JP5399976B2 - 真空シールおよび配管接続機構 - Google Patents
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Description
図3は、第一のパイプに高周波電流または直流電流を流すことを目的とした真空シールおよび配管接続機構を示す断面図である。このような構成は、第一のパイプ2を後述する高周波アンテナまたはイオン源として用いるのに好適である。図3を参照して、当該真空シールおよび配管接続機構は、真空容器1と、第一のパイプ2と、電気接続端子3と、フランジ4と、第二のパイプ20と、ハウジング21と、鍔部24と、スタッド26と、ナット27と、ボルト28と、Oリング50、51、52、53とを備える。
図4は、第一のパイプに高周波電流または直流電流を流すことを目的とした他の真空シールおよび配管接続機構を示す断面図である。図4を参照して、当該真空シールおよび配管接続機構は、真空容器1と、第一のパイプ2と、電気接続端子3と、第二のパイプ20と、ハウジング21と、鍔部24と、スタッド26と、ナット27と、ボルト28と、絶縁スペーサー30と、Oリング50、51、52とを備える。
2 … 第一のパイプ
3 … 電気接続端子
4 … フランジ
10,20 … 第二のパイプ
11,21 … ハウジング
12,14 … ナット部材
13 … 押し金具
15 … シール用パッキン
24 … 鍔部
26 … スタッド
27 … ナット
28 … ボルト
30 … 絶縁スペーサー
40,41,50,51,52,53 … Oリング
Claims (5)
- 流体が流れる配管を真空容器内部に導入するための真空シールおよび配管接続機構であって、
真空容器に設けられた孔または真空容器の開口部を気密に塞ぐフランジに設けられた孔に挿通される第一のパイプと、
前記第一のパイプの大気側の端部に接続される第二のパイプと、
前記第一のパイプを内包して支持し前記真空容器または前記フランジに固定されるハウジングと、
前記第一のパイプの外周面にあって前記第二のパイプおよび前記ハウジングによりそれぞれ挟持されるOリングとを備え、
前記第二のパイプは、前記第一のパイプとの接続部近傍より延びる鍔部を有し、
前記ハウジングと前記鍔部とを連結するスタッドをさらに備えた、真空シールおよび配管接続機構。 - 前記第一のパイプに接続される電気接続端子をさらに備え、
前記第一のパイプは前記フランジに設けられた孔に挿通されるとともに前記ハウジングは前記フランジに固定され、
前記第一のパイプは、電気伝導体であり、
少なくとも前記フランジおよび前記第二のパイプにおける前記第一のパイプとの接続部は、誘電体である、請求項1に記載の真空シールおよび配管接続機構。 - 前記第一のパイプに接続される電気接続端子と、
前記真空容器と前記第一のパイプとの間に介在する絶縁スペーサーとをさらに備え、
前記第一のパイプは、電気伝導体であり、
少なくとも前記ハウジングおよび前記第二のパイプにおける前記第一のパイプとの接続部は、誘電体である、請求項1に記載の真空シールおよび配管接続機構。 - 請求項2または3に記載の真空シールおよび配管接続機構を有する高周波アンテナを備えた、プラズマ処理装置。
- 請求項2または3に記載の真空シールおよび流体接続機構を有するイオン源を備えた、イオンビーム照射装置。
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