＮ等を挙げることができる。なお、当該酸化物は、窒素、炭素、硼素等を含んでいても差し支えない。
このような補助酸化物被膜は、上記のＡｌ2Ｏ3層と同様に物理蒸着法により形成することが好適である。その理由は、Ａｌ2Ｏ3層が物理蒸着法により形成される場合においてこのＡｌ2Ｏ3層と同じ成膜方法を採用することにより製造効率を向上させるためである。このような物理蒸着法は、上記のＡｌ2Ｏ3層について述べたのと同様の方法を採用することができ、特にＡｌ2Ｏ3層と同一の方法を採用することが好適である。
なお、このような補助酸化物被膜は、直接酸化物を形成して被膜とすることができるとともに、一旦酸化物以外の組成のもの（たとえば金属窒化物等）を形成しそれを酸化することにより当該被膜とすることもできる。
また、このような補助酸化物被膜は、０．０５μｍ以上５μｍ以下の厚みを有することが好ましく、より好ましくはその上限が３μｍ以下、さらに好ましくは２μｍ以下であり、その下限が０．１μｍ以上である。その厚みが０．０５μｍ未満の場合には、好適にＡｌ2Ｏ3層を形成できない場合があり、５μｍを超えると耐欠損性が低下することがあるため好ましくない。
なお、本発明における補助酸化物被膜は、Ａｌ2Ｏ3層に接する下層として形成される以外の積層配置で形成することもでき、また２以上の層に分けて形成することもできる。２以上の層に分けて形成される場合、１の層をＡｌ2Ｏ3層に接する下層として形成し、他の層はそれ以外の積層配置として形成することができる。
以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の各被膜の化学組成はＸＰＳ（Ｘ線光電子分光分析装置）によって確認した。
実施例１
＜表面被覆切削工具の作製＞
まず、以下の基材を準備した。
すなわち、グレードがＪＩＳ規格Ｋ２０のＷＣ基超硬合金であって、切削チップとしての形状がＪＩＳ規格ＣＮＭＧ１２０４０８であるもの（後述の旋削加工試験及び断続切削試験に使用するもの）を準備した（上記のＪＩＳ規格は１９９８年度版のものである）。
＜表面被覆切削工具の作製＞
まず、以下の基材を準備した。
すなわち、グレードがＪＩＳ規格Ｋ２０のＷＣ基超硬合金であって、切削チップとしての形状がＪＩＳ規格ＣＮＭＧ１２０４０８であるもの（後述の旋削加工試験及び断続切削試験に使用するもの）を準備した（上記のＪＩＳ規格は１９９８年度版のものである）。
そして、それぞれの基材に対して以下のような方法により被膜を形成した。
すなわち、まず上記基材をカソードにパルスＤＣ電源を用いたパルス化スパッタリング装置（成膜装置）に装着した。図１は、その成膜装置の概略構成を示す模式図である。図１に示す成膜装置内にパルススパッタ源とイオンクラスタービーム源を配置し、中心点Ｃを中心とし上記スパッタ源およびＩＣＢ源に各対向するようにして回転する基材テーブルに基材である上記切削チップを装着した。なお、スパッタ内にはアルゴン等の希ガスと酸素を、ＩＣＢ内にはアルゴン等の希ガスを投入した。
本実施例では、スパッタ源に表１のＡｌ2Ｏ3層の組成の欄の金属組成をもつターゲットをセットし、ＩＣＢ源に金属組成の欄の原料（例えばＳｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｙ、Ｚｒなど）をセットした。すなわち、スパッタ源によりＡｌ2Ｏ3マトリックスを形成し、ＩＣＢ源により金属粒子を添加した。
また、硬質被覆層は、アークイオンプレーティング（ＡＩＰ）装置を用いて成膜した。
上記基材表面に形成される被膜として、化学組成および積層構成（膜厚、金属サイズ、添加量等）が以下の表１に示したものとなるように上記蒸発源に上記原料（すなわちターゲット）を各々セットした。成膜の順序は、表１において左側に記載されているものから順に基材上に形成した。
すなわち、まず上記基材をカソードにパルスＤＣ電源を用いたパルス化スパッタリング装置（成膜装置）に装着した。図１は、その成膜装置の概略構成を示す模式図である。図１に示す成膜装置内にパルススパッタ源とイオンクラスタービーム源を配置し、中心点Ｃを中心とし上記スパッタ源およびＩＣＢ源に各対向するようにして回転する基材テーブルに基材である上記切削チップを装着した。なお、スパッタ内にはアルゴン等の希ガスと酸素を、ＩＣＢ内にはアルゴン等の希ガスを投入した。
本実施例では、スパッタ源に表１のＡｌ2Ｏ3層の組成の欄の金属組成をもつターゲットをセットし、ＩＣＢ源に金属組成の欄の原料（例えばＳｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｙ、Ｚｒなど）をセットした。すなわち、スパッタ源によりＡｌ2Ｏ3マトリックスを形成し、ＩＣＢ源により金属粒子を添加した。
また、硬質被覆層は、アークイオンプレーティング（ＡＩＰ）装置を用いて成膜した。
上記基材表面に形成される被膜として、化学組成および積層構成（膜厚、金属サイズ、添加量等）が以下の表１に示したものとなるように上記蒸発源に上記原料（すなわちターゲット）を各々セットした。成膜の順序は、表１において左側に記載されているものから順に基材上に形成した。
続いて、真空ポンプにより該装置のチャンバー内を１×１０-3Ｐａ以下に減圧するとともに、該装置内に設置されたヒーターにより上記基材の温度を６５０℃に加熱し、１時間保持した。
次に、アルゴンガスを導入してチャンバー内の圧力を１．０Ｐａに保持し、基板バイアス電源の電圧を徐々に上げながら−１０００Ｖとし、基材の表面のクリーニングを１５分間行なった。その後、アルゴンガスを排気した。
次いで、上記基材表面に形成される被膜として、化学組成および積層構成（膜厚、残留応力等）が以下の表１に示したものとなるように上記蒸発源に上記原料（すなわちターゲット）を各々セットした。成膜の順序は、表１において左側に記載されているものから順に基材上に形成した。
次に、アルゴンガスを導入してチャンバー内の圧力を１．０Ｐａに保持し、基板バイアス電源の電圧を徐々に上げながら−１０００Ｖとし、基材の表面のクリーニングを１５分間行なった。その後、アルゴンガスを排気した。
次いで、上記基材表面に形成される被膜として、化学組成および積層構成（膜厚、残留応力等）が以下の表１に示したものとなるように上記蒸発源に上記原料（すなわちターゲット）を各々セットした。成膜の順序は、表１において左側に記載されているものから順に基材上に形成した。
まず、第１層、第２層については、基材（基板）温度を５５０℃に設定し、反応ガスとして窒素を導入させながら、アークイオンプレーティング法で上記基材表面に各構成の被膜を形成した。
表１中のＮｏ．１〜２０のＡｌ2Ｏ3層については、成膜初期（膜厚が０．１μｍ以下の範囲）において基材温度を５５０℃とし、さらに成膜中期（膜厚が０．１〜０．３μｍの範囲）においては基材温度を徐々に６８０℃まで上げた。反応ガスとしてパルススパッタ内にはＡｒと酸素、ＩＣＢ内にはＡｒガスを導入させながら成膜した。
スパッタカソードに印加するパルス周波数を１００ｋＨｚ以下と３００ｋＨｚ以上を交互に印加した（２０〜７０ｎｍ成膜毎）。交互に印加することでターゲットから飛来する粒子のエネルギーを調整し、結晶の成長を制御できる。更に基材に印加するバイアス周波数、電圧を調整することで被膜の緻密さを制御できる。
３００ｋＨｚ以上のパルスを印加する割合を高くすると結晶成長が促進され、結晶が３次元的に成長し（＝結晶粒子径が大きく）結晶性が高くなる。逆に１００ｋＨｚ以下のパルスを印加する割合を高くすると結晶性が悪くなる。適切に制御することで結晶性を高くたもったまま結晶成長を抑制でき、粒子径が均一なＡｌ2Ｏ3被膜を得ることができる。
更にカソードのパルス周波数を３００ｋＨｚ以上にする間に、基材に印加するバイアスを周波数５０ｋＨｚ以下、且つ電圧５０Ｖより小さく、カソードのパルス周波数を１００ｋＨｚ以下にする間に基材に印加するバイアスを周波数５０ｋＨｚ以上、５０Ｖ以上とすることで被膜を緻密にすることができる。
表１中のＮｏ．１〜２０のＡｌ2Ｏ3層については、成膜初期（膜厚が０．１μｍ以下の範囲）において基材温度を５５０℃とし、さらに成膜中期（膜厚が０．１〜０．３μｍの範囲）においては基材温度を徐々に６８０℃まで上げた。反応ガスとしてパルススパッタ内にはＡｒと酸素、ＩＣＢ内にはＡｒガスを導入させながら成膜した。
スパッタカソードに印加するパルス周波数を１００ｋＨｚ以下と３００ｋＨｚ以上を交互に印加した（２０〜７０ｎｍ成膜毎）。交互に印加することでターゲットから飛来する粒子のエネルギーを調整し、結晶の成長を制御できる。更に基材に印加するバイアス周波数、電圧を調整することで被膜の緻密さを制御できる。
３００ｋＨｚ以上のパルスを印加する割合を高くすると結晶成長が促進され、結晶が３次元的に成長し（＝結晶粒子径が大きく）結晶性が高くなる。逆に１００ｋＨｚ以下のパルスを印加する割合を高くすると結晶性が悪くなる。適切に制御することで結晶性を高くたもったまま結晶成長を抑制でき、粒子径が均一なＡｌ2Ｏ3被膜を得ることができる。
更にカソードのパルス周波数を３００ｋＨｚ以上にする間に、基材に印加するバイアスを周波数５０ｋＨｚ以下、且つ電圧５０Ｖより小さく、カソードのパルス周波数を１００ｋＨｚ以下にする間に基材に印加するバイアスを周波数５０ｋＨｚ以上、５０Ｖ以上とすることで被膜を緻密にすることができる。
金属粒子は、イオンクラスタービーム法において、圧力０．０１〜０．１Ｐａ、加速電圧０．１〜１ｋＶ、エミッション電流１００〜５００ｍＡの条件で添加した。
なお、Ｎｏ．１３のＡｌ2Ｏ3層は、上記のスパッタ源のターゲットにＺｒを４原子％添加（ターゲット中の全原子に対して）することにより、Ａｌ2Ｏ3層において、Ｚｒが５原子％含まれる（前記ｘ＝０．０５）ようにして形成した。同じく、Ｎｏ．１５のＡｌ2Ｏ3層は、上記のスパッタ源のターゲットにＹを１０原子％添加（ターゲット中の全原子に対して）することにより、Ａｌ2Ｏ3層において、Ｙが８原子％含まれる（前記ｘ＝０．０８）ようにして形成した。同じく、Ｎｏ．１８のＡｌ2Ｏ3層は、上記のスパッタ源のターゲットにＣｒを１０原子％添加（ターゲット中の全原子に対して）することにより、Ａｌ2Ｏ3層において、Ｃｒが１０原子％含まれる（前記ｘ＝０．１０）ようにして形成した。
また、Ｎｏ．１９、２０の第２層は、２種の層が周期的に積層されてなる被膜であることを示している。このような周期的な積層は、上記成膜装置において基材テーブルの回転速度を調節することにより形成することができる。
また、Ｎｏ．１９、２０の第２層は、２種の層が周期的に積層されてなる被膜であることを示している。このような周期的な積層は、上記成膜装置において基材テーブルの回転速度を調節することにより形成することができる。
このようにして、表１に示したＮｏ．１〜２４の表面被覆切削工具を作製した。Ｎｏ．１〜２０が本発明の実施例であり、Ｎｏ．２１〜２４は比較例である。
なお、比較例のＮｏ．２３は、金属粒子となるＡｌＳｉをＡｌＳｉ合金ターゲットを用いてスパッタ成膜した。ＴＥＭ観察では、Ａｌ2Ｏ3層中に７００ｎｍサイズのＡｌＳｉドロップレットを確認した。
また、比較例のＮｏ．２４のＡｌ2Ｏ3層は、Ａｌ2Ｏ3粉末と金属Ｃｒ粉末混合ターゲットを用いてスパッタで成膜した。ＴＥＭ観察では、Ａｌ2Ｏ3層中にＣｒ金属粒子は確認できなかった。
なお、比較例のＮｏ．２３は、金属粒子となるＡｌＳｉをＡｌＳｉ合金ターゲットを用いてスパッタ成膜した。ＴＥＭ観察では、Ａｌ2Ｏ3層中に７００ｎｍサイズのＡｌＳｉドロップレットを確認した。
また、比較例のＮｏ．２４のＡｌ2Ｏ3層は、Ａｌ2Ｏ3粉末と金属Ｃｒ粉末混合ターゲットを用いてスパッタで成膜した。ＴＥＭ観察では、Ａｌ2Ｏ3層中にＣｒ金属粒子は確認できなかった。
得られた表面被覆切削工具について、下記の条件により、靱性の評価を行なった。
インコネル丸棒旋削加工においては、逃げ面摩耗量０．２ｍｍとなる、又は工具が欠損するまでの時間を測定し、ＳＣＭ４３５断続加工においては、工具が欠損するまでの時間を測定した。その時間が長いもの程耐欠損性（靭性）に優れていることを示している。
その結果を以下の表２および３に示す。
インコネル丸棒旋削加工においては、逃げ面摩耗量０．２ｍｍとなる、又は工具が欠損するまでの時間を測定し、ＳＣＭ４３５断続加工においては、工具が欠損するまでの時間を測定した。その時間が長いもの程耐欠損性（靭性）に優れていることを示している。
その結果を以下の表２および３に示す。
インコネル丸棒旋削加工
＜加工条件＞
材質 インコネル７１８丸棒
切削チップ ＪＩＳ Ｋ２０超硬 ＣＮＭＧ１２０４０８
速度 ７０ｍ／ｍｉｎ
送り ０．１５ｍｍ／ｒｅｖ
切り込み ０．５ｍｍ
寿命判定 逃げ面摩耗量０．２ｍｍ ｏｒ 欠損まで
＜加工条件＞
材質 インコネル７１８丸棒
切削チップ ＪＩＳ Ｋ２０超硬 ＣＮＭＧ１２０４０８
速度 ７０ｍ／ｍｉｎ
送り ０．１５ｍｍ／ｒｅｖ
切り込み ０．５ｍｍ
寿命判定 逃げ面摩耗量０．２ｍｍ ｏｒ 欠損まで
ＳＣＭ４３５断続加工
＜加工条件＞
材質 ＳＣＭ４３５溝付き丸棒
切削チップ ＪＩＳ Ｋ２０超硬 ＣＮＭＧ１２０４０８
速度 １００ｍ／ｍｉｎ
送り ０．２２ｍｍ／ｒｅｖ
切り込み １．５ｍｍ
寿命判定 欠損までの時間
＜加工条件＞
材質 ＳＣＭ４３５溝付き丸棒
切削チップ ＪＩＳ Ｋ２０超硬 ＣＮＭＧ１２０４０８
速度 １００ｍ／ｍｉｎ
送り ０．２２ｍｍ／ｒｅｖ
切り込み １．５ｍｍ
寿命判定 欠損までの時間
表２及び３より明らかなように、実施例のＮｏ．１〜２０の本発明に係る表面被覆切削工具は、比較例のＮｏ．２１〜２４の表面被覆切削工具に比し、優れた靱性を示し、工具寿命が向上していることが確認できた。
Claims (9)
- 基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、前記被膜は、
Ａｌ2Ｏ3層を含み、
前記Ａｌ2Ｏ3層は金属粒子が分散した構造であり、
前記金属粒子は、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ、及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を含み、
前記金属粒子の粒子サイズは１０ｎｍ〜２５０ｎｍ
であることを特徴とする表面被覆切削工具。 - 前記金属粒子が、Ａｌ2Ｏ3層中、Ａｌに対して０．０１〜２０．００ａｔ％含有されることを特徴とする請求項１記載の表面被覆切削工具。
- 前記Ａｌ2Ｏ3層が、（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3（但し、ＭｅはＡｌ 2 Ｏ 3 に固溶しており、ＭｅはＶ，Ｃｒ，Ｙ，Ｚｒ、Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂ，Ｓｉの少なくとも１種であり、ｘは０〜０．２０である。）層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の表面被覆切削工具。
- 前記Ａｌ2Ｏ3層が、（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3（但し、ＭｅはＡｌ 2 Ｏ 3 に固溶しており、ＭｅはＶ，Ｃｒ，Ｙ，Ｚｒ、Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂ，Ｓｉの少なくとも１種であり、ｘ＝０．００１〜０．２０である。）層であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
- 前記被膜が、前記（Ａｌ1-xＭｅx）2Ｏ3においてｘ＝０のＡｌ2Ｏ3層と、ｘ＝０．００１〜０．２０のＡｌ2Ｏ3層とを含むことを特徴とする請求項３又は４に記載の表面被覆切削工具。
- 前記被膜は、Ａｌ2Ｏ3層以外に、周期表のIVａ族元素、Ｖａ族元素、VIａ族元素、Ａｌ，及びＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、及び硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を、少なくとも１層有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
- 前記硬質被膜層は、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉから選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成されることを特徴とする請求項６に記載の表面被覆切削工具。
- 前記被膜は、Ａｌ2Ｏ3層以外に、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、及びＳｉから選ばれる少なくとも１種の元素からなる金属、または、該元素の少なくとも１種と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物によって構成される硬質被膜層を２種以上、各層の厚みを１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みとして積層されてなる積層被膜を１以上有しており、該積層被膜において２種以上の各硬質被膜層が周期的に積層されてなることを特徴とする請求項６又は７に記載の表面被覆切削工具。
- 前記基材が、超硬合金、サーメット、ｃＢＮ、高速度鋼、セラミクス、またはダイヤモンド焼結体により構成されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の表面被覆切削工具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012106659A JP5417650B2 (ja) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | 表面被覆切削工具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012106659A JP5417650B2 (ja) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | 表面被覆切削工具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013233603A JP2013233603A (ja) | 2013-11-21 |
| JP5417650B2 true JP5417650B2 (ja) | 2014-02-19 |
Family
ID=49760146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012106659A Active JP5417650B2 (ja) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | 表面被覆切削工具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5417650B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7226076B2 (ja) | 2019-05-10 | 2023-02-21 | 株式会社デンソー | 空気吹出部 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6092735B2 (ja) * | 2013-07-31 | 2017-03-08 | 京セラ株式会社 | 表面被覆工具 |
| US11247275B2 (en) * | 2016-02-19 | 2022-02-15 | Walter Ag | Cutting tool |
| WO2021106440A1 (ja) * | 2019-11-27 | 2021-06-03 | 株式会社Moldino | 被覆切削工具 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2149567C (en) * | 1994-05-31 | 2000-12-05 | William C. Russell | Coated cutting tool and method of making same |
| DE19622823A1 (de) * | 1996-06-07 | 1997-12-11 | Widia Gmbh | Verbundwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US9997338B2 (en) * | 2005-03-24 | 2018-06-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Method for operating a pulsed arc source |
-
2012
- 2012-05-08 JP JP2012106659A patent/JP5417650B2/ja active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7226076B2 (ja) | 2019-05-10 | 2023-02-21 | 株式会社デンソー | 空気吹出部 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013233603A (ja) | 2013-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5172687B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5261018B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5061394B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2015037834A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2009034781A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5640242B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP4970886B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5074772B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5417649B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP4753144B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5417650B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP4753143B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2010240812A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2006192543A (ja) | 表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
| JP4921984B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5027491B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5668262B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2006192531A (ja) | 表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
| JP4917447B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2007196364A (ja) | 表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
| JP2008279563A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2007283478A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2004066361A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP5267365B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
| JP2009148856A (ja) | 表面被覆切削工具 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130917 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131025 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131031 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5417650 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |