JP5407900B2 - 流量測定装置及び流量測定方法 - Google Patents
流量測定装置及び流量測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5407900B2 JP5407900B2 JP2010014725A JP2010014725A JP5407900B2 JP 5407900 B2 JP5407900 B2 JP 5407900B2 JP 2010014725 A JP2010014725 A JP 2010014725A JP 2010014725 A JP2010014725 A JP 2010014725A JP 5407900 B2 JP5407900 B2 JP 5407900B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mist
- exhaust
- imaging
- flow rate
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Measuring Volume Flow (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
前記排気路中にミストを供給するためのミスト供給部と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像するために設けられた撮像部と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果であり、ミスト供給部からミストが供給されてから予め設定した時間が経過した時点において撮像された画像中のミスト群の下流端の位置に基づいて排気流量を推定する推定部と、を備えたことを特徴とする。
また、他の発明は、排気路の排気流量を測定する流量測定装置において、
前記排気路中にミストを供給するためのミスト供給部と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像するために設けられた撮像部と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果に基づき、ミスト供給部からミストが供給されてからミスト群の下流端が予め設定した位置に到達するまでの時間を計測し、この計測時間に基づいて排気流量を推定する推定部と、を備えたことを特徴とする。
さらに他の発明は、排気路の排気流量を測定する流量測定装置において、
前記排気路中にミストを供給するためのミスト供給部と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像するために設けられた撮像部と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果であり、前記撮像部で予め設定された時間だけ連続露光して撮像された画像中のミストが描く軌跡の長さに基づいて排気流量を推定する推定部と、を備えたことを特徴とする。
(a)前記ミスト供給部よりも下流側において、前記排気路を形成する壁部の少なくとも一部が当該排気路の外から内部を覗くことができるように透明部材により構成され、前記撮像部は、この透明部材の外側に設けられていること。
(b)前記排気路は、液処理装置に設けられた排気路であり、この液処理装置は、下部に前記排気路が接続されたカップ体内の基板保持部に基板を水平に保持し、この基板に薬液を供給した状態で基板保持部を回転させて基板を処理する装置であること。
(c)前記カップ体は複数配置され、これら複数のカップ体の下部に各々接続された排気路は共通の排気路に接続され、前記撮像部により撮像されて排気流量の測定対象となる排気路は、前記カップ体と前記共通の排気路との間に位置する排気路であること。
本実施の形態において、流量測定装置8は例えばダンパー71の下流側の位置に配置されており、排気流量の測定の際に利用されるミストがダンパー71による排気流量の調節の妨げとならないようになっている。
以上に説明した処理が他の液処理ユニット21、22においても順次、並行して行われる。
アラームを確認したオペレータは排気流量の検出結果などを確認し、当該アラームの発報した液処理ユニット20、21、22の運転継続の可否やダンパー71などのメンテナンスの要否などを判断することができる。
10 液処理装置
20、21、22
液処理ユニット
200 制御部
3 スピンチャック
4 カップ体
7 排気路
71 ダンパー
72 共通排気路
8 流量測定装置
81 ミスト供給部
82 撮像部
83 照明ランプ
Claims (9)
- 排気路の排気流量を測定する流量測定装置において、
前記排気路中にミストを供給するためのミスト供給部と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像するために設けられた撮像部と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果であり、ミスト供給部からミストが供給されてから予め設定した時間が経過した時点において撮像された画像中のミスト群の下流端の位置に基づいて排気流量を推定する推定部と、を備えたことを特徴とする流量測定装置。 - 排気路の排気流量を測定する流量測定装置において、
前記排気路中にミストを供給するためのミスト供給部と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像するために設けられた撮像部と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果に基づき、ミスト供給部からミストが供給されてからミスト群の下流端が予め設定した位置に到達するまでの時間を計測し、この計測時間に基づいて排気流量を推定する推定部と、を備えたことを特徴とする流量測定装置。 - 排気路の排気流量を測定する流量測定装置において、
前記排気路中にミストを供給するためのミスト供給部と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像するために設けられた撮像部と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果であり、前記撮像部で予め設定された時間だけ連続露光して撮像された画像中のミストが描く軌跡の長さに基づいて排気流量を推定する推定部と、を備えたことを特徴とする流量測定装置。 - 前記ミスト供給部よりも下流側において、前記排気路を形成する壁部の少なくとも一部が当該排気路の外から内部を覗くことができるように透明部材により構成され、
前記撮像部は、この透明部材の外側に設けられていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の流量測定装置。 - 前記排気路は、液処理装置に設けられた排気路であり、
この液処理装置は、下部に前記排気路が接続されたカップ体内の基板保持部に基板を水平に保持し、この基板に薬液を供給した状態で基板保持部を回転させて基板を処理する装置であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の流量測定装置。 - 前記カップ体は複数配置され、これら複数のカップ体の下部に各々接続された排気路は共通の排気路に接続され、
前記撮像部により撮像されて排気流量の測定対象となる排気路は、前記カップ体と前記共通の排気路との間に位置する排気路であることを特徴とする請求項5に記載の流量測定装置。 - 排気路の排気流量を測定する方法において、
ミスト供給部から前記排気路中にミストを供給する工程と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像部により撮像する工程と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果であり、ミスト供給部からミストが供給されてから予め設定した時間が経過した時点において撮像された画像中のミスト群の下流端の位置に基づいて排気流量を推定する工程と、を含むことを特徴とする流量測定方法。 - 排気路の排気流量を測定する方法において、
ミスト供給部から前記排気路中にミストを供給する工程と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像部により撮像する工程と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果に基づきミスト供給部からミストが供給されてからミスト群の下流端が予め設定した位置に到達するまでの時間を計測し、この計測時間に基づいて排気流量を推定する工程と、を含むことを特徴とする流量測定方法。 - 排気路の排気流量を測定する方法において、
ミスト供給部から前記排気路中にミストを供給する工程と、
前記排気路におけるミスト供給部よりも下流側を撮像部により撮像する工程と、
前記ミスト供給部から供給されたミストを前記撮像部により撮像した撮像結果であり前記撮像部で予め設定された時間だけ連続露光して撮像された画像中のミストが描く軌跡の長さに基づいて排気流量を推定する工程と、を含むことを特徴とする流量測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010014725A JP5407900B2 (ja) | 2010-01-26 | 2010-01-26 | 流量測定装置及び流量測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010014725A JP5407900B2 (ja) | 2010-01-26 | 2010-01-26 | 流量測定装置及び流量測定方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011155081A JP2011155081A (ja) | 2011-08-11 |
JP2011155081A5 JP2011155081A5 (ja) | 2011-12-15 |
JP5407900B2 true JP5407900B2 (ja) | 2014-02-05 |
Family
ID=44540850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010014725A Expired - Fee Related JP5407900B2 (ja) | 2010-01-26 | 2010-01-26 | 流量測定装置及び流量測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5407900B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230098868A (ko) * | 2021-11-26 | 2023-07-04 | 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤 | 미스트 유량 측정 장치 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2869567B2 (ja) * | 1989-02-10 | 1999-03-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 流量測定方法およびこれを用いた処理装置,レジスト処理装置 |
JP2982290B2 (ja) * | 1990-11-08 | 1999-11-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 排気装置 |
JPH06109752A (ja) * | 1992-03-16 | 1994-04-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 流体の流れ検知装置 |
JPH10312952A (ja) * | 1997-05-14 | 1998-11-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP4545666B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2010-09-15 | 株式会社フォトロン | 流体計測装置および流体計測方法 |
-
2010
- 2010-01-26 JP JP2010014725A patent/JP5407900B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011155081A (ja) | 2011-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10665481B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method for discharge of processing liquid from nozzle | |
TWI357099B (en) | Polishing apparatus | |
KR101163308B1 (ko) | 성막 장치 및 성막 방법 | |
US9555436B2 (en) | Substrate treating apparatus and substrate treatment method for discharging treatment solution from nozzle to substrate | |
JP2007046156A (ja) | 半導体基板に金属を無電界堆積する装置 | |
JP3584262B2 (ja) | 蛍光x線分析用試料前処理システムおよびそれを備えた蛍光x線分析システム | |
US20170256392A1 (en) | Liquid processing method, substrate processing apparatus, and storage medium | |
JPWO2018030516A1 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | |
JP2011146683A (ja) | 液処理装置、塗布、現像装置、塗布、現像方法、及び記憶媒体 | |
JP4931605B2 (ja) | 半導体基板上へ金属を無電解堆積するための装置 | |
JP5514667B2 (ja) | 回転塗布方法 | |
JP5407900B2 (ja) | 流量測定装置及び流量測定方法 | |
JP2010239013A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP5290837B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2003017384A (ja) | 半導体製造装置、液処理装置、及び液処理装置の運転方法 | |
KR20170077031A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
TWI852412B (zh) | 基板處理裝置 | |
JP7253961B2 (ja) | 基板処理装置及び異常検出方法 | |
KR102301912B1 (ko) | 액 토출 특성 검사 유닛, 액 토출 특성 검사 방법 및 기판 처리 장치 | |
JP7040870B2 (ja) | 基板処理装置、及び基板処理装置の部品検査方法 | |
CN113539888A (zh) | 基板处理装置 | |
TW202405893A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
TW202326884A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
TW202410234A (zh) | 基板處理裝置及膜厚推定方法 | |
KR20230101664A (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130401 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131008 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131021 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5407900 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |