JP5417343B2 - 少なくとも1つの光源を使用してエンドエフェクタ・アラインメントを校正するためのシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
半導体基板(例えばウエハ)の処理では、しばしばプラズマが用いられる。プラズマ処理では、ウエハは、プラズマ処理システムを使用して処理され、該システムは、通常、複数の処理モジュールを含む。基板(例えばウエハ)は、プラズマ処理時に、処理モジュールの内側においてチャック上に配置される。
考察A[終了]
半導体基板(例えばウエハ)の処理では、しばしばプラズマが用いられる。プラズマ処理では、ウエハは、プラズマ処理システムを使用して処理され、該システムは、通常、複数の処理モジュールを含む。基板(例えばウエハ)は、プラズマ処理時に、処理モジュールの内側においてチャック上に配置される。
考察B終了
本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。
適用例1
プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するための方法であって、
前記エンドエフェクタから前記チャックへ第1の光ビームを提供することと、
前記第1の光ビームが前記チャックの表面を走査するように、あらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させることと、
反射光信号の集合を受信することであって、前記反射光信号の集合は、少なくとも、移動時に前記表面が前記第1の光ビームを反射するときに生成される、ことと、
3つ以上の不連続性を特定するために、前記反射光信号の集合を分析することであって、前記3つ以上の不連続性は、前記第1の光ビームが前記チャックの縁に当たるときに生成される3つ以上の反射光信号に関係している、ことと、
前記3つ以上の不連続性に基づいて3つ以上の座標データ点を決定することであって、前記3つ以上の座標データ点は、前記チャックの前記縁上の3つ以上の点を表している、ことと、
前記3つ以上の座標データ点に基づいて前記チャックの中心を決定することと、を備える方法。
適用例2
適用例1に記載の方法であって、さらに、
前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心に光源を装着することを備える方法。
適用例3
適用例1の方法であって、さらに、
前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心から既知の隔離距離の位置に光源を装着することを備える方法。
適用例4
適用例1の方法であって、
前記3つ以上の不連続性は、4つ以上の不連続性である、方法。
適用例5
適用例1の方法であって、さらに、
ロボットコントローラが前記チャックの前記中心に対して前記エンドエフェクタを校正することを可能にするために、前記ロボットコントローラに前記チャックの前記中心を提供することを備える方法。
適用例6
適用例1の方法であって、さらに、
第2の光ビームが前記チャックの上面から所定の高さにおいて前記チャックの前記上面に平行に伝送されるように、前記第2の光ビームを提供することと、
第2のあらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させることと、
前記エンドエフェクタに装着されたセンサに前記第2の光ビームが当たるときに、前記第2の光ビームを検出することと、
1つ以上の座標データ点を記録することであって、前記1つ以上の座標データ点は、前記第2の光ビームの1つ以上の検出を表している、ことと、を備える方法。
適用例7
プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するためのエンドエフェクタ校正システムであって、
前記エンドエフェクタから前記チャックへ第1の光ビームを提供するように構成された光源と、
前記第1の光ビームが前記チャックの表面を走査するように、第1のあらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させるように構成された、ロボットアームと、
反射光信号の集合を受信するように構成されたセンサであって、前記反射光信号の集合は、少なくとも、移動時に前記表面が前記第1の光ビームを反射するときに生成される、センサと、
処理ユニットであって、
3つ以上の不連続性を特定するために、前記反射光信号の集合を分析することであって、前記3つ以上の不連続性は、前記第1の光ビームが前記チャックの縁に当たるときに生成される3つ以上の反射光信号に関係している、ことと、
前記3つ以上の不連続性に基づいて3つ以上の座標データ点を決定することであって、前記3つ以上の座標データ点は、前記チャックの前記縁上の3つ以上の点を表している、ことと、
前記3つ以上の座標データ点に基づいて前記チャックの中心を決定することと、
の少なくとも1つのために構成された処理ユニットと、を備えるシステム。
適用例8
適用例7のシステムであって、
前記光源は、前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心に装着されるように構成される、システム。
適用例9
適用例7のシステムであって、
前記光源は、前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心から既知の隔離距離の位置に装着されるように構成される、システム。
適用例10
適用例7のシステムであって、
前記センサの少なくとも一部分は、プラズマ処理チャンバの内側に実装される、システム。
適用例11
適用例7のシステムであって、
前記3つ以上の不連続性は、4つ以上の不連続性である、システム。
適用例12
適用例7の方法であって、さらに、
第2の光ビームが前記チャックの上面から所定の高さにおいて前記チャックの前記上面に平行に伝送されるように、前記第2の光ビームを提供するための、第2の光源を備え、
前記ロボットアームは、第2のあらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させるようにも構成され、
前記センサおよび前記エンドエフェクタに装着された第2のセンサの少なくとも1つは、前記第2の光ビームが当たるときに前記第2の光ビームを検出するように構成され、
前記処理ユニットは、1つ以上の座標データ点を記録するようにも構成され、前記1つ以上の座標データ点は、前記第2の光ビームの1つ以上の検出を表している、システム。
適用例13
プラズマ処理チャンバにおいて、チャックの上面に対するエンドエフェクタの垂直位置を校正するための方法であって、
光ビームが前記チャックの上面から所定の高さにおいて前記チャックの前記上面に平行に伝送されるように、前記光ビームを提供することと、
あらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させることと、
前記エンドエフェクタに装着されたセンサに前記光ビームが当たるときに、前記光ビームを検出することと、
1つ以上の座標データ点を記録することであって、前記1つ以上の座標データ点は、前記光ビームの1つ以上の検出を表している、ことと、
を備える方法。
適用例14
適用例13の方法であって、さらに、
前記光ビームを生成するために、前記チャックの前記上面から前記所望の高さにおいて処理モジュールの内壁に光源を装着することを備える方法。
適用例15
適用例13の方法であって、さらに、
前記光ビームを生成するために、処理モジュールの内側に光源の少なくとも一部分を装着することを備える方法。
Claims (15)
- プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するための方法であって、
前記エンドエフェクタから前記チャックへ第1の光ビームを提供することと、
前記第1の光ビームが前記チャックの表面を走査するように、あらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させることと、
反射光信号の集合を受信することであって、前記反射光信号の集合は、少なくとも、移動時に前記表面が前記第1の光ビームを反射するときに生成される、ことと、
3つ以上の不連続性を特定するために、前記反射光信号の集合を分析することであって、前記3つ以上の不連続性は、前記第1の光ビームが前記チャックの縁に当たるときに生成される3つ以上の反射光信号に関係している、ことと、
前記3つ以上の不連続性に基づいて3つ以上の座標データ点を決定することであって、前記3つ以上の座標データ点は、前記チャックの前記縁上の3つ以上の点を表している、ことと、
前記3つ以上の座標データ点に基づいて前記チャックの中心を決定することと、を備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、さらに、
前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心に光源を装着することを備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、さらに、
前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心から既知の隔離距離の位置に光源を装着することを備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記3つ以上の不連続性は、4つ以上の不連続性である、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、さらに、
ロボットコントローラが前記チャックの前記中心に対して前記エンドエフェクタを校正することを可能にするために、前記ロボットコントローラに前記チャックの前記中心を提供することを備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、さらに、
第2の光ビームが前記チャックの上面から所定の高さにおいて前記チャックの前記上面に平行に伝送されるように、前記第2の光ビームを提供することと、
第2のあらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させることと、
前記エンドエフェクタに装着されたセンサに前記第2の光ビームが当たるときに、前記第2の光ビームを検出することと、
1つ以上の座標データ点を記録することであって、前記1つ以上の座標データ点は、前記第2の光ビームの1つ以上の検出を表している、ことと、を備える方法。 - プラズマ処理システムにおいてチャックに対するエンドエフェクタのアラインメントを校正するためのエンドエフェクタ校正システムであって、
前記エンドエフェクタから前記チャックへ第1の光ビームを提供するように構成された光源と、
前記第1の光ビームが前記チャックの表面を走査するように、第1のあらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させるように構成された、ロボットアームと、
反射光信号の集合を受信するように構成されたセンサであって、前記反射光信号の集合は、少なくとも、移動時に前記表面が前記第1の光ビームを反射するときに生成される、センサと、
処理ユニットであって、
3つ以上の不連続性を特定するために、前記反射光信号の集合を分析することであって、前記3つ以上の不連続性は、前記第1の光ビームが前記チャックの縁に当たるときに生成される3つ以上の反射光信号に関係している、ことと、
前記3つ以上の不連続性に基づいて3つ以上の座標データ点を決定することであって、前記3つ以上の座標データ点は、前記チャックの前記縁上の3つ以上の点を表している、ことと、
前記3つ以上の座標データ点に基づいて前記チャックの中心を決定することと、
のために構成された処理ユニットと、を備えるシステム。 - 請求項7に記載のシステムであって、
前記光源は、前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心に装着されるように構成される、システム。 - 請求項7に記載のシステムであって、
前記光源は、前記第1の光ビームを生成するために、前記エンドエフェクタのエンドエフェクタ規定中心から既知の隔離距離の位置に装着されるように構成される、システム。 - 請求項7に記載のシステムであって、
前記センサの少なくとも一部分は、プラズマ処理チャンバの内側に実装される、システム。 - 請求項7に記載のシステムであって、
前記3つ以上の不連続性は、4つ以上の不連続性である、システム。 - 請求項7に記載のシステムであって、さらに、
第2の光ビームが前記チャックの上面から所定の高さにおいて前記チャックの前記上面に平行に伝送されるように、前記第2の光ビームを提供するための、第2の光源を備え、
前記ロボットアームは、第2のあらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させるようにも構成され、
前記エンドエフェクタに装着された第2のセンサは、前記第2の光ビームが当たるときに前記第2の光ビームを検出するように構成され、
前記処理ユニットは、1つ以上の座標データ点を記録するようにも構成され、前記1つ以上の座標データ点は、前記第2の光ビームの1つ以上の検出を表している、システム。 - 請求項1に記載の方法であって、
第2の光ビームが前記チャックの上面から所定の高さにおいて前記チャックの前記上面に平行に伝送されるように、前記第2の光ビームを提供することと、
第2のあらかじめ定められた校正経路に沿って前記エンドエフェクタを移動させることと、
前記エンドエフェクタに装着されたセンサに前記第2の光ビームが当たるときに、前記第2の光ビームを検出することと、
1つ以上の座標データ点を記録することであって、前記1つ以上の座標データ点は、前記第2の光ビームの1つ以上の検出を表している、ことと、
を備える方法。 - 請求項13に記載の方法であって、さらに、
前記第2の光ビームを生成するために、前記チャックの前記上面から前記所定の高さにおいて処理モジュールの内壁に光源を装着することを備える方法。 - 請求項13に記載の方法であって、さらに、
前記第2の光ビームを生成するために、処理モジュールの内側に光源の少なくとも一部分を装着することを備える方法。
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