JP5407949B2 - 不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法 - Google Patents

不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5407949B2
JP5407949B2 JP2010054200A JP2010054200A JP5407949B2 JP 5407949 B2 JP5407949 B2 JP 5407949B2 JP 2010054200 A JP2010054200 A JP 2010054200A JP 2010054200 A JP2010054200 A JP 2010054200A JP 5407949 B2 JP5407949 B2 JP 5407949B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
voltage
memory cell
isp
write
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010054200A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011187145A (ja
Inventor
憲太郎 小方
智博 浪瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2010054200A priority Critical patent/JP5407949B2/ja
Publication of JP2011187145A publication Critical patent/JP2011187145A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5407949B2 publication Critical patent/JP5407949B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Description

本発明は、メモリセルを備えた不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法に関し、特にベリファイ動作に基づいてメモリセルへデータの再書き込みを行う不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法に関する。
従来の記憶装置、特に不揮発性記憶装置は、記憶データを保持するための電力が不要であることから、近年、盛んに用いられるようになっている。特に、携帯電話装置を含む、携帯用の端末装置には、メモリとして不揮発性記憶装置が多く用いられている。不揮発性記憶装置として、例えば、フラッシュメモリ、FeRAM(Ferroelectric Random Access Memory;強誘電体メモリ)や、MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory;磁気記憶素子)などが知られている。FeRAMやMRAMは、抵抗変化型の不揮発性記憶装置であり、高速化の観点などから注目されている不揮発性記憶装置である。
このような不揮発性記憶装置では、多数のメモリセルに同時にデータが書き込まれることになる。しかし、メモリセルの微細化が進むに従い、メモリセル間での書き込み特性のばらつき度合いが大きくなる。そのため、全てのメモリセルに対して同じ書き込み時間でデータの書き込みを行うと、書き込み後のメモリセルの閾値電圧の分布幅が大きくなってしまう。このように書き込み後のメモリセルの閾値電圧の分布幅が大きい場合、読み出し時に選択されないワード線の電圧を増加させなければならず、消費電力が増加してしまうことになる。
そこで、従来の不揮発性記憶装置では、インクリメンタル型ステップパルスプログラム(ISP:Incremental Step Pulse Programming)方式と呼ばれるデータの書き込み動作が採用されている(例えば、特許文献1参照)。
ISP方式では、図6に示すように、書き込み動作(プログラム動作)とベリファイ動作(検証読み出し動作)からなるプログラムループを、書き込み電圧VpgmをΔVずつ上昇させながら繰り返し行う。そして、閾値電圧が所定電圧となったメモリセルに対してはその後の書き込み動作を行わないようにし、書き込み対象の全てのメモリセルの閾値電圧が所定電圧となったときに、書き込みを終了する。なお、書き込み動作とは書き込み電圧Vpgmをメモリセルに書き込む動作であり、ベリファイ動作とはメモリセルの閾値電圧が所定電圧となったか否かを判定する動作である。
このISP方式では、データの書き込みを行うときに、プログラムループを繰り返す毎に書き込み電圧VpgmをΔVだけ電圧を上昇させる。そのため、データの書き込み途中で、書き込み電圧Vpgmを上昇させるための動作が可変電源回路において発生する。通常は書き込み動作後、ベリファイ動作を行っている最中に、次の書き込み電圧Vpgmへの昇圧動作が可変電源回路において行われる。
ところで、従来の不揮発性記憶装置ではデータの書き込みを行う際に、ベリファイ動作を行う必要があり、トータルの書き込み時間が長くなるという問題がある。この問題の対策として、特許文献2では、ベリファイ動作を工夫しトータルのデータ書き込み時間を短くする方法が提案されている。
この特許文献2に記載の技術では、書き込み動作の終了後に書き込み動作時のチャージをそのまま用いてベリファイ動作を行うようにしている。これにより、メモリセルに対して書き込み動作の終了後にベリファイ動作のためのプリチャージをした上でベリファイ動作を行う従来の処理動作に比べ、ベリファイ動作のためのプリチャージを行わない分、トータルの書き込み時間を短縮することができる。以下、かかる処理動作をダイレクトベリファイと呼ぶ。
特開2009−48760号公報 特開2007−133930号公報
しかしながら、上記ISP方式のデータ書き込み動作とダイレクトベリファイとを併用した場合、ダイレクトベリファイによりベリファイ動作が高速に行われるため、可変電源回路の昇圧動作に許される時間が通常ベリファイを行う場合と比べて短くなる。
そのため、この場合には、可変電源回路の能力を通常のベリファイ動作を行う場合よりも大きくする必要がある。
しかし、可変電源回路はその駆動負荷が大きく、また、可変電源回路及び駆動負荷のそれぞれが不揮発性記憶装置内で離れた箇所に点在している場合もある。そのため、高速で書き込み電圧Vpgmを上昇することが難しい。
また、上記ISP方式の動作とダイレクトベリファイとを併用して書き込み動作を行わない場合においても、他の方法によりベリファイ動作を高速に行うような場合には、可変電源回路の能力を通常のベリファイ動作を行う場合より大きくする必要があり、同様の問題が発生する。
本発明は、書き込み電圧の変更時間を短くし、高速化を図ることができる不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、請求項1に係る発明は、不揮発性記憶装置において、複数のワード線及び複数のビット線との交差位置にマトリクス状に配置された複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、前記メモリセルに対して印加される書き込み電圧を生成する複数の電源回路と、前記電源回路により生成される書き込み電圧を前記ワード線又は前記ビット線を介して前記メモリセルに印加してデータを書き込む書き込み動作と、当該書き込み動作を行ったメモリセルの書き込み状態を確認するベリファイ動作とを前記書き込み電圧を上昇させながら繰り返し行って、前記メモリセルへのデータの書き込みを行う制御回路と、を備え、前記制御回路は、前記複数の電源回路から一つの電源回路を順次選択し、当該選択した電源回路が生成する電圧を書き込み電圧として前記ワード線又は前記ビット線を介して前記メモリセルに印加し、前記一つの電源回路が生成する書き込み電圧を前記メモリセルに印加している間に、前記複数の電源回路のうち選択されてない他の電源回路の少なくとも1つが生成する電圧の昇圧動作を開始させることとした。
また、請求項に係る発明は、請求項1に記載の不揮発性記憶装置において、前記制御回路は、前記メモリセルへのデータの書き込みが行われてないときに、前記複数の電源回路のうち一つの電源回路により所定電圧を生成させ、前記メモリセルへのデータの書き込みを開始するときに前記一つの電源回路を最初に選択して、前記所定電圧を書き込み電圧として前記メモリセルに印加することとした。
また、請求項に係る発明は、請求項に記載の不揮発性記憶装置において、前記制御回路は、前記データの書き込みが行われないときには、前記一つの電源回路を除く前記複数の電源回路の動作を停止させることとした。
また、請求項に係る発明は、請求項1〜のいずれか1項に記載の不揮発性記憶装置において、前記複数の電源回路の出力を入力し、前記制御回路による制御によって前記複数の電源回路のうち一つの電源回路が生成した電圧を、前記ワード線又は前記ビット線を介して前記メモリセルに印加する電圧切替え回路を有し、当該電圧切替え回路をマルチプレクサで構成することとした。
また、請求項に係る発明は、ワード線及びビット線との交差位置にマトリクス状に配置されたメモリセルにデータ書き込みを行うデータ書き込みステップを有し、前記データ書き込みステップは、前記ワード線又は前記ビット線を介して書き込み電圧を前記メモリセルに印加してデータを書き込む第1ステップと、前記第1ステップで書き込み動作を行ったメモリセルの書き込み状態を確認するベリファイ動作を行う第2ステップと、を有し、前記第1ステップと前記第2ステップとを前記メモリセルの書き込み状態が所定の状態となるまで前記書き込み電圧を上昇させながら繰り返し行っており、さらに、複数の電源回路から一つの電源回路を順次選択し、当該選択した電源回路が発生する電圧を前記書き込み電圧とし、前記一つの電源回路が生成する書き込み電圧を前記メモリセルに印加している間に、前記複数の電源回路のうち選択されてない他の電源回路の少なくとも1つが生成する電圧の昇圧動作を開始させるステップを有することとした。
本発明によれば、複数の電源回路から一つの電源回路を順次選択し、当該選択した電源回路が発生する電圧をメモリセルへの書き込み電圧としたので、書き込み電圧の変更時間を短くすることができ、これにより、高速化を図ることができる。
本発明の一実施形態に係る不揮発性記憶装置の構成を示す図である。 図1に示すISP用電源回路の構成を示す図である。 図1に示す不揮発性記憶装置の動作例1を説明するための図である。 図1に示す不揮発性記憶装置の動作例2を説明するための図である。 本発明の一実施形態に係る不揮発性記憶装置の他の構成を示す図である。 不揮発性記憶装置のデータ書き込み方法の説明図である。
以下、発明を実施するための形態(以下、「実施形態」とする)について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.不揮発性記憶装置の構成
2.不揮発性記憶装置の動作例1(4つの電源回路使用時)
3.不揮発性記憶装置の動作例2(2つの電源回路使用時)
4.不揮発性記憶装置の変形例
[1. 不揮発性記憶装置の構成]
まず、本実施形態に係る不揮発性記憶装置の構成について説明する。図1は本実施形態に係る不揮発性記憶装置の構成を示す図である。
図1に示すように、本実施形態に係る不揮発性記憶装置1は、メモリセルアレイ10と、制御回路20と、可変電源回路30とを有している。
メモリセルアレイ10は、メモリセルMCをマトリクス状に配列して構成している。メモリセルMCは、例えば、不揮発性記憶装置1が抵抗変化型の不揮発性記憶装置の場合、可変抵抗素子とアクセストランジスタの対でメモリセルMCが構成される。また、メモリセルMCのアクセストランジスタのゲートはワード線WLに接続され、メモリセルMCのアクセストランジスタのドレインはビット線BLに接続されている。このワード線WLは同一行のメモリセルMCに接続され、また、ビット線BLは同一列のメモリセルMCに接続されている。なお、メモリセルは、ワード線WLとビット線BLとの交差位置に配置される。
制御回路20は、ロウデコーダ21、カラム回路22などを備え、ビット線BL(BL0〜BLm)やワード線WL(WL0〜WLn)の電圧を制御して、メモリセルMCへのデータの書き込みやメモリセルMCからのデータの読み出しなどを行う。
ロウデコーダ21とメモリセルアレイ10との間には、ワード線電圧制御用のトランジスタTr10〜Tr1nが設けられており、これらのトランジスタTr10〜Tr1nのゲートに印加される制御電圧VWLにより、各ワード線WLの電圧が制御される。
カラム回路22は、センスアンプ、BLセレクタなどを有している。BLセレクタは、例えば、図示しないアドレスデコーダのデコード結果に基づいてビット線BLを選択してメモリセルMCから記憶しているデータに応じた信号を読み出し、センスアンプは、ビット線BLに読み出された信号を増幅するアンプである。
さらに、本実施形態に係る不揮発性記憶装置1では、制御回路20には電源制御回路23が設けられ、また、可変電源回路30に複数のISP用電源回路PW1〜PWNとベリファイ用電源回路PWVとが設けられており、データ書き込みの高速化及び低消費電力化を図っている。
複数のISP用電源回路PW1〜PWNとベリファイ用電源回路PWVとは選択回路としてのマルチプレクサ24(以下、MUX24という)に接続されている。このMUX24は電源制御回路23により制御され、このMUX24により複数のISP用電源回路PW1〜PWN及びベリファイ用電源回路PWVの出力電圧のうちいずれか一つの出力電圧が選択される。このように選択された出力電圧は、制御電圧VWLとして、トランジスタTr1(Tr10〜Tr1n)のゲートに印加され、ワード線WLを介してメモリセルMCに印加される。
ISP用電源回路PW1〜PWNは可変電源回路となっており、電源制御回路23からの制御により出力電圧を変更することができるようになっている。ここで、ISP用電源回路PW1〜PWNの構成例を図2に示す。なお、以下においては、ISP用電源回路PW1〜PWNの任意の一つ又は全部をいうときにはISP用電源回路PWとする場合がある。
図2に示すように、ISP用電源回路PWは、チャージポンプ型電源電圧変換回路からなる可変電源回路であり、AND回路31と、チャージポンプ回路32と、分圧用抵抗Ro,Rmと、オペアンプ33と、平滑用コンデンサC31とから構成される。
AND回路31は、電源制御回路23から出力されるクロック信号CKとオペアンプ33の出力電圧との論理積をとり、その結果を制御信号としてチャージポンプ回路32へ出力する。
チャージポンプ回路32は、コンデンサとスイッチとを組み合わせることによって入力した電圧を昇圧して出力する機能を有しており、AND回路31から入力される制御信号に応じてスイッチが動作し、制御信号に応じた電圧を出力する。なお、チャージポンプ回路の構成は周知であるため、具体的な説明は省略する。
チャージポンプ回路32の出力は、平滑用コンデンサC31で平滑されて出力電圧Vpとして出力される。また、この出力電圧Vpは、分圧用抵抗Ro,Rmにより分圧されて、オペアンプ33の反転入力端子に入力される。オペアンプ33の非反転入力端子は基準電圧Vrefに接続されており、基準電圧Vrefと出力電圧Vpの分圧電圧との比較結果がオペアンプ33からAND回路31へ出力される。従って、出力電圧Vpは、以下のように表すことができる。
Vp={(Ro+Rm)/Rm}×Vref
ここで、分圧用抵抗Rmは、可変抵抗であり、電源制御回路23からの制御により抵抗値を変更することができ、これにより出力電圧Vpの電圧値の変更が行われる。
以上のように本実施形態に係る不揮発性記憶装置1では、可変電源回路30に複数のISP用電源回路PW1〜PWNとベリファイ用電源回路PWVとが設けられている。そして、電源制御回路23によるMUX24の制御により、複数のISP用電源回路PW1〜PWN及びベリファイ用電源回路PWVのいずれか一つが選択され、その選択された出力電圧Vpは、制御電圧VWLとして、トランジスタTr1のゲートに印加されるようになっている。また、ISP用電源回路PW1〜PWNは可変電源回路となっており、電源制御回路23により電圧調整が可能となっている。
[2.不揮発性記憶装置の動作例1]
次に、本実施形態に係る不揮発性記憶装置1の動作例1を図3を参照して説明する。不揮発性記憶装置1は、ISP方式(図6参照)のデータの書き込みを行っている。すなわち、プログラムループを実行する毎に、トランジスタTr1のゲートに印加する制御電圧VWLを順次上昇させている。この制御電圧VWLは、トランジスタTr1を介して印加されるものであり、メモリセルMCに印加される書き込み電圧Vpgmとなる。なお、以下においては、ISP用電源回路PWが4つの場合の例、すなわち、ISP用電源回路PW1〜PW4により制御電圧VWLが生成され、メモリセルMCへ書き込み電圧Vpgmとして印加される例について説明する。また、ISP用電源回路PW1〜PW4の出力電圧をVp1〜Vp4として説明する。また、x(xは自然数)回目のプログラムループ(書き込み動作及びベリファイ動作)を「ISPステップx」とする。また、ISPステップxの書き込み動作で必要な制御電圧VWLを「ISP_xレベル」とする。
電源制御回路23は、データの書き込み前では、ISP用電源回路PW2〜PW4を停止状態とし、ISP用電源回路PW1から出力電圧Vp1として「ISP_1レベル」の電圧を出力させる。この待機状態において、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2〜PW4を動作停止状態又は電力供給停止状態とする。このようにすることで、ISP用電源回路PW2〜PW4での電力消費を低減又はゼロにし消費電力を低減している。
データの書き込み動作が開始するときに(タイミングt1参照)、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW1から出力電圧Vp1を制御電圧VWLとする。これにより、「ISPステップ1」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。
また、同時に、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2〜PW4を制御して、以降の「ISPステップ2」から「ISPステップ4」までに必要な「ISP_2レベル」から「ISP_4レベル」までの電圧の生成を開始させる。すなわち、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2の出力電圧Vp2が「ISP_2レベル」となるように制御し、ISP用電源回路PW3の出力電圧Vp3が「ISP_3レベル」となるように制御し、ISP用電源回路PW4の出力電圧Vp4が「ISP_4レベル」となるように制御する。
次に、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW2から出力電圧Vp2を制御電圧VWLとする(タイミングt2参照)。このとき、ISP用電源回路PW2の出力電圧Vp2は、「ISPステップ1」の間に「ISP_2レベル」となっている。そのため、「ISPステップ2」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。
次に、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW3から出力電圧Vp3を制御電圧VWLとする(タイミングt3参照)。ISP用電源回路PW3の出力電圧Vp3は、「ISPステップ1,2」の間に「ISP_3レベル」となっている。そのため、「ISPステップ3」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。また、同時に電源制御回路23は、ISP用電源回路PW1の出力電圧Vp1が「ISP_5レベル」となるように制御する。
次に、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW4から出力電圧Vp4を制御電圧VWLとする(タイミングt4参照)。このとき、ISP用電源回路PW4の出力電圧Vp4は、「ISPステップ1〜3」の間に「ISP_4レベル」となっている。そのため、「ISPステップ4」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。また、同時に電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2の出力電圧Vp2が「ISP_6レベル」となるように制御する。
次に、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW1から出力電圧Vp1を制御電圧VWLとする(タイミングt5参照)。ISP用電源回路PW1の出力電圧Vp1は、「ISPステップ3〜4」の間に「ISP_5レベル」となっている。そのため、「ISPステップ5」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。また、同時に電源制御回路23は、ISP用電源回路PW3の出力電圧Vp3が「ISP_7レベル」となるように制御する。
以降、電源制御回路23は、データの書き込みが終了するまで、同様の処理を繰り返して、「ISPステップ6」以降の各ISPステップで必要な制御電圧VWLを出力するようにしている(タイミングt6〜t8参照)。なお、上述においては、書き込み電圧Vpgmのみの説明を行ったが、各ISPステップにおいて、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ベリファイ用電源回路PWVを選択し、ベリファイ電圧をトランジスタTr1のベースに印加している。そして、センスアンプによってビット線BLを介してメモリセルMCから信号が読み出され、メモリセルMCの書き込み状態が検証されることになる。
このように本実施形態に係る不揮発性記憶装置1では、書き込み用の出力電圧Vpを発生するためのISP用電源回路PWが複数設けられている。そして、電源制御回路23により、複数のISP用電源回路PWから一つのISP用電源回路PWを順次選択し、当該選択したISP用電源回路PWが発生する出力電圧VpをトランジスタTr1及びワード線WLを介して書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加する。従って、従来のように一つの可変電源回路の出力電圧を上昇させて行く場合に比べ、書き込み電圧Vpgmの変更を高速に行うことができる。なお、上記構成では、プログラムループの数だけISP用電源回路PWを用いていないが、プログラムループの数だけISP用電源回路PWを設けるようにしてもよい。
また、プログラムループの数だけISP用電源回路PWを用意しない場合には、上記構成にように、電源制御回路23により、選択されていないISP用電源回路PWに対して、書き込み用の出力電圧Vpを上昇させる制御を行うようにしている。これにより、各ISP用電源回路PWの出力電圧Vpの変更を、出力電圧Vpが書き込み用として使用されていない期間に行うことができるため、ISP用電源回路PWのスルーレート以上で、書き込み電圧の変更を高速に行うことができる。例えば、ISP用電源回路PW1は、プログラムループが「ISPステップ1」から「ISPステップ2」に切り替わった後、「ISPステップ5」となるまでのプログラムループ3回分の時間を出力電圧Vpの変更時間として使うことができる。しかも、ISP用電源回路PWの能力を高めることなく、書き込み電圧の変更を高速に行うことができるため、ISP用電源回路PWの設計コストなどを抑えることも可能となる。
さらに、電源制御回路23は、データの書き込み前においては、「ISPステップ1」のプログラムループで使用するISP用電源回路PWを除いたISP用電源回路PWの動作を停止するようにしている。そのため、その能力を高めたISP用電源回路を一つだけ用いた場合に比べて、データの書き込み前の待機状態において、ISP用電源回路PWでの消費電力を低減することができる。
また、複数のISP用電源回路PWの出力電圧Vpの選択をMUX24を用いており、このMUX24で複数のISP用電源回路PWを順番に選択して行くので、ISP用電源回路PWの選択が容易となり、また、ISP用電源回路PWの選択を高速に行うことができる。
また、MUX24からワード線電圧制御用のトランジスタTr1までの配線が長い場合には、トランジスタTr1に近い位置にバッファ回路を設けることで、高速駆動が可能となる。このとき、複数のトランジスタTr1毎に、バッファ回路を設けることで、電源回路PWの駆動負荷をより低減させることができ、これによりさらに高速駆動が可能となる。
また、複数のISP用電源回路PWを用いる本実施形態の書き込み電圧変更方法では、プログラムループ中にISP用電源回路PWの電圧変更のための時間を待つ必要がないため、ダイレクトベリファイを行う場合には、非常に有効となる。ダイレクトベリファイとは、上述したように、書き込み動作の終了後に書き込み動作時の電圧チャージ状態をそのまま利用してベリファイ読出しを行うものであり、ベリファイ動作のためのビット線BLへのプリチャージを行わない分、時間を短縮できる。
[3.不揮発性記憶装置の動作例2]
次に、本実施形態に係る不揮発性記憶装置1の動作例2を図4を参照して説明する。この動作例2では、動作例1と同様に、プログラムループを実行する毎に、トランジスタTr1のゲートに印加する制御電圧VWLを順次上昇させている。この制御電圧VWLは、トランジスタTr1を介して印加されるものであり、メモリセルMCに印加される書き込み電圧Vpgmとなる。また、動作例2では、ISP用電源回路PWが2つの場合の例、すなわち、ISP用電源回路PW1,PW2により制御電圧VWLが生成され、メモリセルMCへ書き込み電圧Vpgmとして印加される例について説明する。また、動作例1と同様に、ISP用電源回路PW1,PW2の出力電圧をVp1,Vp2として説明する。また、x(xは自然数)回目のプログラムループ(書き込み動作及びベリファイ動作)を「ISPステップx」とする。また、ISPステップxの書き込み動作で必要な電圧を「ISP_xレベル」とする。
電源制御回路23は、データの書き込み前では、ISP用電源回路PW2を停止状態とし、ISP用電源回路PW1から出力電圧Vp1として「ISPステップ1」で「ISP_1レベル」の電圧を出力させる。この待機状態において、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2を動作停止状態又は電力供給停止状態とする。このようにすることで、ISP用電源回路PW2での電力消費を低減又はゼロにし消費電力を低減している。
データの書き込み動作が開始するときに(タイミングt11参照)、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW1から出力電圧Vp1を制御電圧VWLとする。これにより、「ISPステップ1」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。
また、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2を制御して、「ISPステップ2」で必要な「ISP_2レベル」の電圧の生成を開始する(タイミングt12参照)。すなわち、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2の出力電圧Vp2が「ISP_2レベル」となるように制御する。
その後、ISP用電源回路PW2の出力電圧Vp2が「ISP_2レベル」となると、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW2から出力電圧Vp2を制御電圧VWLとする(タイミングt13参照)。これにより、「ISPステップ2」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。また、電源制御回路23は、同時に、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW1を制御して、「ISPステップ3」で必要な「ISP_3レベル」の電圧の生成を開始する。
その後、ISP用電源回路PW2の出力電圧Vp1が「ISP_3レベル」となると、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ISP用電源回路PW1から出力電圧Vp1を制御電圧VWLとする(タイミングt14参照)。これにより、「ISPステップ3」のプログラムループの書き込み動作に必要な制御電圧VWLがトランジスタTr1及びワード線WLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加される。また、電源制御回路23は、同時に、電源制御回路23は、ISP用電源回路PW2を制御して、「ISPステップ4」で必要な「ISP_4レベル」の電圧の生成を開始する。
以降、電源制御回路23は、データの書き込みが終了するまで、同様の処理を繰り返して、「ISPステップ4」以降の各ISPステップで必要な制御電圧VWLを出力するようにしている(タイミングt15〜t18参照)。なお、上述においては、書き込み電圧Vpgmのみの説明を行ったが、各ISPステップにおいて、電源制御回路23は、MUX24を制御して、ベリファイ用電源回路PWVを選択し、ベリファイ電圧をトランジスタTr1のベースに印加している。そして、センスアンプによってビット線BLを介してメモリセルMCから信号が読み出され、メモリセルMCの書き込み状態が検証されることになる。
このように動作例2では、書き込み用の出力電圧Vpを発生するためのISP用電源回路PWが2つ設けられている。そして、電源制御回路23は、2つのISP用電源回路PWから交互にISP用電源回路PWを順次選択し、当該選択したISP用電源回路PWが発生する出力電圧VpをトランジスタTr1及びワード線WLを介して書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに印加する。一方、非選択のISP用電源回路PWに対しては、電源制御回路23は、出力電圧Vpを上昇させる制御を行う。このようにすることで、従来のように一つの電源回路の出力電圧を上昇させて行く場合に比べ、書き込み電圧Vpgmの変更を高速に行うことができる。
[4.不揮発性記憶装置の変形例]
上記実施形態では、ワード線WLからメモリセルMCに対して書き込み電圧Vpgmを印加するようにした。しかし、図5に示すように、ISP用電源回路PWとビット線BLとの間にMUX24’とトランジスタTr2を設け、このMUX24’から制御電圧VBLをトランジスタTr2及びビット線BLを介して、書き込み電圧VpgmとしてメモリセルMCに対して印加するようにしてもよい。なお、メモリセルMCに対して書き込み電圧Vpgmがワード線WLではなく、ビット線BLに印加されるだけであり、動作自体は上記実施形態の動作と同様である。
以上、本発明の実施形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明したが、これらは例示であり、当業者の知識に基づいて種々の変形、改良を施した他の形態で本発明を実施することが可能である。
1 不揮発性記憶装置
10 メモリセルアレイ
20 制御回路
21 ロウデコーダ
22 カラム回路
23 電源制御回路
24 マルチプレクサ(MUX)
30 可変電源回路
BL ビット線
WL ワード線
MC メモリセル
PW1〜PW4 ISP用電源
Tr11〜Tr1n,Tr21〜Tr2m トランジスタ

Claims (5)

  1. 複数のワード線及び複数のビット線との交差位置にマトリクス状に配置された複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
    前記メモリセルに対して印加される書き込み電圧を生成する複数の電源回路と、
    前記電源回路により生成される書き込み電圧を前記ワード線又は前記ビット線を介して前記メモリセルに印加してデータを書き込む書き込み動作と、当該書き込み動作を行ったメモリセルの書き込み状態を確認するベリファイ動作とを前記書き込み電圧を上昇させながら繰り返し行って、前記メモリセルへのデータの書き込みを行う制御回路と、を備え、
    前記制御回路は、前記複数の電源回路から一つの電源回路を順次選択し、当該選択した電源回路が生成する電圧を書き込み電圧として前記ワード線又は前記ビット線を介して前記メモリセルに印加し、前記一つの電源回路が生成する書き込み電圧を前記メモリセルに印加している間に、前記複数の電源回路のうち選択されてない他の電源回路の少なくとも1つが生成する電圧の昇圧動作を開始させる
    不揮発性記憶装置。
  2. 前記制御回路は、前記メモリセルへのデータの書き込みが行われてないときに、前記複数の電源回路のうち一つの電源回路により所定電圧を生成させ、前記メモリセルへのデータの書き込みを開始するときに前記一つの電源回路を最初に選択して、前記所定電圧を書き込み電圧として前記メモリセルに印加する
    請求項1に記載の不揮発性記憶装置。
  3. 前記制御回路は、前記データの書き込みが行われないときには、前記一つの電源回路を除く前記複数の電源回路の動作を停止させる
    請求項2に記載の不揮発性記憶装置。
  4. 前記複数の電源回路の出力を入力し、前記制御回路による制御によって前記複数の電源回路のうち一つの電源回路が生成した電圧を前記ワード線又は前記ビット線を介して前記メモリセルに印加する電圧切替え回路を有し、当該電圧切替え回路をマルチプレクサで構成する
    請求項1〜3のいずれか1項に記載の不揮発性記憶装置。
  5. ワード線及びビット線との交差位置にマトリクス状に配置されたメモリセルにデータ書き込みを行うデータ書き込みステップを有し、
    前記データ書き込みステップは、
    前記ワード線又は前記ビット線を介して書き込み電圧を前記メモリセルに印加してデータを書き込む第1ステップと、前記第1ステップで書き込み動作を行ったメモリセルの書き込み状態を確認するベリファイ動作を行う第2ステップとを有し、前記第1ステップと前記第2ステップとを前記メモリセルの書き込み状態が所定の状態となるまで前記書き込み電圧を上昇させながら繰り返し行っており、
    さらに、複数の電源回路から一つの電源回路を順次選択し、当該選択した電源回路が発生する電圧を前記書き込み電圧とし、前記一つの電源回路が生成する書き込み電圧を前記メモリセルに印加している間に、前記複数の電源回路のうち選択されてない他の電源回路の少なくとも1つが生成する電圧の昇圧動作を開始させるステップを有するデータ書き込み方法。
JP2010054200A 2010-03-11 2010-03-11 不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法 Expired - Fee Related JP5407949B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010054200A JP5407949B2 (ja) 2010-03-11 2010-03-11 不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010054200A JP5407949B2 (ja) 2010-03-11 2010-03-11 不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011187145A JP2011187145A (ja) 2011-09-22
JP5407949B2 true JP5407949B2 (ja) 2014-02-05

Family

ID=44793234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010054200A Expired - Fee Related JP5407949B2 (ja) 2010-03-11 2010-03-11 不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5407949B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8686415B2 (en) * 2010-12-17 2014-04-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
JP6444803B2 (ja) * 2015-05-01 2018-12-26 ラピスセミコンダクタ株式会社 書込電圧生成回路及びメモリ装置
JP2018195365A (ja) * 2017-05-19 2018-12-06 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 メモリ装置およびメモリ装置の制御方法
US10685693B2 (en) 2018-07-16 2020-06-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method for writing to magnetic random access memory

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10241388A (ja) * 1996-12-29 1998-09-11 Sony Corp 電圧供給回路および半導体不揮発性記憶装置
JPH11273376A (ja) * 1998-03-25 1999-10-08 Nec Corp 昇圧回路の制御回路及びそれを用いた半導体メモリ装置
JP2001184879A (ja) * 1999-12-21 2001-07-06 Sony Corp 不揮発性メモリのワード線駆動方法及び装置
JP2004178622A (ja) * 2002-11-22 2004-06-24 Ememory Technology Inc 電源供給装置
JP4867297B2 (ja) * 2005-11-08 2012-02-01 ソニー株式会社 記憶装置のベリファイ方法
JP4698638B2 (ja) * 2007-06-04 2011-06-08 スパンション エルエルシー 不揮発性半導体メモリ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011187145A (ja) 2011-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4791806B2 (ja) 半導体記憶装置及びそのデータ書き込み方法
JP4728726B2 (ja) 半導体記憶装置
JP4253312B2 (ja) 半導体記憶装置
KR100967007B1 (ko) 불휘발성 메모리 소자의 프로그램 검증 방법
JP5575243B2 (ja) メモリブロック・スイッチングを改善した半導体メモリ
JP4810350B2 (ja) 半導体記憶装置
KR101211840B1 (ko) 반도체 메모리 장치의 프로그램 방법
US8902666B2 (en) Programming method for nonvolatile memory device
JP2009301616A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP2004185803A (ja) 未プログラムのセル及び過プログラムのセルなしに、均一のしきい値電圧分布を有するフラッシュメモリ装置及びそのプログラム検証方法
JP5827536B2 (ja) 不揮発性メモリ装置及びそのプログラム方法
JP2010040144A (ja) 不揮発性半導体記憶システム
US8451643B2 (en) Semiconductor memory device rewriting data after execution of multiple read operations
JP5992983B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP2009043390A (ja) 不揮発性メモリ装置のソフトプログラム方法
JP2013069408A (ja) 揮発性メモリ装置のマルチレベルセルプログラム方法
JPWO2011043012A1 (ja) 不揮発性半導体記憶装置、信号処理システム、及び信号処理システムの制御方法、並びに不揮発性半導体記憶装置の書き換え方法
KR20140020154A (ko) 반도체 메모리 장치 및 그것의 소거 방법
JP6053080B2 (ja) 不揮発性メモリのための相補型デコーディング
JP5407949B2 (ja) 不揮発性記憶装置及びデータ書き込み方法
JP2010129125A (ja) 多値不揮発性半導体メモリ
KR101218896B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 이의 프로그램 검증 방법
US9595306B2 (en) Control signal generation circuit and non-volatile memory device including the same
KR100880329B1 (ko) 플래시 메모리 소자 및 그 프로그램 방법
KR100891411B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그 독출 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130514

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130621

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131008

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131021

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5407949

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees