JP5407078B2 - Semiconductor package - Google Patents

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Description

本発明は、半導体パッケージに関し、さらに詳細には、ケースの内部に半導体素子が配設され、該ケースの壁部に該半導体素子を外部機器と電気的に接続するためのフィードスルーを備える半導体パッケージに関する。   The present invention relates to a semiconductor package, and more particularly, a semiconductor package including a semiconductor element disposed inside a case and a feedthrough for electrically connecting the semiconductor element to an external device on a wall portion of the case. About.

発熱する半導体素子、およびその発熱素子を冷却するための冷却素子を有する半導体装置を単一のパッケージに収納した半導体パッケージが知られている(特許文献1参照)。当該半導体パッケージにおいては、パッケージ内における高周波信号の損失および反射を低減し、また、外部から冷却素子に流入する熱を遮断することによって冷却素子における消費電力を抑制し、高効率で低消費電力を図ること等が要求されている。   2. Description of the Related Art A semiconductor package in which a semiconductor device that generates heat and a semiconductor device having a cooling element for cooling the heat generating element are housed in a single package is known (see Patent Document 1). In the semiconductor package, the loss and reflection of high-frequency signals in the package are reduced, and power consumption in the cooling element is suppressed by blocking heat flowing into the cooling element from the outside, so that high efficiency and low power consumption are achieved. Planning is required.

ここで、図5に従来の半導体パッケージ100の例を示す(特許文献1参照)。より詳しくは、半導体パッケージ100は、小型基板106に積置されたレーザを発信するためのレーザダイオード105と、レーザダイオード105を規定温度に維持するための冷却素子103と、これらを格納するためのパッケージ101と、パッケージ101の側壁に貫入されて、レーザダイオード105に入力する高周波信号をパッケージ101外部から内部に導入するフィードスルー102を備えている。フィードスルー102は、セラミック部材上に、導体の信号線路およびグランド線路が形成されることにより構成される。また、小型基板106に積置されたレーザダイオード105は、放熱基板104を介して冷却素子103の上に配置される。フィードスルー102を介してパッケージ内に導入された高周波信号は、フィードスルー102と小型基板106との間に配置される低熱伝導率の部材で構成されるフレキシブル基板111aを通ってレーザダイオード105に入力される。高周波信号の入力に基づいてレーザダイオード105から放射されるレーザは、パッケージ101内部に配置されて、レーザダイオード105から放射されるレーザを平行光線に変換するための第一レンズ121により平行光線とされ、パッケージ101に配設された窓部124を通過してパッケージ101外部に導出される。窓部124は通常、サファイアやガラス部材により形成される。パッケージ外部には、平行なレーザ光線を収束するための第二レンズ122が配置されている。そして、収束されたレーザ光線は、光ファイバ123に入力されて光信号として伝送される。   Here, FIG. 5 shows an example of a conventional semiconductor package 100 (see Patent Document 1). More specifically, the semiconductor package 100 includes a laser diode 105 for transmitting a laser mounted on the small substrate 106, a cooling element 103 for maintaining the laser diode 105 at a specified temperature, and a housing for storing them. The package 101 includes a feedthrough 102 that penetrates into the side wall of the package 101 and introduces a high-frequency signal input to the laser diode 105 from the outside to the inside of the package 101. The feedthrough 102 is configured by forming a conductor signal line and a ground line on a ceramic member. Further, the laser diode 105 placed on the small substrate 106 is disposed on the cooling element 103 via the heat dissipation substrate 104. A high-frequency signal introduced into the package through the feedthrough 102 is input to the laser diode 105 through the flexible substrate 111a formed of a low thermal conductivity member disposed between the feedthrough 102 and the small substrate 106. Is done. A laser emitted from the laser diode 105 based on the input of the high-frequency signal is arranged inside the package 101 and is made into a parallel beam by the first lens 121 for converting the laser emitted from the laser diode 105 into a parallel beam. Then, the light passes through the window 124 provided in the package 101 and is led out of the package 101. The window part 124 is usually formed of sapphire or a glass member. A second lens 122 for converging parallel laser beams is disposed outside the package. The converged laser beam is input to the optical fiber 123 and transmitted as an optical signal.

特開2007−012717号公報JP 2007-012717 A

前述の半導体パッケージ100に例示されるように、設計自由度の高いセラミックのフィードスルーが用いられている場合が多々ある。セラミックは、信頼性が高く、熱伝導率も比較的高く、チップで発熱する熱を外に逃がすという点では非常に優れている素材であると言え、多くのパッケージに採用されている。しかし、パッケージに搭載される半導体素子がレーザダイオードのような発光素子等の場合には、その放熱能力も十分では無く、ペルチェ素子のようなクーラーで強制的に冷やす等の温度コントロールが必要になってくる。
ところで、セラミックのフィードスルーはその素子の電気的特性維持を目的とし、素子の直近まで接近して配設される。より詳しくは、外部から入力される信号に基づいて発光素子から出力される光信号の信号伝送速度が例えば2.5Gbps以上の高速伝送となる場合に、フィードスルーと発光素子とを接続する配線部において伝送損失が増大し、高周波特性が劣化することが知られているが、この劣化を抑えるために、フィードスルーの信号端子と、基板の導体線路とを極力接近させる必要があるからである。
しかし、上記のように、セラミックのフィードスルーが素子の直近まで接近している構造の場合、セラミックの持つ熱伝導率の高さが不利に働く場合がある。セラミックのフィードスルーは、その製造プロセスにより、シート状またはブロック状の構造をしている場合が多く、パッケージの外側の熱も内部に伝えてしまうため、素子直近部分まで接近している部分では、セラミックの放散する熱も無視できなくなるという課題が生じ得る。
As exemplified by the semiconductor package 100 described above, a ceramic feedthrough having a high degree of design freedom is often used. Ceramics are highly reliable, have relatively high thermal conductivity, and are extremely excellent in terms of releasing the heat generated by the chip to the outside, and are used in many packages. However, when the semiconductor element mounted on the package is a light emitting element such as a laser diode, the heat dissipation capability is not sufficient, and it is necessary to control the temperature such as forcibly cooling with a cooler such as a Peltier element. Come.
By the way, the ceramic feedthrough is arranged close to the element for the purpose of maintaining the electrical characteristics of the element. More specifically, when the signal transmission speed of the optical signal output from the light emitting element is high-speed transmission of, for example, 2.5 Gbps or more based on the signal input from the outside, the wiring portion that connects the feedthrough and the light emitting element It is known that the transmission loss increases and the high-frequency characteristics deteriorate, in order to suppress the deterioration, but it is necessary to bring the signal terminal of the feedthrough close to the conductor line of the substrate as much as possible.
However, as described above, when the ceramic feedthrough is close to the element, the high thermal conductivity of the ceramic may be disadvantageous. Ceramic feedthroughs often have a sheet-like or block-like structure depending on the manufacturing process, and heat from the outside of the package is also transferred to the inside. The problem that the heat dissipated by the ceramic cannot be ignored can arise.

本発明は、上記事情に鑑みてなされ、フィードスルーを介してケースの内部に伝播する熱の影響を小さくすることができ、半導体素子の誤作動の防止、および冷却素子への供給電力の抑制が可能な半導体パッケージを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, can reduce the influence of heat propagating through the feedthrough to the inside of the case, prevent the malfunction of the semiconductor element, and suppress the power supplied to the cooling element. An object is to provide a possible semiconductor package.

本発明は、以下に記載するような解決手段により、前記課題を解決する。   The present invention solves the above-described problems by the solving means described below.

この半導体パッケージは、閉空間となるケースの内部に半導体素子が配設され、該ケースの壁部に該半導体素子を外部機器と電気的に接続するためのフィードスルーを備える半導体パッケージであって、前記フィードスルーは、前記壁部の壁面に直交する方向におけるいずれかの位置に他の位置よりも断面積が小さくなる断面積狭小部を有し、該断面積狭小部が前記ケースの外部から内部へ向かう方向における熱伝導を阻害する断熱部となり、前記断面積狭小部は、前記フィードスルーにおける前記ケースの内側の位置に切欠溝、貫通孔、もしくは空孔からなる空隙部を設けることによって形成され、前記空隙部は、前記フィードスルーにおける配線パターンの無い位置に設けられることを要件とする。 The semiconductor package is a semiconductor package in which a semiconductor element is disposed inside a case that becomes a closed space, and a feed-through for electrically connecting the semiconductor element to an external device is provided on a wall portion of the case, The feedthrough has a cross-sectional area narrow portion whose cross-sectional area is smaller than other positions at any position in a direction orthogonal to the wall surface of the wall portion, and the cross-sectional area narrow portion is formed from the outside of the case. It becomes a heat insulating part that hinders heat conduction in the direction toward, and the narrow cross-sectional area part is formed by providing a gap part made up of a notch groove, a through hole, or a hole at a position inside the case in the feedthrough. The gap is required to be provided at a position where there is no wiring pattern in the feedthrough .

本発明によれば、外部からフィードスルーを介してパッケージ内部に侵入する熱伝導を抑制することが可能となり、半導体素子における熱害を防止でき、冷却素子の消費電力を抑制することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to suppress the heat conduction that enters the inside of the package through the feedthrough from the outside, it is possible to prevent thermal damage in the semiconductor element, and it is possible to suppress the power consumption of the cooling element. .

本発明の実施形態に係る半導体パッケージの例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example of the semiconductor package which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る半導体パッケージの例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example of the semiconductor package which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る半導体パッケージの空隙部の構造を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the space | gap part of the semiconductor package which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る半導体パッケージの例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example of the semiconductor package which concerns on embodiment of this invention. 従来の実施形態に係る半導体パッケージの例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example of the semiconductor package which concerns on the conventional embodiment.

図1、図2に、本発明の実施形態に係る半導体パッケージ1の構成を示す。図1は、半導体パッケージ1の蓋部を外した状態の平面図(概略図)であり、図2は、正面断面図(概略図)である。
半導体パッケージ1は、ケース2の内部に半導体素子3が収容されると共に、ケース2の壁部に、半導体素子3を外部機器と電気的に接続するためのフィードスルー10が配設される構造を有する。一例として、半導体素子3は、レーザダイオードのように光を出射する発光素子である。
1 and 2 show a configuration of a semiconductor package 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view (schematic diagram) of the semiconductor package 1 with a lid portion removed, and FIG. 2 is a front sectional view (schematic diagram).
The semiconductor package 1 has a structure in which a semiconductor element 3 is accommodated in a case 2 and a feedthrough 10 for electrically connecting the semiconductor element 3 to an external device is disposed on a wall portion of the case 2. Have. As an example, the semiconductor element 3 is a light emitting element that emits light like a laser diode.

図2に示すように、ケース2は、略長方形の基体2aと、基体2aの周縁部に接合される枠体2bとを備え、内部に半導体素子3等が搭載された後、上部に蓋部(不図示)が接合されて閉空間として構成される。基体2a上には、半導体素子3および図示しない温度センサ等の各種電子部品が、冷却素子5および基板6を介して接着固定される。
ここで、基体2aはCu−W合金等からなる。Cu−W合金は熱放散性が良好であり、他の部材に使用されるFe−Ni−Co合金(コバール)やセラミックと熱膨張係数が近似するという点で好適である。また、枠体2bは、Fe−Ni−Co合金等から成り、公知の切削加工法やプレス加工法等の加工方法を用いて所定の枠状に形成される。なお、枠体2bはセラミック等の絶縁体でも構わない。さらに、基体2aおよび枠体2bを一体に形成しても構わない。
As shown in FIG. 2, the case 2 includes a substantially rectangular base body 2a and a frame body 2b joined to the peripheral edge of the base body 2a. (Not shown) are joined to form a closed space. Various electronic components such as the semiconductor element 3 and a temperature sensor (not shown) are bonded and fixed on the base 2 a via the cooling element 5 and the substrate 6.
Here, the base 2a is made of a Cu—W alloy or the like. The Cu—W alloy has a good heat dissipation and is suitable in that the thermal expansion coefficient is close to that of an Fe—Ni—Co alloy (Kovar) or ceramic used for other members. The frame 2b is made of an Fe—Ni—Co alloy or the like, and is formed in a predetermined frame shape using a known machining method such as a cutting method or a press method. The frame 2b may be an insulator such as ceramic. Further, the base body 2a and the frame body 2b may be integrally formed.

ここで、符号4は半導体素子3等を上面に載置して、当該素子等からの熱を伝導させる熱伝導金属ブロックである。冷却素子5を用いて熱伝導金属ブロック4を冷却することによって、半導体素子3等が冷却される作用が得られる。
より詳しくは、半導体素子3として用いられるレーザダイオード等の発光素子は発光することにより発熱する。そのため、冷却素子5を用いた冷却が必要となる。ここで、冷却素子5としては、例えば、ペルチェ効果を利用するペルチェ素子が用いられて、電圧の印加によって冷却作用を得ることができる。なお、温度制御は、外部機器(駆動回路)からフィードスルー10(後述)を通じて送られる制御信号によって行われ、冷却素子(ペルチェ素子)5に印加する電圧を変えることによって冷却能力が調整される。
Here, reference numeral 4 denotes a thermally conductive metal block that places the semiconductor element 3 or the like on the upper surface and conducts heat from the element or the like. By cooling the heat conductive metal block 4 using the cooling element 5, the effect | action which the semiconductor element 3 grade | etc., Is cooled is acquired.
More specifically, the light emitting element such as a laser diode used as a semiconductor element 3 generates heat by light. Therefore, cooling using the cooling element 5 is required. Here, as the cooling element 5, for example, a Peltier element utilizing the Peltier effect is used, and a cooling action can be obtained by applying a voltage. The temperature control is performed by a control signal sent from an external device (drive circuit) through a feedthrough 10 (described later), and the cooling capacity is adjusted by changing the voltage applied to the cooling element (Peltier element) 5.

さらに、ケース2の側壁部には、集光レンズ8や光ファイバ(不図示)を固定するための窓部が設けられる。集光レンズ8は、一例として、サファイア、ガラス等の透光性材料からなり、半導体素子(発光素子)3で出射された光は、集光レンズ8で集光され、光ファイバを通じてパッケージ外部へ伝達される(図1、図2の矢印L方向)。
なお、光を出射するための発振制御は、外部機器(駆動回路)からフィードスルー10(後述)を通じて半導体素子(発光素子)3に送られる制御信号により制御される。より詳しくは、外部からの信号はフィードスルー10(後述)を通じてケース2の内部に導入され、ボンディングワイヤ7によって、半導体素子(発光素子)3に伝達される。これにより半導体素子(発光素子)3は、外部からの入力信号に応じて発振動作を行い、光信号を出射する。この光信号は窓部の集光レンズ8で集光され、集光された光は図示しないインタフェースの光ファイバ等を介して外部に出力される。
ここで、入力信号は2.5Gbps以上(例えば10Gbps)の高周波であるため、フィードスルー10と半導体素子3とを接続するボンディングワイヤ7をできる限り短くして、インダクタンス成分を抑制することが要求される。
Further, the side wall portion of the case 2 is provided with a window portion for fixing the condenser lens 8 and an optical fiber (not shown). For example, the condenser lens 8 is made of a light-transmitting material such as sapphire or glass, and the light emitted from the semiconductor element (light emitting element) 3 is condensed by the condenser lens 8 and is sent to the outside of the package through the optical fiber. Is transmitted (in the direction of arrow L in FIGS. 1 and 2).
The oscillation control for emitting light is controlled by a control signal sent from an external device (drive circuit) to the semiconductor element (light emitting element) 3 through a feedthrough 10 (described later). More specifically, an external signal is introduced into the case 2 through a feedthrough 10 (described later), and transmitted to the semiconductor element (light emitting element) 3 by a bonding wire 7. Thereby, the semiconductor element (light emitting element) 3 performs an oscillation operation in response to an input signal from the outside, and emits an optical signal. This optical signal is collected by the condensing lens 8 in the window, and the collected light is output to the outside through an optical fiber of an interface (not shown).
Here, since the input signal has a high frequency of 2.5 Gbps or more (for example, 10 Gbps), it is required to suppress the inductance component by shortening the bonding wire 7 connecting the feedthrough 10 and the semiconductor element 3 as much as possible. The

一方、ケース2の他の側壁部には、フィードスルー10が嵌め込まれて接合される。フィードスルー10は、ケース2の内部に配設される半導体素子3、冷却素子5および各種電子部品と、外部機器(例えば駆動回路等)とを接続する機能を有するものであって、リード端子11、およびリード端子11と半導体素子3等との接続用のメタライズ配線層12が設けられている。
なお、本実施形態においては、側壁部すなわち枠体2bによってフィードスルー10が支持されるが、側壁部以外の例えば底部(基体2a)によってフィードスルー10が支持される構造としてもよい。
On the other hand, the feedthrough 10 is fitted and joined to the other side wall of the case 2. The feedthrough 10 has a function of connecting the semiconductor element 3, the cooling element 5, and various electronic components disposed inside the case 2 to an external device (for example, a drive circuit), and has a lead terminal 11. And a metallized wiring layer 12 for connecting the lead terminal 11 and the semiconductor element 3 and the like.
In the present embodiment, the feedthrough 10 is supported by the side wall, that is, the frame 2b. However, the feedthrough 10 may be supported by, for example, the bottom (base 2a) other than the side wall.

本実施形態におけるフィードスルー10は、セラミック材料を用いて形成される。一例として、アルミナ、酸化珪素(SiO2 )、酸化カルシウム(CaO)、酸化マグネシウム(MgO)等の原料粉末に樹脂バインダや溶剤等を添加混合して泥漿状とし、これを公知のドクターブレード法等によりシート状とすることによって複数枚のセラミックシート10a〜10dを作製し、その後セラミックシートに打ち抜き加工を施してこれらを積層し、1500[℃]程度の高温で焼成して形成される。すなわち、セラミックシート10a〜10dが焼成により結合して、一体構造のフィードスルー10となる。 The feedthrough 10 in the present embodiment is formed using a ceramic material. As an example, a resin binder, a solvent, or the like is added to and mixed with raw material powders such as alumina, silicon oxide (SiO 2 ), calcium oxide (CaO), magnesium oxide (MgO), etc., and this is made into a mud-like shape. Thus, a plurality of ceramic sheets 10a to 10d are produced by forming into a sheet shape, and then the ceramic sheets are punched and laminated, and fired at a high temperature of about 1500 [° C.]. That is, the ceramic sheets 10a to 10d are combined by firing to form an integrated feedthrough 10.

また、リード端子11は、Fe−Ni−Co合金、Fe−Ni合金等の金属材料からなり、光半導体素子3を図示しない外部機器(駆動回路等)に電気的に接続する作用をなす。一例として、リード端子11は、Fe−Ni−Co合金からなる板材に打ち抜き加工、エッチング加工等を施すことによって所定形状に形成される。   The lead terminal 11 is made of a metal material such as an Fe—Ni—Co alloy or an Fe—Ni alloy, and serves to electrically connect the optical semiconductor element 3 to an external device (such as a drive circuit) not shown. As an example, the lead terminal 11 is formed into a predetermined shape by punching, etching, or the like on a plate material made of an Fe—Ni—Co alloy.

また、メタライズ配線層12は、その一端側が、ボンディングワイヤ7を介して、半導体素子3の電極、冷却素子5の電極および各種電子部品(不図示)等の電極、基板6の電極等に接続され、他端側が、銀ロウ等の金属ロウ材を介して、リード端子11と接続される。当該リード端子11が外部機器に接続されることによって、半導体素子3、冷却素子5および各種電子部品、基板6等が外部と接続される。
一例として、メタライズ配線層12はW、Mo、Mn等の高融点金属の粉末を含有する金属ペーストを焼成して形成される。より詳しくは、例えばW粉末やMn粉末等の金属粉末に有機樹脂バインダや溶剤を添加混合して得た金属ペーストを、フィードスルー10用に作製される前記セラミックシートに公知のスクリーン印刷法等により所定パターンに印刷塗布した後に焼成することで、フィードスルー10の所定位置に被着形成される。
Further, one end side of the metallized wiring layer 12 is connected to the electrode of the semiconductor element 3, the electrode of the cooling element 5, the electrode of various electronic components (not shown), the electrode of the substrate 6, etc. via the bonding wire 7. The other end side is connected to the lead terminal 11 via a metal brazing material such as silver brazing. By connecting the lead terminal 11 to an external device, the semiconductor element 3, the cooling element 5, various electronic components, the substrate 6, and the like are connected to the outside.
As an example, the metallized wiring layer 12 is formed by firing a metal paste containing a powder of a refractory metal such as W, Mo, or Mn. More specifically, for example, a metal paste obtained by adding and mixing an organic resin binder or a solvent to a metal powder such as W powder or Mn powder is applied to the ceramic sheet produced for the feedthrough 10 by a known screen printing method or the like. By baking after applying and applying a predetermined pattern, the feedthrough 10 is deposited at a predetermined position.

前述のように、フィードスルー10と半導体素子3とを接続するボンディングワイヤ7をできる限り短くする必要があるために、フィードスルー10は、できる限り半導体素子3に近接させた構造とすることが要求される。しかしながら、セラミックのように熱伝導率が高い材料を用いて形成されるフィードスルー10においては、半導体パッケージ1の外側の熱をパッケージ内部(ケース2内部)に伝えてしまう作用が生じ、パッケージ内部(ケース2内部)の温度上昇を招いてしまうという課題が生じる。その結果、フィードスルー10と半導体素子3とが接近している部分では、フィードスルー10の放散する熱によって半導体素子3に熱害が生じるおそれがある。当然、パッケージ内部(ケース2内部)の温度上昇により、冷却素子5における消費電力の増加という課題も生じる。
そこで、本実施形態に係るフィードスルー10は、特徴的構成として、ケース2の外部から内部へ向かう方向における熱伝導を阻害する断熱部を有し、上記課題の解決を可能としている。当該断熱部は、フィードスルー10において、断面積が小さくなる断面積狭小部を形成することによって設けられる。すなわち、熱伝導は断面積が小さいほど抑制されることから、断面積が小さくなる箇所を設けて熱伝導を阻害する作用を得るものである。したがって、断熱部すなわち断面積狭小部は、ケース2の外部から内部への伝熱を抑制する目的上、ケース2の内側(枠体2bの枠内)の位置に設けることが好適である。
なお、本実施形態における断熱部は、ケース2の外部から内部へ向かう方向における熱伝導の阻害を目的としているが、当然に、断熱部が逆方向(ケース2の内部から外部へ向かう方向)に対しても熱伝導の阻害作用を奏することは言うまでもない。
As described above, since it is necessary to make the bonding wire 7 connecting the feedthrough 10 and the semiconductor element 3 as short as possible, the feedthrough 10 is required to have a structure as close to the semiconductor element 3 as possible. Is done. However, in the feedthrough 10 formed using a material having a high thermal conductivity such as ceramic, an action of transferring heat outside the semiconductor package 1 to the inside of the package (inside the case 2) occurs, and the inside of the package ( There arises a problem that the temperature inside the case 2 is increased. As a result, in the part where the feedthrough 10 and the semiconductor element 3 are close to each other, there is a possibility that the semiconductor element 3 may be thermally damaged by the heat dissipated by the feedthrough 10. Of course, the problem of an increase in power consumption in the cooling element 5 also arises due to a temperature rise inside the package (inside the case 2).
Therefore, the feedthrough 10 according to the present embodiment has a heat insulating portion that inhibits heat conduction in the direction from the outside to the inside of the case 2 as a characteristic configuration, and can solve the above problems. The heat insulating portion is provided in the feedthrough 10 by forming a narrow cross-sectional area portion with a small cross-sectional area. That is, since heat conduction is suppressed as the cross-sectional area is small, a portion having a small cross-sectional area is provided to obtain an effect of inhibiting heat conduction. Therefore, for the purpose of suppressing heat transfer from the outside to the inside of the case 2, it is preferable to provide the heat insulating portion, that is, the narrow cross-sectional area portion, at a position inside the case 2 (inside the frame of the frame body 2 b).
In addition, although the heat insulation part in this embodiment aims at inhibition of the heat conduction in the direction which goes to the inside from the exterior of case 2, naturally, a heat insulation part is the reverse direction (direction which goes to the exterior from the inside of case 2). Needless to say, it also has an effect of inhibiting heat conduction.

断面積狭小部の具体的な形成例を、図3の説明図を用いて説明する。なお、図3はフィードスルー10を上面から視て断面積狭小部を示す説明図であり、構造の説明を目的とする図であるため、断面積狭小部の配設位置に関して図2と完全に一致するものではない。
断熱部としての断面積狭小部は、フィードスルー10において、ケース2の外部から内部へ向かう方向、すなわち、ケース2の側壁部(ここでは枠体2a)の壁面に直交する方向(図3の矢印T方向)におけるいずれかの位置に他の位置よりも断面積が小さくなるようにして形成される。
本実施形体においては、断面積狭小部は、フィードスルー10に切欠溝、貫通孔、もしくは空孔からなる空隙部を設けることによって形成される。なお、いずれも、ケース2の内側の位置に形成される。
A specific example of forming the narrow cross-sectional area will be described with reference to FIG. Note that FIG. 3 is an explanatory view showing the narrow cross-sectional area when the feedthrough 10 is viewed from above, and is a view for explaining the structure. Therefore, the arrangement position of the narrow cross-sectional area is completely the same as FIG. It doesn't match.
In the feedthrough 10, the narrow cross-sectional area as the heat insulating portion is a direction from the outside to the inside of the case 2, that is, a direction orthogonal to the wall surface of the side wall portion (here, the frame body 2 a) of the case 2 (arrow in FIG. 3). It is formed at any position in the (T direction) so that the cross-sectional area becomes smaller than other positions.
In this embodiment, the narrow cross-sectional area is formed by providing the feedthrough 10 with a gap formed by a cutout groove, a through hole, or a hole. Note that both are formed at a position inside the case 2.

第1実施例として、図3のA−A線位置に示すように、フィードスルー10に貫通孔(スルーホール)13を設けることによって、断面積狭小部を形成する。これにより、矢印T方向におけるA−A線位置の断面積は、その前後位置の断面積よりも小さくすることができる。
貫通孔13の形成方法としては、前述のフィードスルー10形成方法において、すなわち、アルミナに溶剤等を添加混合して泥漿状とし、これをシート状とすることによって複数枚のセラミックシート10a〜10dを作製した後、各シートの面内における同一位置に打ち抜き加工を施してこれらを積層し、焼成することによって、フィードスルー10全体を貫通するスルーホールとして形成することができる。
As a first embodiment, as shown at the position AA in FIG. 3, a through hole (through hole) 13 is provided in the feedthrough 10 to form a narrow cross-sectional area. Thereby, the cross-sectional area of the AA line position in the arrow T direction can be made smaller than the cross-sectional area of the front-rear position.
As a method for forming the through-hole 13, in the above-described method for forming the feedthrough 10, that is, a solvent or the like is added to and mixed with alumina to form a mud, and this is formed into a sheet to form a plurality of ceramic sheets 10a to 10d. After the production, punching is performed at the same position in the surface of each sheet, and these are laminated and fired to form a through hole penetrating the entire feedthrough 10.

第2実施例として、図3のB−B線位置に示すように、フィードスルー10に長孔状の貫通孔(スリット)14を設けることによって、断面積狭小部を形成する。これにより、矢印T方向におけるB−B線位置の断面積は、その前後位置の断面積よりも小さくすることができる。
貫通孔14の形成方法は、基本的に前記貫通孔13の形成方法と同一であるが、丸孔状に代えて長孔状に打ち抜き加工をする点で相違する。
As a second embodiment, a narrow cross-sectional area is formed by providing a long through hole (slit) 14 in the feedthrough 10 as shown in the position of line BB in FIG. Thereby, the cross-sectional area of the BB line position in the arrow T direction can be made smaller than the cross-sectional area of the front-rear position.
The method of forming the through hole 14 is basically the same as the method of forming the through hole 13, but differs in that it is punched into a long hole instead of a round hole.

第3実施例として、図3のC−C線位置に示すように、フィードスルー10に空孔15を設けることによって、断面積狭小部を形成する。すなわち、空孔15は、貫通孔13、貫通孔14と相違して、フィードスルー10の上下方向(基体2aにおける基板6載置面に直交する方向)において、フィードスルー10全体を貫通せずに形成された空隙部(図2参照)である趣旨である。これにより、矢印T方向におけるC−C線位置の断面積は、その前後位置の断面積よりも小さくすることができる。
空孔15の形成方法としては、前述のフィードスルー10形成方法において、すなわち、アルミナに溶剤等を添加混合して泥漿状とし、これをシート状とすることによって複数枚のセラミックシート10a〜10dを作製した後、所定のシートのみに打ち抜き加工を施して、つまり、各シートごとに面内における打ち抜き位置を変えて打ち抜き加工を施して、これらを積層し、焼成することによって、各シートごとに該シートを貫通するスルーホールとして形成することができ、フィードスルー10全体としてみれば空孔として形成することができる。したがって、当該空孔15が形成されるセラミックシート内においては、貫通孔(スルーホール)であると捉えることもできる。もちろん、貫通孔状に打ち抜き加工をせずに、溝状にプレス加工をして形成してもよい。
As a third embodiment, as shown in the CC line position in FIG. 3, a hole 15 is provided in the feedthrough 10 to form a narrow cross-sectional area. That is, unlike the through hole 13 and the through hole 14, the air hole 15 does not penetrate through the entire feedthrough 10 in the vertical direction of the feedthrough 10 (direction perpendicular to the substrate 6 mounting surface in the base 2 a). The purpose is the formed void (see FIG. 2). Thereby, the cross-sectional area of the CC line position in the arrow T direction can be made smaller than the cross-sectional area of the front-rear position.
As the method for forming the holes 15, in the above-described feedthrough 10 forming method, that is, by adding a solvent or the like to alumina to form a slurry, and forming this into a sheet, a plurality of ceramic sheets 10a to 10d are formed. After producing, punching is performed only on a predetermined sheet, that is, punching is performed by changing the in-plane punching position for each sheet, and by laminating and firing, each sheet is subjected to the punching process. It can be formed as a through hole penetrating the sheet, and can be formed as a hole when viewed as the entire feedthrough 10. Therefore, in the ceramic sheet in which the hole 15 is formed, it can be regarded as a through hole (through hole). Of course, it may be formed by pressing into a groove without punching into a through hole.

第4実施例として、図3のD−D線位置に示すように、フィードスルー10に切欠溝16を設けることによって、断面積狭小部を形成する。これにより、矢印T方向におけるD−D線位置の断面積は、その前後位置の断面積よりも小さくすることができる。
切欠溝16の形成方法としては、前述のフィードスルー10形成方法において、すなわち、アルミナに溶剤等を添加混合して泥漿状とし、これをシート状とすることによって複数枚のセラミックシート10a〜10dを作製した後、例えば最下層のシート10dの下面において、矢印B方向と直交する方向に溝を形成する加工(例えばプレス加工等)を施してこれらを積層し、焼成することによって、フィードスルー10に切欠溝を形成することができる。
As a fourth embodiment, as shown in the DD line position in FIG. 3, the cut-through groove 16 is provided in the feedthrough 10 to form a narrow cross-sectional area. Thereby, the cross-sectional area of the DD line position in the arrow T direction can be made smaller than the cross-sectional area of the front-rear position.
As a method of forming the notch groove 16, in the above-described feedthrough 10 forming method, that is, by adding a solvent or the like to alumina and mixing it into a slurry shape, and forming this into a sheet shape, a plurality of ceramic sheets 10a to 10d are formed. After the production, for example, on the lower surface of the lowermost sheet 10d, a process (for example, press working) is performed to form grooves in a direction orthogonal to the arrow B direction, and these are stacked and fired. A notch groove can be formed.

第5実施例として、図3のE−E線位置に示すように、フィードスルー10に切欠溝17を設けることによって、断面積狭小部を形成する。これにより、矢印T方向におけるE−E線位置の断面積は、その前後位置の断面積よりも小さくすることができる。
切欠溝17の形成方法は、基本的に前記切欠溝16の形成方法と同一であるが、切欠溝16はセラミックシートの下面もしくは上面に溝が設けられるのに対し、切欠溝17はセラミックシートの側面に溝が設けられる点で相違する。
As a fifth embodiment, as shown in the position of the line E-E in FIG. 3, the notch groove 17 is provided in the feedthrough 10 to form a narrow cross-sectional area. Thereby, the cross-sectional area of the EE line position in the arrow T direction can be made smaller than the cross-sectional area of the front-rear position.
The method of forming the notch groove 17 is basically the same as the method of forming the notch groove 16, but the notch groove 16 is provided on the lower surface or the upper surface of the ceramic sheet, whereas the notch groove 17 is formed of the ceramic sheet. The difference is that a groove is provided on the side surface.

上記いずれの実施例の場合にも、空隙部(貫通孔13、貫通孔14、空孔15、切欠溝16、切欠溝17として例示)は、フィードスルー10における配線パターンの無い位置に、すなわち配線パターンを回避するように形成される。なお、全図において、図の簡略化のため、フィードスルー10内部における配線パターンについては図示を省略している。   In any of the above-described embodiments, the void portion (illustrated as the through hole 13, the through hole 14, the hole 15, the notch groove 16, and the notch groove 17) is located at a position where there is no wiring pattern in the feedthrough 10, that is, the wiring. Formed to avoid patterns. In all the drawings, illustration of wiring patterns inside the feedthrough 10 is omitted for simplification of the drawings.

次に第6実施例について図4を用いて説明する。第6実施例は上記の実施例で形成される空隙部の内面(内壁面)に導電性金属材料からなる被膜が設けられる構造を有し、いわゆるVIAホールとして上下に積層された各セラミックシートに設けられる配線パターン間を導通するための導体(配線)として兼用される作用を奏する。例えば、図4に示すように、内面に導電性金属材料からなる被膜18aが設けられた空隙部18によって、セラミックシート10bのメタライズ配線層12とセラミックシート10dのメタライズ配線層12とを導通させることができる。当然、空隙部18の内部は空洞状であることから、前述の実施例と同様の効果が得られることは言うまでもない。
なお、内面に被膜18aを有する空隙部18の形成方法として、公知のVIAホール形成方法を採用することができる。
Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG. The sixth embodiment has a structure in which a coating made of a conductive metal material is provided on the inner surface (inner wall surface) of the gap portion formed in the above embodiment, and each ceramic sheet stacked vertically as a so-called VIA hole is provided. There exists an effect | action used as a conductor (wiring) for electrically conducting between the wiring patterns provided. For example, as shown in FIG. 4, the metallized wiring layer 12 of the ceramic sheet 10 b and the metallized wiring layer 12 of the ceramic sheet 10 d are electrically connected by a gap 18 having a coating 18 a made of a conductive metal material on the inner surface. Can do. Of course, since the inside of the space 18 is hollow, it goes without saying that the same effect as in the above-described embodiment can be obtained.
In addition, a well-known VIA hole formation method is employable as a formation method of the space | gap part 18 which has the film 18a on an inner surface.

上記いずれの実施例の場合にも、空隙部の内部(空洞状の部分)は、空気で充たされている。空気は熱伝導率が低いため、断熱部を形成するために好適である。
さらに、変形例として、空隙部(貫通孔13、貫通孔14、空孔15、切欠溝16、切欠溝17として例示)の内部に断熱性材料(例えば樹脂等)を充填することによって断熱部を形成してもよい。
In any of the above embodiments, the inside of the gap portion (hollow portion) is filled with air. Since air has a low thermal conductivity, it is suitable for forming a heat insulating part.
Furthermore, as a modified example, the heat insulating portion is filled by filling a heat insulating material (for example, resin or the like) inside the void portion (illustrated as the through hole 13, the through hole 14, the hole 15, the notch groove 16, and the notch groove 17). It may be formed.

なお、上記の各実施例は、あくまでも代表的な例示に過ぎず、これに限定されるものではない。いずれの実施例も、積層されるセラミックシート10a〜10dにおける一もしくは複数または全てのシートに適用できるものである。さらに、前記積層形成ではなく一体形成されるフィードスルー10に対しても適用できることは言うまでもない。   In addition, each said Example is only a typical illustration to the last, and is not limited to this. Any of the embodiments can be applied to one or a plurality or all of the laminated ceramic sheets 10a to 10d. Furthermore, it goes without saying that the present invention can be applied to the feed-through 10 formed integrally instead of the above-described laminated formation.

以上、説明した通り、本発明に係る半導体パッケージによれば、外部からフィードスルーを介してパッケージ内部(すなわちケース内部)に侵入する熱伝導を抑制することが可能となる。その結果、パッケージ内部(すなわちケース内部)の温度上昇を抑制することができるため、半導体素子の冷却作用を得る際に冷却素子において消費される電力を抑制することが可能となる。また、パッケージ内部(すなわちケース内部)の温度上昇に起因する半導体素子における熱害を防止することが可能となる。   As described above, according to the semiconductor package of the present invention, it is possible to suppress heat conduction from entering the inside of the package (that is, inside the case) from the outside via the feedthrough. As a result, the temperature rise inside the package (that is, inside the case) can be suppressed, so that the power consumed in the cooling element when the cooling action of the semiconductor element is obtained can be suppressed. In addition, it is possible to prevent thermal damage in the semiconductor element due to the temperature rise inside the package (that is, inside the case).

なお、本発明は、以上説明した実施例に限定されることなく、本発明を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。特に、半導体素子として発光素子(レーザダイオード)を例に挙げて説明したが、これに限定されるものではなく、受光素子等の他の半導体素子を搭載する場合であっても同様に適用することが可能である。   Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the present invention. In particular, a light emitting element (laser diode) has been described as an example of a semiconductor element. However, the present invention is not limited to this, and the same applies even when other semiconductor elements such as a light receiving element are mounted. Is possible.

1 半導体パッケージ
2 ケース
3 半導体素子
4 熱伝導金属ブロック
5 冷却素子
6 基板
7 ボンディングワイヤ
8 集光レンズ
10 フィードスルー
11 リード端子
12 メタライズ配線層
13、14 貫通孔
15 空孔
16、17 切欠溝
18 貫通孔(内面に導電性金属被膜有り)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor package 2 Case 3 Semiconductor element 4 Thermal conductive metal block 5 Cooling element 6 Substrate 7 Bonding wire 8 Condensing lens 10 Feed through 11 Lead terminal 12 Metallized wiring layers 13 and 14 Through holes 15 Holes 16 and 17 Notch groove 18 Through Hole (with conductive metal coating on the inner surface)

Claims (4)

閉空間となるケースの内部に半導体素子が配設され、該ケースの壁部に該半導体素子を外部機器と電気的に接続するためのフィードスルーを備える半導体パッケージであって、
前記フィードスルーは、前記壁部の壁面に直交する方向におけるいずれかの位置に他の位置よりも断面積が小さくなる断面積狭小部を有し、該断面積狭小部が前記ケースの外部から内部へ向かう方向における熱伝導を阻害する断熱部となり、
前記断面積狭小部は、前記フィードスルーにおける前記ケースの内側の位置に切欠溝、貫通孔、もしくは空孔からなる空隙部を設けることによって形成され
前記空隙部は、前記フィードスルーにおける配線パターンの無い位置に設けられること
を特徴とする半導体パッケージ。
A semiconductor package is provided with a semiconductor element disposed inside a case that becomes a closed space, and includes a feedthrough for electrically connecting the semiconductor element to an external device on the wall of the case,
The feedthrough has a cross-sectional area narrow portion whose cross-sectional area is smaller than other positions at any position in a direction orthogonal to the wall surface of the wall portion, and the cross-sectional area narrow portion is formed from the outside of the case. It becomes a heat insulating part that inhibits heat conduction in the direction toward
The narrow cross-sectional area is formed by providing a gap formed by a notch groove, a through hole, or a hole at a position inside the case in the feedthrough ,
The semiconductor package according to claim 1, wherein the gap is provided at a position where there is no wiring pattern in the feedthrough .
前記空隙部は、内部に断熱性材料が充填されていること
を特徴とする請求項記載の半導体パッケージ。
The gap portion, the semiconductor package according to claim 1, wherein the thermally insulating material is filled in.
前記空隙部は、内面に導電性金属材料からなる被膜が設けられて、フィードスルー内の配線を兼用すること
を特徴とする請求項1または請求項2記載の半導体パッケージ。
3. The semiconductor package according to claim 1, wherein the gap portion is provided with a coating made of a conductive metal material on an inner surface, and also serves as a wiring in the feedthrough.
前記フィードスルーは、セラミック材料からなる複数の層が積層された形状を有し、一部もしくは全部の層に前記空隙部が設けられること
を特徴とする請求項1〜のいずれか一項記載の半導体パッケージ。
The feedthrough has a shape in which a plurality of layers are laminated made of ceramic material, part or any one of claims 1-3, wherein the void portion to all of the layers are provided Semiconductor package.
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