JP5406777B2

JP5406777B2 - 転写装置及び転写方法

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Publication number: JP5406777B2
Application number: JP2010085869A
Authority: JP
Inventors: 裕喜杉浦; 光典小久保; 茂藤原
Original assignee: Toshiba Machine Co Ltd
Current assignee: Shibaura Machine Co Ltd
Priority date: 2010-04-02
Filing date: 2010-04-02
Publication date: 2014-02-05
Anticipated expiration: 2030-04-02
Also published as: JP2011216810A

Description

本発明は、モールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写するときに使用される転写装置及び転写方法に関する。

近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型（モールド）を作製し、このモールドを被成型品に所定の圧力で押圧して、モールドに形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（たとえば、非特許文献１参照）。ハードディスクやＣＤ、ＤＶＤなど回転式の記憶装置では、最近、高密度のデータをディスクに形成するための記憶媒体（記録媒体）を成型する手段として、ナノインプリント技術を活用する方法への関心が高くなってきている。

ナノオーダーの微細な転写パターンを低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたナノインプリント法が考案されている。この成型法は大別して熱インプリント法とＵＶインプリント法とに分類される。

熱インプリント法では、型を基板に押圧し、熱可塑性ポリマからなる樹脂（熱可塑性樹脂）が十分に流動可能となる温度になるまで加熱して微細パターンに樹脂を流入させたのち、型と樹脂とをガラス転移温度以下になるまで冷却し、基板に転写された微細パターンを固化したのち型を引き離す。

ＵＶインプリント法では、光を透過できる透明な型を使用し、紫外線硬化性樹脂に型を押し付けて紫外光を照射する。適当な時間、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させ微細パターンを転写したのち型を引き戻す。

以上のナノインプリントにおいては、紫外線硬化樹脂が基板上に塗布された被成型品と型とを真空成型室内で転写を行う構成の転写装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。この転写装置は、真空成形室内の支持台上に支持された被成形品に対し、型を下降して型の微細な転写パターンを紫外線硬化樹脂に押圧する。そして、型と被成形品をカバーで覆って真空成形室を真空にした状態で紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させることにより型の転写パターンを転写する。

特開２００６−３１８９７３号公報

Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199

ＵＶインプラント法においては、紫外線硬化樹脂が塗布される基板の平面度や型の平面度が悪い場合があり、平面度が悪い場合に型を紫外線硬化樹脂に押圧して転写パターンを転写しても、成形品の厚さを均一に保つことができないばかりでなく、転写を良好に行うことができない問題がある。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、平面度を把握して転写パターンの転写を行うことにより成形品の厚さを均一に保つことが可能な転写装置及び転写方法を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、平板状の基板に設けられた紫外線硬化樹脂に、型に形成されている微細な転写パターンを転写する転写装置において、前記基板における複数の部位の厚さを測定する厚さ測定手段と、前記基板の厚さ方向の一方の面に、薄膜状の紫外線硬化樹脂を設置する紫外線硬化樹脂設置手段と、前記基板の各部位における厚さと、前記紫外線硬化樹脂設置手段で設置される前記基板の各部位における紫外線硬化樹脂の膜厚との和が一定になるように前記厚さ測定手段の測定結果に応じて、前記紫外線硬化樹脂設置手段で設置する紫外線硬化樹脂の量を制御する制御手段と、前記微細な転写パターンが外周に形成されている前記型により前記基板の紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型を回転させつつ前記基板を移動することによって押圧する部位を移動し、前記押圧部位に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化して転写する転写手段と、を有することを特徴とする転写装置である。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の転写装置において、前記微細な転写パターンが形成されている型と、バックアップローラとによって前記基板と前記紫外線硬化樹脂とを挟み込んで前記押圧が行われることを特徴とする転写装置である。

請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の転写装置において、前記厚さ測定手段と紫外線硬化樹脂設置手段と転写手段とが前記基板の搬送路に沿って２組が設けられており、前記搬送路の下流側における厚さ測定手段、紫外線硬化樹脂設置手段及び転写手段は、上流側の転写手段によって形成された基板及び基板上の硬化後の紫外線硬化樹脂に対してそれぞれの処理を行うことを特徴とする転写装置である。

請求項４に記載の発明は、平板状の基板に設けられた紫外線硬化樹脂に、型に形成されている微細な転写パターンを転写する転写方法において、前記基板における複数の部位の厚さを測定する厚さ測定段階と、前記基板の厚さ方向の一方の面に、薄膜状の紫外線硬化樹脂を設置する紫外線硬化樹脂設置段階と、前記基板の各部位における厚さと、前記基板の各部位における紫外線硬化樹脂の膜厚との和が一定になるように前記厚さ測定段階の測定結果に応じて、前記紫外線硬化樹脂設置段階で設置する紫外線硬化樹脂の量を制御する段階と、前記微細な転写パターンが外周に形成されている前記型により前記基板上の紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型を回転させつつ前記基板を移動することによって押圧する部位を移動し、前記押圧部位に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化して転写する転写段階と、を有することを特徴とする転写方法である。

本発明によれば、基板における複数部位の厚さを測定し、基板の各部位における厚さと紫外線硬化樹脂の膜厚との和が一定になるように紫外線硬化樹脂の量を制御するため、成形品の厚さを均一に保つことが可能となる、という効果を奏する。

本発明の第１実施形態の転写装置を示す側面図である。図１のＡ矢視における第１転写手段の正面図である。本発明の第２実施形態の転写装置の側面図である。第１転写手段の第１変形形態を示す側面図である。第１転写手段の第２変形形態を示す側面図である。第１転写手段の第３変形形態を示す側面図である。本発明の第３実施形態の転写装置を示す側面図である。

図１は、本発明の第１実施形態の転写装置１の全体を示す側面図、図２は、図１におけるＡ矢視の正面図である。

転写装置１は、基板２における厚さ方向の一方の面（上面）に塗布等により設置された紫外線硬化樹脂３に対して１回もしくは複数回（たとえば２回）の転写を行うものである。このため、転写装置１は、たとえば、１回目の転写を行うために基板２の搬送方向の上流側に配置された第１ステーション５と、２回目の転写を行うために下流側に配置された第２ステーション７とを有している。第１ステーション５及び第２ステーション７にかけてベース台３１が延設されており、ベース台３１に複数のローラ台３２が載置されている。複数のローラ台３２のそれぞれは、回転するローラ３３を基板２の搬送方向に沿って複数備えており、基板２はローラ３３上を搬送される。

第１ステーション５におけるローラ台３２の上方には、厚さ測定手段としての第１厚さセンサ１１、紫外線樹脂設置手段としての第１塗工ノズル１２及び転写を行うための第１転写手段１３が基板２の搬送方向に沿って順に配置されている。第２ステーション７におけるローラ台３２の上方にも、厚さ測定手段としての第２厚さセンサ２１、紫外線樹脂設置手段としての第２塗工ノズル２２及び転写を行うための第２転写手段２３が基板２の搬送方向に沿って順に配置されている。各ステーション５，７における厚さセンサ１１、２１、塗工ノズル１２、２２及び転写手段１３、２３は、制御手段（制御装置）９により制御される。

第１厚さセンサ１１は、基板２における複数の部位（基板２の搬送方向に並んでいる複数の部位）の厚さを測定するセンサであり、レーザセンサ等の非接触式センサが用いられる。基板２は、たとえばガラス板からなり、その厚さは、１次元的に変化している。すなわち、図１（ｂ）に示すように、ガラス板からなる基板２は長手方向に沿って厚さが僅かに変化しているが、幅方向（紙面に直交する方向）にはほとんど変化していない。第１厚さセンサ１１は、この基板２の長手方向における厚さを測定するものである。

第２厚さセンサ２１は、第１ステーション５での転写が終了した基板２及び基板２上の硬化後の紫外線硬化樹脂３を合わせた厚さを複数の部位（基板２の搬送方向に並んでいる複数の部位）に対して測定するセンサであり、第１厚さセンサ１１と同様にレーザセンサ等の非接触式センサが用いられる。第２厚さセンサ２１も第１厚さセンサ１１と同様に長手方向における厚さを、たとえば連続的もしくは断続的に測定するものである。

これらの第１厚さセンサ１１及び第２厚さセンサ２１が測定した厚さの測定結果は、制御手段９に出力され、制御手段９は第１塗工ノズル１２及び第２塗工ノズル２２による紫外線硬化樹脂３，３ａの厚さを制御する。

第１塗工ノズル１２は、基板２の厚さ方向の一方の面（上面）に対して紫外線硬化樹脂３を塗布することにより薄膜状の紫外線硬化樹脂３を設置するものである。第１塗工ノズル１２による紫外線硬化樹脂３の塗布は、第１厚さセンサ１１の測定結果に応じて基板２の各部位における厚さと、基板２上の各部位における紫外線硬化樹脂３の膜厚との和が一定となるように行われ、その塗布量は制御手段９によって制御される。第１塗工ノズル１２は、紙面に直交する方向に延びたスリットを有しており、このスリットから液状の紫外線硬化樹脂３を基板２の上面に吐出して塗布する。

第２塗工ノズル２２は、第１ステーション５によって転写が行われた基板２上の紫外線硬化樹脂３に対して紫外線硬化樹脂３ａを塗布して紫外線硬化樹脂３上にさらに薄膜状の紫外線硬化樹脂３ａを設置するものである。第２塗工ノズル２２による紫外線硬化樹脂３ａの塗布は、第２厚さセンサ２２の測定結果に応じて基板２の各部位における厚さと、基板２及び紫外線硬化樹脂３の各部位における紫外線硬化樹脂３ａの膜厚との和が一定となるように行われ、その塗布量は制御手段９によって制御される。第２塗工ノズル２２は、紙面に直交する方向に延びたスリットを有しており、このスリットから液状の紫外線硬化樹脂３ａを基板２上の紫外線硬化樹脂３に吐出して塗布する。

第１転写手段１３は、第１塗工ノズル１２の下流側に配置され、第２転写手段２３は、第２塗工ノズル２２の下流側に配置されている。これらの転写手段１３、２３は、基板２の上方側に配置された第１転写ローラ１４及び第２転写ローラ２４と、基板２の下方側に配置された第１バックアップローラ１５及び第２バックアップローラ２５と、これらのバックアップローラ１５、２５側に配置された第１光源１６及び第２光源２６とによって構成されている。

第１転写ローラ１４及び第２転写ローラ２４の外周面には、転写パターン（図示省略）が形成されている。転写パターンは、多数の微細な凹凸からなり、この凹凸の高さやピッチが可視光線の波長程度か可視光線の波長よりも僅かに大きいか小さなパターンとなっている。第１転写ローラ１４及び第２転写ローラ２４は、図１（ａ）の矢印で示す反時計方向に回転駆動され、回転しながら紫外線硬化樹脂３、３ａに転写パターンを押圧する。ここで、第１転写ローラ１４の転写パターン及び第２転写ローラ２４の転写パターンは、異なっていいてよく、同じであってもよい。

第１バックアップローラ１５及び第２バックアップローラ２５は、基板２の下面に転接するローラ部１５ａ、２５ａを基板２の幅方向（紙面に直交する方向）に複数有している。図２は、第１バックアップローラ１５を示し、ローラ軸１５ｂと、ローラ軸１５ｂの長さ方向に所定間隔で取り付けられた金属からなる複数のローラ部１５ａとによって構成されており、ローラ軸１５ｂが回転することによりローラ部１５ａが基板２の下面を支持しながら回転する。第２バックアップローラ２５も第１バックアップローラ１５と同じ構造となっているため、その説明を省略する。このような実施形態では、第１転写ローラ１４及び第２転写ローラ２４と、第１バックアップローラ１５及び第２バックアップローラ２５とによって基板２と紫外線硬化樹脂３、３ａとを挟み込んで転写パターンの押圧が行われる。

図２に示すように、第１光源１６は、バックアップローラ１５におけるローラ部１５ａの間に複数が配置されており、第１転写ローラ１４によって押圧されている未硬化の紫外線硬化樹脂３に対し、基板２の下方から紫外線を照射する。これにより、紫外線硬化樹脂３が硬化して、第１転写ローラ１４の転写パターンが紫外線硬化樹脂３に転写される。かかる第１光源１６の紫外線の照射量は、制御手段９により制御されるものである。第２光源２６も第１光源１６と同様な構成となっており、第２バックアップローラ２５のローラ部１５ａの間から基板２に対して紫外線を照射する。紫外線は、基板２及び転写後の紫外線硬化樹脂３を通過し、第２転写ローラ２４によって押圧されている未硬化の紫外線硬化樹脂３ａに達し、紫外線硬化樹脂３ａが硬化する。これにより、第２転写ローラ２４の転写パターンが紫外線硬化樹脂３ａに転写される。

次に、この実施形態における転写パターンの転写を説明する。基板２が第１ステーション５に搬送されると、第１厚さセンサ１１が基板２における複数部位の厚さを測定し、測定結果を制御手段９に出力する。その後、基板２が第１塗工ノズル１２に搬送され、第１塗工ノズル１２から液状の紫外線硬化樹脂３が塗布される。第１塗工ノズル１２の塗布量は、制御手段９によって制御されており、第１塗工ノズル１２は基板２の各部位における厚さと、塗布される紫外線硬化樹脂３との和が一定となるように紫外線硬化樹脂３を吐出する。これにより、基板２と紫外線硬化樹脂３とを合わせた厚さが一定となって第１転写手段１３に搬送される。

第１転写手段１３では、第１転写ローラ１４が回転すると共にバックアップローラ１５も回転しており、第１転写ローラ１４の外周面の転写パターンが紫外線硬化樹脂３に順次、押圧される。この押圧状態に対し、第１光源１６から紫外線が照射される。紫外線の照射量は、制御手段９によって制御される。紫外線の照射により、未硬化の紫外線硬化樹脂３が硬化する。これにより、第１転写ローラ１４の転写パターンが紫外線硬化樹脂３に転写される。

その後、基板２及び紫外線硬化樹脂３は第２ステーション７に搬送される。第２ステーション７に搬送されると、第１厚さセンサ１１が基板２及び紫外線硬化樹脂３における複数部位の厚さを測定し、測定結果を制御手段９に出力する。基板２が第２塗工ノズル２２に搬送され、第１塗工ノズル２２から液状の紫外線硬化樹脂３ａが塗布される。第２塗工ノズル２２の塗布量は、制御手段９によって制御されており、第２塗工ノズル２２は基板２及び紫外線硬化樹脂３の各部位における厚さと、塗布される紫外線硬化樹脂３ａとの和が一定となるように紫外線硬化樹脂３ａを吐出する。これにより、基板２と紫外線硬化樹脂３と紫外線硬化樹脂３ａとを合わせた厚さが一定となって第２転写手段２３に搬送される。

第２転写手段２３では、第２転写ローラ２４が回転すると共にバックアップローラ２５も回転しており、第２転写ローラ２４の外周面の転写パターンが紫外線硬化樹脂３ａに順次、押圧される。この押圧状態に対し、第２光源２６から紫外線が照射される。紫外線の照射量は、制御手段９によって制御される。紫外線の照射により、未硬化の紫外線硬化樹脂３ａが硬化する。これにより、第２転写ローラ２４の転写パターンが紫外線硬化樹脂３ａに転写されて成形品３４が作製される。そして、成形品３４は第２ステーション７から取り出される。

このような実施形態の転写装置１では、第１厚さセンサ１１及び第２厚さセンサ２１が測定した厚さ結果に基づいて液状の紫外線硬化樹脂３、３ａの塗布量が調整されるため、成形品の厚さを均一に保つことが可能となる。このように紫外線硬化樹脂３、３ａの塗布量が調整されるため、第１光源１６及び第２光源２６による紫外線の照射量を少なくすることができ、これらの光源を小型化することができる。又、第１転写ローラ１４及び第２転写ローラ２４が回転しながら紫外線硬化樹脂３、３ａを押圧するため、紫外線硬化樹脂３、３ａに気泡が入り込むことがなく、気泡を排出するための真空成形室が不要となる。さらに、第１転写ローラ１４及び第２転写ローラ２４が回転するため、離型が容易であり、転写精度が向上する。さらに又、大きな基板に対する転写が可能となる。

以上に加えて、この実施形態では、第１転写ローラ１４、第２転写ローラ２４と、第１バックアップローラ１５、第２バックアップローラ２５とが回転しながら基板２及び紫外線硬化樹脂３、３ａを挟み込んで押圧するため、基板２を支持するための大きなステージが不要となる。

さらに、この実施形態の転写装置１では、第１ステーション５及び第２ステーション７が設けられて２回の転写が行われるため、３Ｄディスプレイ用光学部品や光学素子を精度良く製造することができる。

図３は、本発明の第２実施形態の転写装置１Ａを示し、上述した転写装置１と同一の部材には同一の符号を付して対応させてある。

この実施形態の転写装置１Ａにおいては、ローラ台３２が第１転写手段１３及び第２転写手段２３に配置されているが、第１厚さセンサ１１、第１塗工ノズル１２の配置部位及び第２厚さセンサ２１、第２塗工ノズル２２の配置部位にはローラ台３２が配置されておらず、これらの配置部位に対しては、ローラ台３２に代えて搬送台３５が配置されている。

搬送台３５は、図示しないリニアガイドベアリングを介してベース台３１に設けられており、図示しないサーボモータによって、図３の左右方向に移動する。

第１ステーション５における第１厚さセンサ１１及び第１塗工ノズル１２での処理が終了した後、基板２及び紫外線硬化樹脂３はロボットハンド（図示省略）により第１転写手段１３側のローラ台３２に移送される。第２ステーション７においても同様であり、第２厚さセンサ２１及び第２塗工ノズル２２での処理が終了した後、基板２及び紫外線硬化樹脂３、３ａはロボットハンドにより第２転写手段２３側のローラ台３２に移送される。

この実施形態の転写装置１Ａは、第１実施形態の転写装置１と同様に動作する。従って、この実施形態の転写装置１Ａにおいても、成形品の厚さを均一に保つことが可能で、第１光源１６及び第２光源２６を小型化することができ、紫外線硬化樹脂３、３ａに気泡が入り込むことがなく、気泡を排出するための真空成形室が不要となり、離型が容易で転写精度が向上し、大きな基板に対する転写が可能となる効果を有している。さらに、第１転写ローラ１４、第２転写ローラ２４と、第１バックアップローラ１５、第２バックアップローラ２５とが回転しながら基板２及び紫外線硬化樹脂３、３ａを挟み込んで押圧するため、基板を支持するための大きなステージが不要となると共に、２回の転写が行われるため、３Ｄディスプレイ用光学部品や光学素子を精度良く製造することができる。

図４〜図６は、第１転写手段１３の変形形態をそれぞれ示す。図４においては、第１バックアップローラ１５の内部に第１光源１６が設けられている。第１バックアップローラ１５は、ガラスや透明樹脂等の透光性材料によって形成されており、第１光源１６からの紫外線が第１バックアップローラ１５を通過して基板２上の紫外線硬化樹脂３を照射することができる。符号３６は、第１光源１６の上方に配置された集光レンズであり、第１光源１６からの紫外線を基板２上の紫外線硬化樹脂３に集光させる。

図５においては、第１バックアップローラ１５の下方に第１光源１６及び集光レンズ３６が配置されている。第１バックアップローラ１５は、図４と同様にガラスや透明樹脂等の透光性材料により形成されており、第１光源１６からの紫外線が第１バックアップローラ１５を通過して基板２上の紫外線硬化樹脂３に達して紫外線硬化樹脂３を照射することができる。

図６においては、第１転写ローラ１４がガラスや透明樹脂等の透光性材料により形成されており、その内部に第１光源１６及び集光レンズ３６が配置されている。図６に示す構造では、第１転写ローラ１４が回転して基板２上の紫外線硬化樹脂３を押圧する際に第１光源１６が駆動して紫外線硬化樹脂３に照射することができる。この照射により第１転写ローラ１４の転写パターンを紫外線硬化樹脂３に転写することができる。なお、第１バックアップローラ１５は金属によって形成することができるが、樹脂であってもよい。

以上の図４〜図６の構造は、第２転写手段２３に対しても同様に適用できるものである。

図７は、本発明の第３実施形態の転写装置１Ｂを示す。転写装置１Ｂにおいては、搬送台３５と同様に構成されているテーブル３７が用いられる。テーブル３７は、ガラス等の透光性材料により形成されていると共に、第１ステーション５及び第２ステーション７にかけて延びた長尺状となっており、その上面に長尺な基板２が載置される。又、この実施形態における第１ステーション５及び第２ステーション７では、第１光源１６及び第２光源２６は第１転写ローラ１４及び第２転写ローラ２４のそれぞれに対応するようにテーブル３７の下方にそれぞれ配置されている。

この実施形態において、テーブル３７が矢印方向に移動すると、第１ステーション５では、第１厚さセンサ１１が測定した基板２の厚さの測定結果に基づいて第１塗工ノズル１２が紫外線硬化樹脂３を基板２上に塗布する。すなわち、基板２の各部位における厚さと、紫外線硬化樹脂３の膜厚との和が一定となるように第１塗工ノズル１２が紫外線硬化樹脂３を塗布する。紫外線硬化樹脂３の塗布後においては、第１転写ローラ１４が紫外線硬化樹脂３を押圧し、第１転写ローラ１４の下方に設けられた第１光源１６から紫外線が照射される。これにより、紫外線硬化樹脂３に第１転写ローラ１４の転写パターンが転写される。

テーブル３７が第１ステーション５を通過してさらに矢印方向に移動すると、第２ステーション７では、第２厚さセンサ２１が測定した基板２及び紫外線硬化樹脂３の厚さの測定結果に基づいて第２塗工ノズル２２が紫外線硬化樹脂３ａを紫外線硬化樹脂３上に塗布する。すなわち、基板２及び紫外線硬化樹脂３の各部位における厚さと、紫外線硬化樹脂３ａの膜厚との和が一定となるように第２塗工ノズル２２が紫外線硬化樹脂３ａを塗布する。紫外線硬化樹脂３ａの塗布後においては、第２転写ローラ２４が紫外線硬化樹脂３ａを押圧し、第２転写ローラ２４の下方に設けられた第２光源２６から紫外線が照射される。これにより、紫外線硬化樹脂３ａに第２転写ローラ２４の転写パターンが転写され、成形品となる。

この実施形態の転写装置１Ｂは、第１実施形態の転写装置１及び第２実施形態の転写装置１Ａと同様な効果を有しているが、これに加えて、基板１を長尺とすることができるため、大きな成形品に対応することができるメリットがある。

本発明は以上の実施形態に限定されることなく種々変形が可能である。以上の実施形態では、第１ステーション５及び第２ステーション７を設けることにより２回の転写を行っているが、第２ステーション７を省いて第１ステーション５だけで転写を行ってもよい。

又、制御手段９は、第１ステーション５及び第２ステーション７における転写パターンの転写前に紫外線硬化樹脂３、３ａの塗布量を調整しているが、これに限らず、転写パターンの転写後の厚さが一定となるように紫外線硬化樹脂３、３ａの塗布量を制御してもよい。さらに、第１光源１６及び第２光源２６としては、転写ローラ１４、２４やバックアップローラ１５、２５と干渉しない斜め上方や斜め下方に設けてもよい。

１、１Ａ、１Ｂ転写装置
２基板
３、３ａ紫外線硬化樹脂
５第１ステーション
７第２ステーション
９制御手段
１１第１厚さセンサ
１２第１塗工ノズル
１３第１転写手段
１４第１転写ローラ
１５第１バックアップローラ
１６第１光源
２１第２厚さセンサ
２２第２塗工ノズル
２３第２転写手段
２４第２転写ローラ
２５第２バックアップローラ

Claims

平板状の基板に設けられた紫外線硬化樹脂に、型に形成されている微細な転写パターンを転写する転写装置において、
前記基板における複数の部位の厚さを測定する厚さ測定手段と、
前記基板の厚さ方向の一方の面に、薄膜状の紫外線硬化樹脂を設置する紫外線硬化樹脂設置手段と、
前記基板の各部位における厚さと、前記紫外線硬化樹脂設置手段で設置される前記基板の各部位における紫外線硬化樹脂の膜厚との和が一定になるように前記厚さ測定手段の測定結果に応じて、前記紫外線硬化樹脂設置手段で設置する紫外線硬化樹脂の量を制御する制御手段と、
前記微細な転写パターンが外周に形成されている前記型により前記基板の紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型を回転させつつ前記基板を移動することによって押圧する部位を移動し、前記押圧部位に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化して転写する転写手段と、
を有することを特徴とする転写装置。
請求項１に記載の転写装置において、
前記微細な転写パターンが形成されている型と、バックアップローラとによって前記基板と前記紫外線硬化樹脂とを挟み込んで前記押圧が行われることを特徴とする転写装置。
請求項１又は請求項２に記載の転写装置において、
前記厚さ測定手段と紫外線硬化樹脂設置手段と転写手段とが前記基板の搬送路に沿って２組が設けられており、
前記搬送路の下流側における厚さ測定手段、紫外線硬化樹脂設置手段及び転写手段は、上流側の転写手段によって形成された基板及び基板上の硬化後の紫外線硬化樹脂に対してそれぞれの処理を行うことを特徴とする転写装置。
平板状の基板に設けられた紫外線硬化樹脂に、型に形成されている微細な転写パターンを転写する転写方法において、
前記基板における複数の部位の厚さを測定する厚さ測定段階と、
前記基板の厚さ方向の一方の面に、薄膜状の紫外線硬化樹脂を設置する紫外線硬化樹脂設置段階と、
前記基板の各部位における厚さと、前記基板の各部位における紫外線硬化樹脂の膜厚との和が一定になるように前記厚さ測定段階の測定結果に応じて、前記紫外線硬化樹脂設置段階で設置する紫外線硬化樹脂の量を制御する段階と、
前記微細な転写パターンが外周に形成されている前記型により前記基板上の紫外線硬化樹脂を押圧し、前記型を回転させつつ前記基板を移動することによって押圧する部位を移動し、前記押圧部位に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化して転写する転写段階と、
を有することを特徴とする転写方法。