JP3295835B2 - プラズマガンの中間電極コイル引出装置 - Google Patents
プラズマガンの中間電極コイル引出装置Info
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- JP3295835B2 JP3295835B2 JP10596797A JP10596797A JP3295835B2 JP 3295835 B2 JP3295835 B2 JP 3295835B2 JP 10596797 A JP10596797 A JP 10596797A JP 10596797 A JP10596797 A JP 10596797A JP 3295835 B2 JP3295835 B2 JP 3295835B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空容器が規定す
る成膜室内にて、プラズマ源が発生するプラズマビーム
を陽極に導き、付着材料をイオン化し、陽極の上方に配
置されかつ電圧が印加された基板表面に膜を形成する真
空成膜装置等に使用されるプラズマガンの中間電極コイ
ル引出装置に関する。
る成膜室内にて、プラズマ源が発生するプラズマビーム
を陽極に導き、付着材料をイオン化し、陽極の上方に配
置されかつ電圧が印加された基板表面に膜を形成する真
空成膜装置等に使用されるプラズマガンの中間電極コイ
ル引出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマガンを利用した真空成膜装置に
は、イオンプレーティング装置や、プラズマＣＶＤ装置
などがある。
は、イオンプレーティング装置や、プラズマＣＶＤ装置
などがある。
【０００３】例えば、イオンプレーティング装置のプラ
ズマガンとしては、圧力勾配型プラズマガン源またはＨ
ＣＤプラズマガンが知られている。このようなプラズマ
ガンを使用したイオンプレーティング装置では、プラズ
マビーム発生器（プラズマガン源）を備えており、真空
容器中に配置されたハース（陽極）とプラズマビーム発
生器との間でプラズマビームを発生させ、ハース上に載
置された付着材料としての蒸着材料を加熱蒸発させてい
る。そして、蒸着材料からの蒸着金属粒子はプラズマビ
ームによってイオン化・活性化され、このイオン粒子が
負電圧の基板表面に付着し、基板上に膜が形成される。
ズマガンとしては、圧力勾配型プラズマガン源またはＨ
ＣＤプラズマガンが知られている。このようなプラズマ
ガンを使用したイオンプレーティング装置では、プラズ
マビーム発生器（プラズマガン源）を備えており、真空
容器中に配置されたハース（陽極）とプラズマビーム発
生器との間でプラズマビームを発生させ、ハース上に載
置された付着材料としての蒸着材料を加熱蒸発させてい
る。そして、蒸着材料からの蒸着金属粒子はプラズマビ
ームによってイオン化・活性化され、このイオン粒子が
負電圧の基板表面に付着し、基板上に膜が形成される。
【０００４】図２は、従来のイオンプレーティング装置
の一例を示す側断面図である。図２を参照して、このイ
オンプレーティング装置は、気密性の真空容器１０を有
している。真空容器１０には、ガイド部１２を介してプ
ラズマビーム発生器（例えば、圧力勾配型プラズマガ
ン）２０が取り付けられている。ガイド部１２の外側に
は、プラズマビームをガイドするためのステアリングコ
イル３１が配設されている。プラズマビーム発生器２０
には、プラズマビームを収束するための第１および第２
の中間電極２７および２８が同心的に配置されている。
第１の中間電極２７には磁極軸がプラズマ発生器２０の
中心軸と平行になるようにして永久磁石２７１が内臓さ
れており、第２の中間電極２８にはコイル２８１が内臓
されている。
の一例を示す側断面図である。図２を参照して、このイ
オンプレーティング装置は、気密性の真空容器１０を有
している。真空容器１０には、ガイド部１２を介してプ
ラズマビーム発生器（例えば、圧力勾配型プラズマガ
ン）２０が取り付けられている。ガイド部１２の外側に
は、プラズマビームをガイドするためのステアリングコ
イル３１が配設されている。プラズマビーム発生器２０
には、プラズマビームを収束するための第１および第２
の中間電極２７および２８が同心的に配置されている。
第１の中間電極２７には磁極軸がプラズマ発生器２０の
中心軸と平行になるようにして永久磁石２７１が内臓さ
れており、第２の中間電極２８にはコイル２８１が内臓
されている。
【０００５】プラズマビーム発生器２０には、第１およ
び第２の中間電極２７および２８で規定される通路に繋
がる絶縁管（例えば、ガラス管）２１が備えられてい
る。絶縁管２１内には、Ｍｏ筒２２が配置されている。
Ｍｏ筒２２内には、Ｔａパイプ２３が配置されている。
Ｍｏ筒２２とＴａパイプ２３とで規定される空間は、Ｌ
ａＢ6 製の環状板２４で隔離されている。絶縁管２１、
Ｍｏ筒２２、およびＴａパイプ２３の一端には、導体板
部２５が取り付けられている。導体板部２５に形成され
たキャリアガス導入口２６からキャリアガス（Ａｒ等の
不活性ガス）が導入され、キャリアガスは、Ｔａパイプ
２３を通過する。
び第２の中間電極２７および２８で規定される通路に繋
がる絶縁管（例えば、ガラス管）２１が備えられてい
る。絶縁管２１内には、Ｍｏ筒２２が配置されている。
Ｍｏ筒２２内には、Ｔａパイプ２３が配置されている。
Ｍｏ筒２２とＴａパイプ２３とで規定される空間は、Ｌ
ａＢ6 製の環状板２４で隔離されている。絶縁管２１、
Ｍｏ筒２２、およびＴａパイプ２３の一端には、導体板
部２５が取り付けられている。導体板部２５に形成され
たキャリアガス導入口２６からキャリアガス（Ａｒ等の
不活性ガス）が導入され、キャリアガスは、Ｔａパイプ
２３を通過する。
【０００６】真空容器１０内には、被処理物体としての
基板１００が搬送装置６１に支持されることによって配
置されている。基板１００には、負バイアス用の直流電
源が接続される。真空容器１０の底面には、基板１００
に対向するように、ハース（陽極）４１が配置されてい
る。ハース４１の外周には、環状の補助陽極４２が配置
されている。
基板１００が搬送装置６１に支持されることによって配
置されている。基板１００には、負バイアス用の直流電
源が接続される。真空容器１０の底面には、基板１００
に対向するように、ハース（陽極）４１が配置されてい
る。ハース４１の外周には、環状の補助陽極４２が配置
されている。
【０００７】導体板部２５には、可変電源９０のマイナ
ス端が接続されている。可変電源９０のプラス端は、そ
れぞれ抵抗器Ｒ１およびＲ２を介して、第１および第２
の中間電極２７および２８に接続されている。一方、ハ
ース４１は、可変電源９０ならびに抵抗器Ｒ１およびＲ
２に接続される。また、真空容器１０の側壁には、キャ
リアガス（ＡｒやＨｅ等の不活性ガス）を導入するため
のガス導入口１０ａと、真空容器１０内を排気するため
の排気口１０ｂとが形成されている。
ス端が接続されている。可変電源９０のプラス端は、そ
れぞれ抵抗器Ｒ１およびＲ２を介して、第１および第２
の中間電極２７および２８に接続されている。一方、ハ
ース４１は、可変電源９０ならびに抵抗器Ｒ１およびＲ
２に接続される。また、真空容器１０の側壁には、キャ
リアガス（ＡｒやＨｅ等の不活性ガス）を導入するため
のガス導入口１０ａと、真空容器１０内を排気するため
の排気口１０ｂとが形成されている。
【０００８】このイオンプレーティング装置では、キャ
リアガス導入口２６からキャリアガスが導入されると、
第１の中間電極２７とＭｏ筒２２との間で放電が始ま
る。これによって、プラズマビーム３００が発生する。
プラズマビーム３００は、ステアリングコイル３１と補
助陽極４２の磁石にガイドされて、陽極として用いられ
るハース４１および補助陽極４２に到達する。ハース４
１にプラズマビーム３００が与えられると、ハース４１
に収容された蒸着材料２００がジュール加熱されて蒸発
する。蒸発金属粒子は、イオン化され、負電圧が印加さ
れた基板１００の表面に付着し、基板１００上に膜が形
成される。
リアガス導入口２６からキャリアガスが導入されると、
第１の中間電極２７とＭｏ筒２２との間で放電が始ま
る。これによって、プラズマビーム３００が発生する。
プラズマビーム３００は、ステアリングコイル３１と補
助陽極４２の磁石にガイドされて、陽極として用いられ
るハース４１および補助陽極４２に到達する。ハース４
１にプラズマビーム３００が与えられると、ハース４１
に収容された蒸着材料２００がジュール加熱されて蒸発
する。蒸発金属粒子は、イオン化され、負電圧が印加さ
れた基板１００の表面に付着し、基板１００上に膜が形
成される。
【０００９】また、図３は、従来のプラズマＣＶＤ装置
の一例を示す側断面図である。尚、同図において、図２
に示したイオンプレーティング装置と同一部または同様
部には図２と同符号を付し、説明を省略する。図３を参
照して、このプラズマＣＶＤ装置は、真空容器１０′の
側壁には、付着材料としての原料ガス２５０を導入する
原料ガス導入口１０ａ′が形成されている。また、真空
容器１０′内の底面には、陽極４１′が配置されてい
る。
の一例を示す側断面図である。尚、同図において、図２
に示したイオンプレーティング装置と同一部または同様
部には図２と同符号を付し、説明を省略する。図３を参
照して、このプラズマＣＶＤ装置は、真空容器１０′の
側壁には、付着材料としての原料ガス２５０を導入する
原料ガス導入口１０ａ′が形成されている。また、真空
容器１０′内の底面には、陽極４１′が配置されてい
る。
【００１０】このプラズマＣＶＤ装置では、真空容器１
０′内が排気されると共に、原料ガス導入口１０ａ′か
ら原料ガス２５０が導入され、プラズマビーム発生器２
０によってプラズマビーム３００を発生して陽極４１′
に導く。そして、原料ガス２５０は、イオン化され、負
電圧が印加された基板１００の表面に付着し、基板１０
０上に膜が形成される。
０′内が排気されると共に、原料ガス導入口１０ａ′か
ら原料ガス２５０が導入され、プラズマビーム発生器２
０によってプラズマビーム３００を発生して陽極４１′
に導く。そして、原料ガス２５０は、イオン化され、負
電圧が印加された基板１００の表面に付着し、基板１０
０上に膜が形成される。
【００１１】図４は、図２、図３で示した真空成膜装置
の第２の中間電極の詳細な構造を示す図である。図４を
参照して、第２の中間電極２８は、コイル磁石２８１
と、コイルケース２８２により支持固定した状態でコイ
ル磁石２８１を収容する収納ケース２８３と、収納ケー
ス２８３に水密に組み合わされる蓋２８４と、収納ケー
ス２８３に収容されたコイル磁石２８１に対して収容ケ
ース２８３外から水密を保った状態で電源を供給するた
めの配線構造としての接続部材２８６と、収納ケース２
８３と蓋２８４とで規定される室内に冷媒を流通させて
コイル磁石２８１を冷却するための冷媒配管２８７とを
備えている。コイル磁石２８１の巻回電線は、絶縁被覆
されている。蓋２８４は、収納ケース２８３に対して、
通常、溶接によって接合される。収納ケース２８３なら
びに蓋２８４は、絶縁体２９２および２９１を介して第
１の中間電極および真空容器のガイド部１２と電気的に
絶縁されている。
の第２の中間電極の詳細な構造を示す図である。図４を
参照して、第２の中間電極２８は、コイル磁石２８１
と、コイルケース２８２により支持固定した状態でコイ
ル磁石２８１を収容する収納ケース２８３と、収納ケー
ス２８３に水密に組み合わされる蓋２８４と、収納ケー
ス２８３に収容されたコイル磁石２８１に対して収容ケ
ース２８３外から水密を保った状態で電源を供給するた
めの配線構造としての接続部材２８６と、収納ケース２
８３と蓋２８４とで規定される室内に冷媒を流通させて
コイル磁石２８１を冷却するための冷媒配管２８７とを
備えている。コイル磁石２８１の巻回電線は、絶縁被覆
されている。蓋２８４は、収納ケース２８３に対して、
通常、溶接によって接合される。収納ケース２８３なら
びに蓋２８４は、絶縁体２９２および２９１を介して第
１の中間電極および真空容器のガイド部１２と電気的に
絶縁されている。
【００１２】接続部材２８６は、絶縁筒体２８６ｄを挟
んで収納ケース２８３の側面の孔に取り付けられる電極
ボルト２８６ａと、コイル磁石２８１の引出線２８１ａ
の絶縁被覆を剥離した先端に圧着されると共に、ナット
２８６ｃによって電極ボルト２８６ａ線端部に係止され
る内部端子２８６ｂと、外部電源からの電線に圧着され
ると共に、ボルト２８６ｅによって電極ボルト２８６ａ
の頭部に係止される外部端子２８６ｆと、電極ボルト２
８６ａ先端部、内部端子２８６ｂ、ならびに引出線２８
１ａ先端を収納ケース２８３および冷媒に対して絶縁す
るように塗布乾燥された絶縁樹脂２８６ｇと、収納ケー
ス２８３の側面の孔の水密をなすＯリング２８６ｈおよ
びＯリング２８６ｉとを備えている。
んで収納ケース２８３の側面の孔に取り付けられる電極
ボルト２８６ａと、コイル磁石２８１の引出線２８１ａ
の絶縁被覆を剥離した先端に圧着されると共に、ナット
２８６ｃによって電極ボルト２８６ａ線端部に係止され
る内部端子２８６ｂと、外部電源からの電線に圧着され
ると共に、ボルト２８６ｅによって電極ボルト２８６ａ
の頭部に係止される外部端子２８６ｆと、電極ボルト２
８６ａ先端部、内部端子２８６ｂ、ならびに引出線２８
１ａ先端を収納ケース２８３および冷媒に対して絶縁す
るように塗布乾燥された絶縁樹脂２８６ｇと、収納ケー
ス２８３の側面の孔の水密をなすＯリング２８６ｈおよ
びＯリング２８６ｉとを備えている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図４に示し
た磁石コイルの電気的配線構造を持つ中間電極では、プ
ラズマガンを使用するにつれ、配線構造における内部端
子の周囲に形成される絶縁樹脂が、劣化したり、剥離す
ることがしばしばあった。この場合、絶縁樹脂の劣化部
分や剥離部分に冷媒が浸透し、絶縁破壊が生じたり、電
食によって磁石コイルの引出線が断線したり、電線の接
合部に冷却水中のサビ・ドロ等が堆積し、絶縁破壊を生
じるなどし、プラズマガンを正常に運転することが不可
能になる。また、収容ケースは前述したように溶接によ
り密封されるので、密封した収容ケース内における絶縁
樹脂の劣化や剥離を修復する作業は困難である。
た磁石コイルの電気的配線構造を持つ中間電極では、プ
ラズマガンを使用するにつれ、配線構造における内部端
子の周囲に形成される絶縁樹脂が、劣化したり、剥離す
ることがしばしばあった。この場合、絶縁樹脂の劣化部
分や剥離部分に冷媒が浸透し、絶縁破壊が生じたり、電
食によって磁石コイルの引出線が断線したり、電線の接
合部に冷却水中のサビ・ドロ等が堆積し、絶縁破壊を生
じるなどし、プラズマガンを正常に運転することが不可
能になる。また、収容ケースは前述したように溶接によ
り密封されるので、密封した収容ケース内における絶縁
樹脂の劣化や剥離を修復する作業は困難である。
【００１４】本発明の課題は、中間電極の磁石コイルの
引出装置に長時間にわたって不具合が生ずることがない
プラズマガンの中間電極コイル引出装置を提供すること
である。
引出装置に長時間にわたって不具合が生ずることがない
プラズマガンの中間電極コイル引出装置を提供すること
である。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、水密の
収容ケース内に収容されて該収容ケース内にて冷媒を用
いて冷却されるコイル磁石を備えるプラズマガンの中間
電極に適用され、前記収容ケース内外に貫通する孔を用
いて該収容ケース外から水密を確保した状態で前記コイ
ル磁石に対して電源を供給するためのプラズマガンの中
間電極コイル引出し装置において、前記コイル磁石の引
出し線自体が前記収容ケース外にまで水密を確保した状
態で配線され、前記収容ケースの孔に螺入する主筒体
と、前記主筒体の筒内に収容され、前記コイル磁石の引
出線が貫通する孔を備える弾性筒体と、前記弾性筒体を
押圧する絶縁筒体とを有することを特徴とするプラズマ
ガンの中間電極コイル引出装置が得られる。
収容ケース内に収容されて該収容ケース内にて冷媒を用
いて冷却されるコイル磁石を備えるプラズマガンの中間
電極に適用され、前記収容ケース内外に貫通する孔を用
いて該収容ケース外から水密を確保した状態で前記コイ
ル磁石に対して電源を供給するためのプラズマガンの中
間電極コイル引出し装置において、前記コイル磁石の引
出し線自体が前記収容ケース外にまで水密を確保した状
態で配線され、前記収容ケースの孔に螺入する主筒体
と、前記主筒体の筒内に収容され、前記コイル磁石の引
出線が貫通する孔を備える弾性筒体と、前記弾性筒体を
押圧する絶縁筒体とを有することを特徴とするプラズマ
ガンの中間電極コイル引出装置が得られる。
【００１６】
【００１７】本発明によればさらに、前記主筒体は、筒
内に環状の鍔座が形成されていると共に、両端外周部に
ネジ部を備え、さらに、一端が前記収納ケースの孔に水
密を確保して螺入しており、前記弾性筒体は、前記主筒
体の筒内で、かつ前記鍔座の前記主筒体の一端側に配置
されると共に、前記コイル磁石の引出線の貫通孔を備
え、前記絶縁筒体は、前記主筒体の一端側から筒内に挿
入されると共に、一端が前記弾性筒体に当接するように
なっており、さらに、前記主筒体の一端側に形成された
ネジ部に螺入するキャップナットの捩じ込みによって前
記鍔座側に移動する前記プラズマガンの中間電極コイル
引出装置が得られる。
内に環状の鍔座が形成されていると共に、両端外周部に
ネジ部を備え、さらに、一端が前記収納ケースの孔に水
密を確保して螺入しており、前記弾性筒体は、前記主筒
体の筒内で、かつ前記鍔座の前記主筒体の一端側に配置
されると共に、前記コイル磁石の引出線の貫通孔を備
え、前記絶縁筒体は、前記主筒体の一端側から筒内に挿
入されると共に、一端が前記弾性筒体に当接するように
なっており、さらに、前記主筒体の一端側に形成された
ネジ部に螺入するキャップナットの捩じ込みによって前
記鍔座側に移動する前記プラズマガンの中間電極コイル
引出装置が得られる。
【００１８】本発明によればまた、前記収容ケースの水
密が確保された領域内にて前記引出線を覆うように配置
された絶縁性を持つケース内絶縁筒体を有する前記プラ
ズマガンの中間電極コイル引出装置が得られる。
密が確保された領域内にて前記引出線を覆うように配置
された絶縁性を持つケース内絶縁筒体を有する前記プラ
ズマガンの中間電極コイル引出装置が得られる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態によるプラズマガンの中間電極コイル引出装
置を説明する。
実施の形態によるプラズマガンの中間電極コイル引出装
置を説明する。
【００２０】図１は、本発明が適用される第２の中間電
極の断面図である。尚、同図において、従来例と同一部
または同様部には図４と同符号を付し、説明を省略す
る。
極の断面図である。尚、同図において、従来例と同一部
または同様部には図４と同符号を付し、説明を省略す
る。
【００２１】図１を参照して、本装置は、コイル磁石２
８１の引出線２８１ａ自体が水密を確保した状態で収容
ケース２８３外にまで配線されたものである。即ち、冷
媒が流通する収容ケース内には、絶縁性樹脂を塗布する
箇所がない。
８１の引出線２８１ａ自体が水密を確保した状態で収容
ケース２８３外にまで配線されたものである。即ち、冷
媒が流通する収容ケース内には、絶縁性樹脂を塗布する
箇所がない。
【００２２】引出装置２８５は、主筒体２８５ａと、弾
性筒体２８５ｄと、キャップナット２８５ｅと、絶縁筒
体２８５ｃと、ケース内絶縁筒体２８５ｂとを有してい
る。主筒体２８５ａは、筒内に形成された環状の鍔座２
８５ｆおよび両端の外周にネジ部を備え、筒内が収容ケ
ース２８３の孔２８３ａに連通し、かつ一端が水密を確
保した状態で孔２８３ａのネジ部に螺入している。主筒
体２８５ａは、絶縁性でも非絶縁性でもよいが、収容ケ
ース２８３に対する取付強度の点からは、金属製である
方が好ましい。弾性筒体２８５ｄは、主筒体２８５ａの
筒内にて鍔座２８５ｆの主筒体２８５ａの他端側の座面
（図中、上側の座面）に配置され、絶縁性および弾性を
持っている。また、引出線２８１ａの貫通孔を有してい
る。絶縁筒体２８５ｃは、一端側が主筒体２８５ａの筒
内に挿入され、弾性筒体２８５ｄを押圧するものであ
り、また、絶縁性を持っている。キャップナット２８５
ｅは、絶縁筒体２８５ｃに一部が係合した状態で主筒体
２８５ａのネジ部に螺入し、絶縁筒体２８５ｃを弾性筒
体２８５ｄに押圧させるものである。キャップナット２
８５ｅも、絶縁性でも非絶縁性でもよい。
性筒体２８５ｄと、キャップナット２８５ｅと、絶縁筒
体２８５ｃと、ケース内絶縁筒体２８５ｂとを有してい
る。主筒体２８５ａは、筒内に形成された環状の鍔座２
８５ｆおよび両端の外周にネジ部を備え、筒内が収容ケ
ース２８３の孔２８３ａに連通し、かつ一端が水密を確
保した状態で孔２８３ａのネジ部に螺入している。主筒
体２８５ａは、絶縁性でも非絶縁性でもよいが、収容ケ
ース２８３に対する取付強度の点からは、金属製である
方が好ましい。弾性筒体２８５ｄは、主筒体２８５ａの
筒内にて鍔座２８５ｆの主筒体２８５ａの他端側の座面
（図中、上側の座面）に配置され、絶縁性および弾性を
持っている。また、引出線２８１ａの貫通孔を有してい
る。絶縁筒体２８５ｃは、一端側が主筒体２８５ａの筒
内に挿入され、弾性筒体２８５ｄを押圧するものであ
り、また、絶縁性を持っている。キャップナット２８５
ｅは、絶縁筒体２８５ｃに一部が係合した状態で主筒体
２８５ａのネジ部に螺入し、絶縁筒体２８５ｃを弾性筒
体２８５ｄに押圧させるものである。キャップナット２
８５ｅも、絶縁性でも非絶縁性でもよい。
【００２３】本引出装置においては、磁石コイル２８１
の引出線２８１ａは、絶縁被覆が施された状態で収容ケ
ース２８３内から、主筒体２８５ａ、弾性筒体２８５
ｄ、絶縁筒体２８５ｃ、およびキャップナット２８５ｅ
内を通って、収容ケース２８３外へ配線されている。キ
ャップナット２８５ｅを主筒体２８５ａに捩じ込むこと
で、弾性筒体２８５ｄがキャップナット２８５ｅに係合
した絶縁筒体２８５ｃに押圧されて変形し、引出線２８
１ａの外周と弾性筒体２８５ｄの内周との間、および弾
性筒体２８５ｄの外周と主筒体２８５ａの内周との間の
水密が確保される。
の引出線２８１ａは、絶縁被覆が施された状態で収容ケ
ース２８３内から、主筒体２８５ａ、弾性筒体２８５
ｄ、絶縁筒体２８５ｃ、およびキャップナット２８５ｅ
内を通って、収容ケース２８３外へ配線されている。キ
ャップナット２８５ｅを主筒体２８５ａに捩じ込むこと
で、弾性筒体２８５ｄがキャップナット２８５ｅに係合
した絶縁筒体２８５ｃに押圧されて変形し、引出線２８
１ａの外周と弾性筒体２８５ｄの内周との間、および弾
性筒体２８５ｄの外周と主筒体２８５ａの内周との間の
水密が確保される。
【００２４】さらに、本引出装置では、主筒体２８５ａ
の鍔座２８５ｆよりも主筒体２８５ａの一端側（図中、
下側）の領域、即ち、収容ケース２８３内の領域にて、
コイル磁石２８１の引出線２８１ａを覆うように配置さ
れた絶縁性を持つケース内絶縁筒体２８５ｂを有してい
る。ケース内絶縁筒体２８５ｂは、主筒体２８５ａに取
り付けられている。ケース内絶縁筒体２８５ｂを有する
ことにより、引出線２８１ａが流通する冷媒に動かされ
るなどした際に収容ケース２８３や主筒体２８５ａと摩
擦し、その絶縁被覆が剥がれたり、断線することが防止
される。さらに、ケース内絶縁筒体２８５ｂの端部に
は、面取り加工や曲面加工を施し、引出線２８１ａが損
傷を受けないようにしている。
の鍔座２８５ｆよりも主筒体２８５ａの一端側（図中、
下側）の領域、即ち、収容ケース２８３内の領域にて、
コイル磁石２８１の引出線２８１ａを覆うように配置さ
れた絶縁性を持つケース内絶縁筒体２８５ｂを有してい
る。ケース内絶縁筒体２８５ｂは、主筒体２８５ａに取
り付けられている。ケース内絶縁筒体２８５ｂを有する
ことにより、引出線２８１ａが流通する冷媒に動かされ
るなどした際に収容ケース２８３や主筒体２８５ａと摩
擦し、その絶縁被覆が剥がれたり、断線することが防止
される。さらに、ケース内絶縁筒体２８５ｂの端部に
は、面取り加工や曲面加工を施し、引出線２８１ａが損
傷を受けないようにしている。
【００２５】尚、本引出装置は、収容ケース２８３に蓋
２８４を溶接した後でも、分解、取り外しが可能であ
り、メインテナンスに有利である。
２８４を溶接した後でも、分解、取り外しが可能であ
り、メインテナンスに有利である。
【００２６】
【発明の効果】本発明によるプラズマガンの中間電極コ
イル引出装置は、収容ケースの孔に螺入する主筒体と、
主筒体の筒内に収容され、コイル磁石の引出線が貫通す
る孔を備える弾性筒体と、弾性筒体を押圧する絶縁筒体
とを有し、コイル磁石の引出線自体が収容ケース外にま
で水密を確保した状態で配線されているため、従来のご
とく収容ケース内に絶縁樹脂を塗布する必要がなく、中
間電極の磁石コイルの引出装置に長時間にわたって、従
来のような絶縁樹脂の劣化による不具合が生ずることが
ない。このため、プラズマガンを正常に運転することが
不可であり、また、密封した収容ケース内における絶縁
樹脂の劣化や剥離を修復する困難な作業を行う必要もな
い。
イル引出装置は、収容ケースの孔に螺入する主筒体と、
主筒体の筒内に収容され、コイル磁石の引出線が貫通す
る孔を備える弾性筒体と、弾性筒体を押圧する絶縁筒体
とを有し、コイル磁石の引出線自体が収容ケース外にま
で水密を確保した状態で配線されているため、従来のご
とく収容ケース内に絶縁樹脂を塗布する必要がなく、中
間電極の磁石コイルの引出装置に長時間にわたって、従
来のような絶縁樹脂の劣化による不具合が生ずることが
ない。このため、プラズマガンを正常に運転することが
不可であり、また、密封した収容ケース内における絶縁
樹脂の劣化や剥離を修復する困難な作業を行う必要もな
い。
【図１】本発明の実施の形態によるプラズマガンの中間
電極コイル引出装置の断面図である。
電極コイル引出装置の断面図である。
【図２】従来例による真空成膜装置としてのイオンプレ
ーティング装置を示す側断面図である。
ーティング装置を示す側断面図である。
【図３】従来例による真空成膜装置としてのプラズマＣ
ＶＤ装置を示す側断面図である。
ＶＤ装置を示す側断面図である。
【図４】従来例によるプラズマガンの中間電極コイル引
出装置の断面図である。
出装置の断面図である。
１０ 真空容器 １２ ガイド部 ２０ プラズマビーム発生器 ２７ 第１の中間電極 ２８ 第２の中間電極 ４１ ハース １００ 基板 ２００ 蒸発材料 ２８１ コイル磁石 ２８１ａ 引出線 ２８２ コイルケース ２８３ 収納ケース ２８３ａ 孔 ２８４ 蓋 ２８５ 引出装置 ２８５ａ 主筒体 ２８５ｂ ケース内絶縁筒体 ２８５ｃ 絶縁筒体 ２８５ｄ 弾性筒体 ２８５ｅ キャップナット ２８５ｆ 鍔座 ２８６ 接続部材 ２８６ａ 電極ボルト ２８６ｂ 内部端子 ２８６ｃ ナット ２８６ｄ 絶縁筒体 ２８６ｅ ボルト ２８６ｆ 外部端子 ２８６ｇ 絶縁樹脂 ２８６ｈ、２８６ｉ Ｏリング ２８７ 冷媒配管 ２９１、２９２ 絶縁体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−202467（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−258833（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−310186（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−1626（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 H05H 1/26
Claims (3)
- 【請求項１】 水密の収容ケース内に収容されて該収容
ケース内にて冷媒を用いて冷却されるコイル磁石を備え
るプラズマガンの中間電極に適用され、前記収容ケース
内外に貫通する孔を用いて該収容ケース外から水密を確
保した状態で前記コイル磁石に対して電源を供給するた
めのプラズマガンの中間電極コイル引出し装置におい
て、前記コイル磁石の引出し線自体が前記収容ケース外
にまで水密を確保した状態で配線され、前記収容ケース
の孔に螺入する主筒体と、前記主筒体の筒内に収容さ
れ、前記コイル磁石の引出線が貫通する孔を備える弾性
筒体と、前記弾性筒体を押圧する絶縁筒体とを有するこ
とを特徴とするプラズマガンの中間電極コイル引出装
置。 - 【請求項２】 前記主筒体は、筒内に環状の鍔座が形成
されていると共に、両側外周部にネジ部を備え、さら
に、一端が前記収納ケースの孔に水密を確保して螺入し
ており、前記弾性筒体は、前記主筒体の筒内で、かつ前
記鍔座の前記主筒体の一端側に配置されると共に、前記
コイル磁石の引出線の貫通孔を備え、前記絶縁筒体は、
前記主筒体の一端側から筒内に挿入されると共に、一端
が前記弾性筒体に当接するようになっており、さらに、
前記主筒体の一端側に形成されたネジ部に螺入するキャ
ップナットの捩じ込みによって前記鍔座側に移動する請
求項１に記載のプラズマガンの中間電極コイル引出装
置。 - 【請求項３】 前記収容ケースの水密が確保された領域
内にて前記引出線を覆うように配置された絶縁性を持つ
ケース内絶縁筒体を有する請求項１または２に記載のプ
ラズマガンの中間電極コイル引出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10596797A JP3295835B2 (ja) | 1997-04-23 | 1997-04-23 | プラズマガンの中間電極コイル引出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10596797A JP3295835B2 (ja) | 1997-04-23 | 1997-04-23 | プラズマガンの中間電極コイル引出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10298741A JPH10298741A (ja) | 1998-11-10 |
| JP3295835B2 true JP3295835B2 (ja) | 2002-06-24 |
Family
ID=14421564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10596797A Expired - Fee Related JP3295835B2 (ja) | 1997-04-23 | 1997-04-23 | プラズマガンの中間電極コイル引出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3295835B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008038467A1 (fr) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Shinmaywa Industries, Ltd. | Électrode intermédiaire intégrée et pistolet au plasma du type à gradient de pression |
| JP5154480B2 (ja) * | 2009-03-10 | 2013-02-27 | 住友重機械工業株式会社 | 電流導入構造 |
| CN105296936B (zh) * | 2015-12-02 | 2017-11-21 | 苏州奥夫特光学技术有限公司 | 一种用于滤光片真空蒸镀设备用电极 |
| KR102405043B1 (ko) * | 2018-01-19 | 2022-06-02 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 성막장치 |
| JP7080796B2 (ja) * | 2018-10-31 | 2022-06-06 | 株式会社東芝 | 電流導入端子構造及び電磁石装置 |
-
1997
- 1997-04-23 JP JP10596797A patent/JP3295835B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10298741A (ja) | 1998-11-10 |
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