JP5406256B2 - リソグラフィ装置、デバイス製造方法および基板にパターンを与える方法 - Google Patents
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Description
放射ビームB(例えばUV放射またはEUV放射)を調整するよう構成されている照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するよう構成され、あるパラメタに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするよう構成されている第1の位置決め装置PMに接続されているサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストでコーティングされたウエハ)Wを保持するよう構成され、あるパラメタに従って基板を正確に位置決めするよう構成されている第2の位置決め装置PWに接続されている基板テーブル(例えばウエハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイからなる)ターゲット部分Cに投影するよう構成されている投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは実質的に静止状態とされる(すなわち単一静的露光)。そして基板テーブルWTがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写されるターゲット部分Cのサイズを制限することになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは同期して走査される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められてもよい。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光でのターゲット部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.別のモードにおいては、マスクテーブルMTがプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTが移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは、基板テーブルWTの毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のプログラマブルミラーアレイ等のプログラム可能パターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
1.未露光ターゲット部分の周りに位置するマークは、そのターゲット部分の直接のアライメントのために使用されうる。
2.露光されたターゲット部分の周りに位置するマークは、未露光ターゲット部分を揃えるために使用されうる(位置の予測、内挿、外挿および複数次数でのウエハグリッドのモデリング)。
3.既に読み取られた全てのマークはウエハのグリッドのさらなる決定に寄与し、したがってマークの位置の予測をさらに高精度とすることができる。
(a)同じセンサによってあるマークが複数回測定された場合はいつでも、時間に亘った再現性に係る知識を導くことができる。
(b)異なるセンサによってあるマークが複数回測定された場合はいつでも、(時間への依存性を切り離すことができるという前提において)センサ間のマッチングに係る知識を導くことができる。
(c)同時に複数のマークが測定される場合はいつでも、中央のマークからのデータと、周囲のマークから導かれた外挿データまたは内挿データと、のマッチングを見ることができる。
(d)ステップ(a)から(c)を組み合わせることで、マーク読み取りの再現性およびグリッドの時間変化についての膨大な統計的調査を行うことができる。
1.パターンをパターニングデバイスから基板に転写するリソグラフィ装置であって、
前記パターニングデバイスを受け、前記パターンをパターニング位置に保持されている前記基板の一部に与えるパターニングサブシステムと、
前記パターンが与えられている間、基板を保持する基板サポートと、
所望の複数の基板部分のそれぞれの位置が基板上に存在するアライメントマークに対して正確に決められているとき、前記パターンがその所望の複数の基板部分に繰り返し与えられるよう、前記基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に一連の動きで動かす少なくともひとつの位置決めサブシステムと、
パターニングデバイスに対する前記アライメントマークの位置を測定し、測定結果を前記位置決めサブシステムに供給する測定サブシステムと、を備え、
前記測定サブシステムは基板に向けられたひとつ以上のアライメントセンサを含み、
前記アライメントセンサは、前記一連の動きが行われている間に基板上のアライメントマークを認識して測定し、より新しい測定を生成し、
前記位置決めサブシステムは、前記パターンを基板部分または次の基板部分に与えるために前記基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めする際、前記より新しい測定を過去の測定と組み合わせて使用する、リソグラフィ装置。
2.アライメントセンサの数は少なくとも3であり、そのセンサはパターニング位置の周りに配置された基板上のセンシング位置に向けられており、基板の外周内の任意のパターニング位置について、前記センシング位置のうちの少なくともひとつは基板の一部分上にある、第1節に記載のリソグラフィ装置。
3.前記位置決めサブシステムおよび前記アライメントセンサは、一連の基板部分の間での移り変わり動作の間に、基板上のアライメントマークを認識して測定する、第1節または第2節に記載のリソグラフィ装置。
4.前記測定サブシステムは、パターンを次の基板部分に与える際の位置決めを制御するために、前記移り変わり動作の間にアライメントマークから得られた測定結果を過去の動作から得られた測定結果と組み合わせて使用する、第3節に記載のリソグラフィ装置。
5.前記位置決めサブシステムは、パターンをパターニングデバイスから各基板部分に走査動作により漸次与えるよう制御され、前記アライメントセンサは、ひとつの基板部分への前記走査動作の間に基板上のアライメントマークを認識して測定する、第1節から第4節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
6.前記測定サブシステムは、パターンを次の基板部分に与える際の位置決めを制御するために、前記走査動作の間にアライメントマークから得られた測定結果を過去の動作から得られた測定結果と組み合わせて使用する、第5節に記載のリソグラフィ装置。
7.前記ひとつ以上のアライメントセンサはさらに、位置決めサブシステムの制御の下での基板とパターニングサブシステムとの相対運動の間に動作するレベルセンシング機能を含み、測定サブシステムは基板表面に亘って平面寸法と高さ変化とを記録し、位置決めサブシステムは前記高さ変化にしたがって付与パターンの高さと平面位置とを制御する、第1節から第6節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
8.前記測定サブシステムは、位置決めサブシステムの制御の下での基板とパターニングサブシステムとの相対運動の間に前記アライメントセンサと並行して動作するひとつ以上のレベルセンサを含み、測定サブシステムは基板表面に亘って平面寸法と高さ変化とを記録し、位置決めサブシステムは前記高さ変化にしたがって付与パターンの高さと平面位置とを制御する、第1節から第6節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9.前記測定サブシステムはさらに、前記パターニングデバイス上のアライメントマークに対して前記基板サポート上の既知の位置を揃えるためのひとつ以上の追加的センサを含み、測定サブシステムは前記正確な位置決めおよびパターニングのために、前記既知の位置と前記相対位置測定とを組み合わせる、第1節から第8節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
10.前記測定サブシステムは、パターニングデバイス上の前記アライメントマークに対する前記基板サポート上の少なくとも2つの既知の位置を測定するためにパターニングの前に前記追加的センサを使用し、かつ、前記アライメントセンサを使用して、前記2つの既知の位置の間の移り変わりの間に、前記既知の位置に対する基板上のアライメントマークの位置を測定する、第9節に記載のリソグラフィ装置。
11.前記パターニングデバイスは投影システムに入る放射ビームに前記パターンを付与するよう構成されており、前記パターニングデバイスの像が前記パターニング位置で基板上に投影されることでパターンが基板部分に与えられ、前記追加的センサは前記パターニングデバイス上のアライメントマークの投影像に反応するパターン別放射センサを含む、第9節または第10節に記載のリソグラフィ装置。
12.前記パターニングデバイスは投影システムに入る放射ビームに前記パターンを付与するよう構成されており、前記パターニングデバイスの像は前記パターニング位置で基板上に投影され、前記アライメントセンサは投影像の焦点深度の10倍以上、好ましくは100倍以上の焦点深度を有する、第1節から第11節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
13.前記測定サブシステムは、 パターニング位置に対する前記アライメントセンサの位置を調整するためのアクチュエータを含む、第1節から第12節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
14.前記測定サブシステムは、調整後の前記アライメントセンサの相対位置を固定するための固定デバイスをさらに含む、第13節に記載のリソグラフィ装置。
15.前記測定システムのコントローラは、パターン形成されるべき基板と共に受け取られるレシピデータを参照して前記アライメントセンサの位置を調整する、第13節または第14節に記載のリソグラフィ装置。
16.前記コントローラは、前記レシピデータで規定されているダイのサイズにしたがって、アライメントセンサの位置をスクライブライン領域と一致するように調整するよう構成されている、第15節に記載のリソグラフィ装置。
17.前記アライメントセンサは、前記基板上にセンシング放射ビームを投影し、かつ、基板から反射されてきた前記ビームの性質を測定することにより、少なくとも2次元において前記マークの位置を検出するよう構成された光学システムを含む、第1節から第16節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
18.前記アライメントセンサは、前記基板上にセンシング放射ビームを投影し、かつ、基板によって回折された前記ビームの性質を測定することにより、少なくとも2次元において前記マークの位置を検出するよう構成された光学システムを含む、第1節から第17節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
19.前記アライメントセンサは複数の光学システムを含み、各光学システムは、前記基板上にセンシング放射ビームを投影し、かつ、基板によって回折された前記ビームの性質を測定することにより、1次元において前記マークの位置を検出するよう構成され、測定サブシステムは、前記複数のセンサからの測定結果を組み合わせ、アライメントマークの位置の2次元測定を導く、第1節から第18節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
20.前記アライメントセンサは、一連の基板部分の間での移り変わり動作の間に第1の次元において基板上のアライメントマークを認識して測定し、かつ、ひとつの基板部分での走査動作の間に第2の次元においてアライメントマークを認識して測定する、第19節に記載のリソグラフィ装置。
21.前記測定サブシステムは異なる時刻に同じアライメントセンサによって同じ基板上の異なるアライメントマークから得られた測定の統計的合成を行う、第1節から第20節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
22.前記測定サブシステムは異なる時刻に異なるアライメントセンサによって単一のアライメントマークから得られた測定の統計的合成を行う、第1節から第21節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
23.前記測定サブシステムは異なる時刻に同じアライメントセンサによって単一のアライメントマークから得られた測定の統計的合成を行う、第1節から第22節のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
24.パターンをパターニングデバイスから基板に転写することを含むデバイス製造方法であって、
前記パターニングデバイスを受け、前記パターンをパターニング位置に保持されている前記基板の一部に与えるためのパターニングサブシステムを提供することと、
基板を基板サポートに保持することと、
前記基板上の複数のアライメントマークの位置を測定し、それらのマークの位置をパターニング位置を参照して直接的にまたは間接的に見つけることと、
前記パターンが所望の複数の基板部分に繰り返し与えられるよう、前記基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に一連の動きで位置決めするために、前記パターニングサブシステムを前記測定ステップの結果を使用しつつ動作させることと、
付与パターンにしたがってプロダクトフィーチャを生成するよう前記基板を処理することと、を含み、
前記測定ステップは、基板に向けられたひとつ以上のアライメントセンサを使用し、前記一連の動きが行われている間に前記アライメントセンサを動作させることによって行われ、前記アライメントセンサを動作させることは、最初の基板部分へのパターン付与の後に基板上のアライメントマークを認識して測定し、より新しい測定を生成するためのものであり、前記パターンを基板部分または次の基板部分に与えるために前記基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めする際、前記より新しい測定は過去の測定と組み合わせて使用される、方法。
25.前記測定ステップにおいて、少なくとも3つのアライメントセンサセンサがパターニング位置の周りに配置された基板上のセンシング位置に向けられており、基板の外周内の任意のパターニング位置について、前記センシング位置のうちの少なくともひとつは基板の一部分上にある、第24節に記載の方法。
26.前記アライメントセンサは、一連の基板部分の間での移り変わり動作の間に、基板上のアライメントマークを認識して測定する、第24節または第25節に記載の方法。
27.前記測定ステップは、パターンを次の基板部分に与える際の位置決めを制御するために、前記移り変わり動作の間にアライメントマークから得られた測定結果を過去の動作から得られた測定結果と組み合わせて使用する、第26節に記載の方法。
28.パターニングデバイスからのパターンは各基板部分に走査動作により漸次与えられ、前記アライメントセンサは、ひとつの基板部分への前記走査動作の間に基板上のアライメントマークを認識して測定する、第24節から第27節のいずれかに記載の方法。
29.パターンを次の基板部分に与える際の位置決めを制御するために、前記走査動作の間にアライメントマークから得られた測定結果が過去の動作から得られた測定結果との組み合わせで使用される、第28節に記載の方法。
30.前記ひとつ以上のアライメントセンサはさらに、位置決めサブシステムの制御の下での基板とパターニングサブシステムとの相対運動の間に動作するレベルセンシング機能を含み、測定ステップは基板表面に亘って平面寸法と高さ変化とを記録することを含み、位置決めサブシステムは前記高さ変化にしたがって付与パターンの高さと平面位置とを制御する、第24節から第29節のいずれかに記載の方法。
31.前記測定ステップは、既知の相対運動の間の基板とパターニングサブシステムとの相対運動の間に前記アライメントセンサと並行して動作するひとつ以上のレベルセンサを使用することと、基板表面に亘って平面寸法と高さ変化とを記録することと、を含み、位置決めステップは前記高さ変化にしたがって付与パターンの高さと平面位置とを制御することを含む、第24節から第30節のいずれかに記載の方法。
32.前記パターニングデバイス上のアライメントマークに対して前記基板サポート上の既知の位置を揃えるために追加的センサを使用することと、前記正確な位置決めおよびパターニングのために、前記既知の位置と前記相対位置測定とを組み合わせることと、をさらに含む、第24節から第31節のいずれかに記載の方法。
33.前記測定サブシステムは、パターニングデバイス上の前記アライメントマークに対する前記基板サポート上の少なくとも2つの既知の位置を測定するためにパターニングの前に前記追加的センサを使用し、かつ、前記アライメントセンサを使用して、前記2つの既知の位置の間の移り変わりの間に、前記既知の位置に対する基板上のアライメントマークの位置を測定する、第32節に記載の方法。
34.投影システムに入る放射ビームに前記パターンが付与され、前記パターニングデバイスの像が前記パターニング位置で基板上に投影されることでパターンが基板部分に与えられ、前記追加的センサは前記パターニングデバイス上のアライメントマークの投影像に反応するパターン別放射センサを含む、第32節または第33節に記載の方法。
35.前記パターニングデバイスは投影システムに入る放射ビームに前記パターンを付与するよう構成されており、前記パターニングデバイスの像は前記パターニング位置で基板上に投影され、前記アライメントセンサは投影像の焦点深度の10倍以上、好ましくは100倍以上の焦点深度を有する、第24節から第34節のいずれかに記載の方法。
36.測定ステップは、 パターニング位置に対する前記アライメントセンサの位置を調整する予備的ステップを含む、第24節から第35節のいずれかに記載の方法。
37.前記測定ステップは、調整後かつ測定前に前記アライメントセンサの相対位置を固定することをさらに含む、第36節に記載の方法。
38.パターン形成されるべき基板と共に受け取られるレシピデータを参照して前記アライメントセンサのパターニング位置に対する位置が調整される、第36節または第37節に記載の方法。
39.前記レシピデータで規定されているダイのサイズにしたがって、アライメントセンサの位置がスクライブライン領域と一致するように調整される、第38節に記載の方法。
40.前記アライメントセンサの動作は、前記基板上にセンシング放射ビームを投影することと、前記相対運動の間に基板から反射されてきた前記ビームの性質を測定することにより、少なくとも2次元において前記マークの位置を検出することと、を含む、第24節から第39節のいずれかに記載の方法。
41.基板から反射されてきた単一の放射ビームの性質を測定することによって、3次元における前記マークの位置が測定される、第40節に記載の方法。
42.パターニングデバイスからのパターンは前記基板の部分のアレイに続いて与えられ、前記アライメントセンサは、一連の基板部分の間での移り変わり動作の間に第1の次元において基板上のアライメントマークを認識して測定し、かつ、ひとつの基板部分での走査動作の間に第2の次元においてアライメントマークを認識して測定する、第24節から第41節のいずれかに記載の方法。
43.異なる時刻に同じアライメントセンサによって同じ基板上の異なるアライメントマークから得られた測定は統計的に合成されて合成測定結果となる、第24節から第42節のいずれかに記載の方法。
44.異なる時刻に異なるアライメントセンサによって単一のアライメントマークから得られた測定は統計的に合成されて合成測定結果となる、第24節から第43節のいずれかに記載の方法。
45.異なる時刻に同じアライメントセンサによって単一のアライメントマークから得られた測定は統計的に合成されて合成測定結果となる、第24節から第44節のいずれかに記載の方法。
46.リソグラフィ装置を制御するための機械読み取り可能インストラクションのひとつ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム製品であって、インストラクションは上述の第24節から第45節のいずれかに記載の方法の測定ステップおよび位置決めステップを制御するよう適応されており、特にインストラクションは、装置のひとつ以上のプログラム可能プロセッサに、(a)ひとつ以上のアライメントセンサと基板上のマークとの既知の相対運動の間にひとつ以上のアライメントセンサから測定信号を受信させ、(b)前記測定信号を処理させて所望の正確さで前記基板の部分の位置を確立させ、かつ、(c)パターンを前記パターニングデバイスから基板上の所望の位置に転写するために、装置の前記基板、パターニングデバイスおよびパターニングサブシステムの相互の位置決めを制御させる、コンピュータプログラム製品。
47.パターンをパターニングデバイスから基板に転写する方法であって、
前記パターニングデバイスを受け、前記パターンをパターニング位置に保持されている前記基板の少なくとも一部に与えるためのパターニングサブシステムを提供することと、
基板を基板サポートに保持することと、
パターニングデバイスに対する基板上のアライメントマークの位置を測定することと、
所望の基板部分の位置が基板上に存在するアライメントマークに対して正確に決められているとき、前記パターンが所望の基板部分に与えられるよう、前記測定ステップの結果を使用して前記基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めすることと、
付与パターンにしたがってプロダクトフィーチャを生成するよう前記基板を処理することと、を含み、
前記測定ステップは、パターニング位置の周りに配置された基板上の位置に向けられた複数のアライメントセンサを使用し、前記一連の動きが行われている間に前記アライメントセンサを動作させることによって行われ、前記アライメントセンサを動作させることは、最初の基板部分へのパターン付与の後に基板上のアライメントマークを認識して測定し、より新しい測定を生成するためのものであり、前記パターンを次の基板部分に与えるために前記基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めする際、前記より新しい測定が使用される、方法。
Claims (15)
- パターンをパターニングデバイスから第1基板に転写するリソグラフィ装置であって、
前記パターニングデバイスを受け、前記パターンをパターニング位置に保持されている前記第1基板の一部に与えるパターニングサブシステムと、
前記パターンが与えられている間、前記第1基板を保持する第1基板サポートと、
所望の複数の基板部分のそれぞれの位置が前記第1基板上に存在するアライメントマークに対して正確に決められているとき、前記パターンがその所望の複数の基板部分に繰り返し与えられるよう、前記第1基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に一連の動きで動かす少なくともひとつの位置決めサブシステムと、
パターニングデバイスに対する前記アライメントマークの位置を測定し、測定結果を前記位置決めサブシステムに供給する第1測定サブシステムと、
前記第1基板に前記パターンが与えられている間、第2基板サポートに保持されている第2基板の前記第2基板サポートに対するアライメントを測定する第2測定サブシステムと、を備え、
前記第1測定サブシステムは前記第1基板に向けられたひとつ以上のアライメントセンサを含み、
前記アライメントセンサは、前記一連の動きが行われている間に前記第1基板上のアライメントマークを認識して測定し、より新しい測定を生成し、
前記アライメントセンサは、前記パターニングサブシステムに含まれる投影システムに取り付けられており、
前記位置決めサブシステムは、前記パターンを次の基板部分に与えるために前記第1基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めする際、前記より新しい測定を過去の測定と組み合わせて使用する、リソグラフィ装置。 - アライメントセンサの数は少なくとも3であり、そのセンサはパターニング位置の周りに配置された前記第1基板上のセンシング位置に向けられており、前記第1基板の外周内の任意のパターニング位置について、前記センシング位置のうちの少なくともひとつは前記第1基板の一部分上にある、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置決めサブシステムおよび前記アライメントセンサは、一連の基板部分の間での移り変わり動作の間に、前記第1基板上のアライメントマークを認識して測定する、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1測定サブシステムは、パターンを次の基板部分に与える際の位置決めを制御するために、前記移り変わり動作の間にアライメントマークから得られた測定結果を過去の動作から得られた測定結果と組み合わせて使用する、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置決めサブシステムは、パターンをパターニングデバイスから各基板部分に走査動作により漸次与えるよう制御され、前記アライメントセンサは、ひとつの基板部分への前記走査動作の間に前記第1基板上のアライメントマークを認識して測定する、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1測定サブシステムは、パターンを次の基板部分に与える際の位置決めを制御するために、前記走査動作の間にアライメントマークから得られた測定結果を過去の動作から得られた測定結果と組み合わせて使用する、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ひとつ以上のアライメントセンサはさらに、位置決めサブシステムの制御の下での前記第1基板とパターニングサブシステムとの相対運動の間に動作するレベルセンシング機能を含み、前記第1測定サブシステムは前記第1基板表面に亘って平面寸法と高さ変化とを記録し、位置決めサブシステムは前記高さ変化にしたがって付与パターンの高さと平面位置とを制御する、請求項1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1測定サブシステムはさらに、前記パターニングデバイス上のアライメントマークに対して前記第1基板サポート上の既知の位置を揃えるためのひとつ以上の追加的センサを含み、前記第1測定サブシステムは前記正確な位置決めおよびパターニングのために、前記既知の位置と、前記パターニングデバイスに対する前記第1基板上のアライメントマークの位置の測定と、を組み合わせる、請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1測定サブシステムは、前記パターニングデバイス上の前記アライメントマークに対する前記第1基板サポート上の少なくとも2つの既知の位置を測定するためにパターニングの前に前記追加的センサを使用し、かつ、前記アライメントセンサを使用して、前記2つの既知の位置の間の移り変わりの間に、前記既知の位置に対する前記第1基板上のアライメントマークの位置を測定する、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1測定サブシステムは、パターニング位置に対する前記アライメントセンサの位置を調整するためのアクチュエータを含む、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1測定サブシステムのコントローラは、パターン形成されるべき前記第1基板と共に受け取られるレシピデータを参照して前記アライメントセンサの位置を調整する、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1測定サブシステムは異なる時刻に同じアライメントセンサによって同じ基板上の異なるアライメントマークから得られた測定の統計的合成を行うか、または、前記第1測定サブシステムは異なる時刻に異なるアライメントセンサによって単一のアライメントマークから得られた測定の統計的合成を行うか、または、前記第1測定サブシステムは異なる時刻に同じアライメントセンサによって単一のアライメントマークから得られた測定の統計的合成を行う、請求項1から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- パターンをパターニングデバイスから第1基板に転写することを含むデバイス製造方法であって、
前記パターニングデバイスを受け、前記パターンをパターニング位置に保持されている前記第1基板の一部に与えるためのパターニングサブシステムを提供することと、
前記第1基板を第1基板サポートに保持することと、
前記第1基板上の複数のアライメントマークの位置を測定し、それらのマークの位置をパターニング位置を参照して直接的にまたは間接的に見つけることと、
前記パターンが所望の複数の基板部分に繰り返し与えられるよう、前記第1基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に一連の動きで位置決めするために、前記パターニングサブシステムを前記測定ステップの結果を使用しつつ動作させることと、
付与パターンにしたがってプロダクトフィーチャを生成するよう前記第1基板を処理することと、
前記第1基板に前記パターンが与えられている間、第2基板サポートに保持されている第2基板の前記第2基板サポートに対するアライメントを測定することと、を含み、
前記測定ステップは、前記第1基板に向けられたひとつ以上のアライメントセンサを使用し、前記一連の動きが行われている間に前記アライメントセンサを動作させることによって行われ、前記アライメントセンサを動作させることは、最初の基板部分へのパターン付与の後に前記第1基板上のアライメントマークを認識して測定し、より新しい測定を生成するためのものであり、前記パターンを次の基板部分に与えるために前記第1基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めする際、前記より新しい測定は過去の測定と組み合わせて使用され、
前記アライメントセンサは、前記パターニングサブシステムに含まれる投影システムに取り付けられている、方法。 - 前記アライメントセンサは、一連の基板部分の間での移り変わり動作の間に前記第1基板上のアライメントマークを認識して測定するよう動作する、請求項13に記載の方法。
- パターンをパターニングデバイスから第1基板に転写する方法であって、
前記パターニングデバイスを受け、前記パターンをパターニング位置に保持されている前記第1基板の少なくとも一部に与えるためのパターニングサブシステムを提供することと、
前記第1基板を第1基板サポートに保持することと、
パターニングデバイスに対する前記第1基板上のアライメントマークの位置を測定することと、
所望の基板部分の位置が前記第1基板上に存在するアライメントマークに対して正確に決められているとき、前記パターンが所望の基板部分に与えられるよう、前記測定ステップの結果を使用して前記第1基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めすることと、
付与パターンにしたがってプロダクトフィーチャを生成するよう前記第1基板を処理することと、
前記第1基板に前記パターンが与えられている間、第2基板サポートに保持されている第2基板の前記第2基板サポートに対するアライメントを測定することと、を含み、
前記測定ステップは、パターニング位置の周りに配置された前記第1基板上の位置に向けられた複数のアライメントセンサを使用し、前記一連の動きが行われている間に前記アライメントセンサを動作させることによって行われ、前記アライメントセンサを動作させることは、最初の基板部分へのパターン付与の後に前記第1基板上のアライメントマークを認識して測定し、より新しい測定を生成するためのものであり、前記パターンを次の基板部分に与えるために前記第1基板サポート、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを相互に位置決めする際、前記より新しい測定が使用され、
前記アライメントセンサは、前記パターニングサブシステムに含まれる投影システムに取り付けられている、方法。
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