JP5392457B2 - 電子写真感光体、画像成形装置、フルカラー画像形成装置及びプロセスカートリッジ - Google Patents
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Description
上述のように、地肌汚れ等の画像欠陥は、電荷リーク現象に基づくものであるから、電界強度依存性を有し、電界強度が大きいほど電荷リークの確率が大きくなる。
例えば、摩耗量が小さくなったため、感光体の繰り返し使用時に表面に堆積する物質が増加し、その結果、画像ボケ等の異常画像が発生するようになった。この点に関しては、保護層の改良や感光体の使用方法(例えば、ドラムヒーターの採用等)により解決される。
このような更なる表面保護層の改良、感光体の使いこなし技術の開発により、感光体の耐摩耗性は更に向上し、感光体の寿命は明らかに延びた。この結果、保護層を用いない状況下では考えられないような長い期間、感光体が使用されるようになり、感光体摩耗・電荷リークに基づく画像欠陥等の範疇では、予測の付かなかった感光体の静電疲労が律速の寿命を迎えるようになってきた。
感光体の静電特性とは、画像形成装置内で言えば未露光部電位と露光部電位であり、これらが如何に安定して推移するかと言うことになる。前者は感光体の帯電性及び帯電保持性により決まり、後者は感光体の光感度及び残留電位によって決まる。本発明者らは、適切な表面保護層(以降、「保護層」と略称することがある)を設けることにより、感光体静電容量の変化が小さくなり、変化量が小さくなることを見出した。但し、その一方で新たな課題、例えば、感光体の1周目の未露光部帯電電位が低下する問題が発生し、これが感光体の寿命を律する新たな課題になり得ることが分かった。これに対して、本発明者らは、感光層に特定のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド誘導体を含有させることによりこれらを安定に維持できることを見出した。
一方、高耐久化に関しては、耐久性の律速を決める過程(原因)によって決定される感光体の寿命を、如何に延ばすかということに尽きる。現行の画像形成装置はネガ・ポジ現像が主流であり、この現像方式で最も大きな課題は地肌汚れ(地汚れ)である。これは、導電性支持体と感光層との間の電荷ブロッキング性の問題であり、メイン帯電と逆極性の電荷がリークしてしまうことにより起こる現象であると考えられる。この点に関しても、適切な保護層を設けることにより、感光体に印加される電界強度の上昇を抑制することができ、電荷リーク現象を抑制することができる。一方、保護層を設けることにより、残像現象のような従来あまり認められていなかった異常画像の発生が増加するようになった。本発明者らは、感光層に特定のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド誘導体を含有させることにより、この現象を抑制できることを見出した。
本発明者らの前記知見に基づく以下の〔1〕〜〔11〕に記載する発明によって前記課題が解決されることを見出し本発明に至った。以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の画像形成装置によれば、長寿命で高性能な電子写真感光体を配備するため、長期間の繰り返し使用においても常に安定した画像を出力することができ、また、画像形成装置の小型化やプロセスの高速化の要求に応えることができる。したがって、電子写真応用分野(例えば、レーザープリンタ、複写機、ファクシミリ等)に広く適用することができる。
本発明の画像形成装置用プロセスカートリッジによれば、各プロセス手段と上記長寿命で高性能な電子写真感光体が一体となり、相対的な位置精度が高い構成とされるために画像品質の向上が図れ、長期にわたる繰り返し通紙においても高品質の画像が形成でき、しかも感光体やその他プロセス手段の交換を短時間で容易に行うことができ、取り扱いの利便性も高い。
なお、後述するように、上記感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を含む単層構成であってもよいし、電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層との積層構成であってもよい。
図1は、本発明に係る電子写真感光体の層構成の例を示す断面図であり、導電性支持体31上に、感光層33と表面保護層39が設けられている。図2は、本発明に係る電子写真感光体の層構成の別例を示す断面図であり、導電性支持体31上に、電荷発生層35、電荷輸送層37と表面保護層39が設けられている。図3は、本発明に係る電子写真感光体の層構成更に別例を示す断面図であり、導電性支持体31上に、下引き層41、電荷発生層35、電荷輸送層37と表面保護層39が設けられている。
積層構成の場合、前記一般式(A)で表されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミド誘導体は電荷発生層及び/又は電荷輸送層に含有される。
特に、特開2001−19871号公報に記載の結晶型、CuKαの特性X線(波長1.542Å)に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として、少なくとも27.2゜に最大回折ピークを有し、更に9.4゜、9.6゜、24.0゜に主要なピークを有し、最も低角側の回折ピークとして7.3゜にピークを有し、7.3°のピークと9.4゜のピークの間にピークを有さないチタニルフタロシアニン結晶が良好に用いられ、更に26.3°にピークを有さない結晶は有効に使用できる。
さらに、上記結晶型を有し、結晶合成時あるいは分散濾過処理により、平均粒子サイズを0.25μm以下にし、粗大粒子の存在しないチタニルフタロシアン結晶(例えば、特開2004−83859号公報、特開2004−78141号公報に記載)は最も有用に使用できる。
正孔輸送物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等、及びその他公知の材料が挙げられる。これらの正孔輸送物質は単独、または2種以上混合して用いられる。
塗工方法としては浸漬法、スプレー塗工法、リングコート法、ロールコータ法、グラビア塗工法、ノズルコート法、スクリーン印刷法等が採用される。
電荷輸送層の膜厚は、15〜40μm程度が適当であり、好ましくは15〜30μm程度、解像力が要求される場合、25μm以下が適当である。
上述した電荷発生物質及び電荷輸送物質を結着樹脂中に分散した感光体が使用できる。電荷輸送物質としては正孔輸送物質と電子輸送物質を併用することが高感度化や残留電位低減の観点から好ましい。感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質及び結着樹脂(以降、「バインダー樹脂」と呼称することがある)を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。
感光層の膜厚は、10〜45μm程度が適当であり、好ましくは15〜32μm程度、解像力が要求される場合、25μm以下が適当である。質量部程度が適当である。
また、これらの置換基としては、上記アルキル基の具体例で挙げたもの、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、またはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、ジフェニルアミノ基、前記芳香族炭化水素基、及びピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなどの複素環の基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
の反応により生じた硬化物との不相溶が原因の傷やトナーフィルミングも起こりにくい。
更に、保護層全層にわたる厚膜を光エネルギー照射により硬化する場合、電荷輸送性構造に基づく光エネルギーの吸収によって内部への光透過が制限され、硬化反応が十分に進行しない現象が起こることがある。本発明の保護層においては、好ましくは10μm以下の薄膜とすることにより内部まで均一に硬化反応が進行し、表面と同様に内部でも高い耐摩耗性が維持される。
前記のように官能基を有しない電荷輸送物質を用いた場合には析出や、白濁現象が起こり、感度の低下、残留電位の上昇等、繰り返し使用における電気的特性の劣化が著しい。
また、2官能以上の電荷輸送性化合物を主成分として用いた場合は複数の結合で架橋構造中に固定されるため、電荷輸送時の中間体構造(カチオンラジカル)が安定して保てず、電荷のトラップによる感度の低下、残留電位の上昇が起こりやすい。これらの電気的特性の劣化は、画像濃度低下、文字細り等の画像として現れる。
本発明の感光体においては、下層の電荷輸送層として従来感光体の電荷トラップの少ない高移動度な設計が適応可能で、保護層の電気的副作用を最小限に抑えることができる。
本発明のように保護層を有機溶剤に対して不溶性にせしめることにより、本来の3次元の網目構造が発達し高い架橋度を有することに加え、連鎖反応が広い範囲で進行し樹脂硬化物が高分子量化するため、飛躍的な耐摩耗性の向上が達成される。
本発明に用いられる電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーとは、例えば、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造、例えば、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環等の電子輸送構造を有しておらず、且つラジカル重合性官能基を3個以上有するモノマーを指す。このラジカル重合性官能基とは、炭素−炭素2重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば何れでもよい。これらラジカル重合性官能基としては、例えば、下記に示す1−置換エチレン官能基、1,1−置換エチレン官能基等が挙げられる。
CH2=CH−X1− …(7)
[ただし、式(7)中、X1は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−CO−基、−COO−基、−CON(R10)−基〔R10は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。〕、または−S−基を表す。]
CH2=C(Y)−X2− …(8)
[ただし、式(8)中、Yは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基あるいはエトキシ基等のアルコキシ基、−COOR11基〔R11は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、または−CONR12R13(R12及びR13は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、あるいはフェネチル基等のアラルキル基、または置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表し、互いに同一または異なっていてもよい。)を表す。〕、また、X2は上記式(7)のX1と同一の置換基及び単結合、アルキレン基を表す。ただし、Y、X2の少なくとも何れか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、及び芳香族環である。]
すなわち、本発明において使用する上記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性(以後EO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性(以後PO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性(以後ECH変性)トリアクリレート、グリセロールEO変性トリアクリレート、グリセロールPO変性トリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸EO変性トリアクリレート、2,2,5,5,−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは単独又は2種類以上を併用しても差し支えない。
また、保護層に用いられる電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーの成分割合は、保護層全量に対し20〜80質量%、好ましくは30〜70質量%である。モノマー成分が20質量%未満では保護層の3次元架橋結合密度が少なく、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた場合に比べ飛躍的な耐摩耗性向上が達成にくくなる傾向がある。また、80質量%を超えると電荷輸送性化合物の含有量が低下し、電気的特性の劣化が生じる傾向がある。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い本感光体の保護層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると30〜70質量%の範囲が最も好ましい。
前記一般式(1)、(2)において、R1の置換基中、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていてもよい。R1の置換基のうち、特に好ましいものは水素原子、メチル基である。
上記縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が18個以下のもの、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、as−インダセニル基、s−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。
上記非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の1価基、あるいはビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、1,1−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の1価基、あるいは9,9−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の1価基が挙げられる。
上記複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の1価基が挙げられる。
〔1〕ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。
〔2〕アルキル基、好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、n−ブチル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−プロピル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
〔3〕アルコキシ基(−OR2)であり、R2は〔2〕で定義したアルキル基を表す。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
〔4〕アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
〔5〕アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基であり、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
〔6〕下記一般式(9):
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(トリール)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
〔8〕置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。
具体的にはメチレン基、エチレン基、n−ブチレン基、i−プロピレン基、t−ブチレン基、s−ブチレン基、n−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、2−ヒドロキシエチレン基、2−エトキシエチレン基、2−シアノエチレン基、2−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、4−クロロフェニルエチレン基、4−メチルフェニルエチレン基、4−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
上記置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールを表し、アルキレンエーテル基アルキレン基はヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、前記Xのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基としては、前記Xのアルキレンエーテル2価基が挙げられる。
アルキレンオキシカルボニル2価基としては、カプロラクトン2価変性基が挙げられる。
ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
このとき用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテルなどのエーテル系、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのセロソルブ系などが挙げられる。これらの溶媒は単独または2種以上を混合して用いてもよい。溶媒による希釈率は組成物の溶解性、塗工法、目的とする膜厚により変わり、任意である。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行うことができる。
熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、あるいは各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側あるいは支持体側から加熱することによって行われる。加熱温度は100℃以上、170℃以下が好ましく、100℃未満では反応速度が遅く、完全に硬化反応が終了しない傾向がある。170℃を超える高温では硬化反応が不均一に進行し保護層中に大きな歪みや多数の未反応残基、反応停止末端が発生する。硬化反応を均一に進めるために、100℃未満の比較的低温で加熱後、更に100℃以上に加温し反応を完結させる方法も有効である。
光のエネルギーとしては主に紫外光領域に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのUV照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。照射光量は50mW/cm2以上、好ましくは500mW/cm2以上、より好ましくは1000mW/cm2以上である。1000mW/cm2より強い照射光を用いることで重合反応の進行速度が大幅に速くなり、より均一な架橋表面層を形成することが可能となる。照射光量が50mW/cm2以下の場合、反応の進行が不均一となり、保護層表面に局部的な皺が発生したり、多数の未反応残基、反応停止末端が生じたりする。また、急激な架橋により内部応力が大きくなり、クラックや膜剥がれの原因となる。放射線のエネルギーとしては電子線を用いるものが挙げられる。これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さから熱及び光のエネルギーを用いたものが有用である。
一方、ラジカル重合反応は酸素阻害を受けやすく、すなわち大気に接した表面では酸素によるラジカルトラップの影響で架橋が進まず、不均一になりやすい。この影響が顕著に現れるのは表層1μm未満の場合で、この膜厚以下の保護層は耐摩耗性の低下や不均一な摩耗が起こりやすい。また、保護層塗工時において下層の電荷輸送層成分の混入が生じ、特に、保護層の塗布膜厚が薄いと層全体に混入物が拡がり、硬化反応の阻害や架橋密度の低下をもたらす。これらの理由から、本発明の保護層は1μm以上の膜厚で良好な耐摩耗性、耐傷性を有するが、繰り返しの使用において局部的に下層の電荷輸送層まで削れた部分が露出するとその部分の摩耗が増加し、帯電性や感度変動から中間調画像の濃度むらが発生しやすい。従って、より長寿命、高画質化のためには保護層の膜厚を2μm以上にすることが望ましい。
この有機溶剤に対する溶解性を試験する方法としては、感光体表面層上に高分子物質に対する溶解性の高い有機溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン等を1滴滴下し、自然乾燥後に感光体表面形状の変化を実体顕微鏡で観察することで判定できる。溶解性が高い感光体は液滴の中心部分が凹状になり周囲が逆に盛り上がる現象、電荷輸送物質が析出し結晶化による白濁やくもり生ずる現象、表面が膨潤しその後収縮することで皺が発生する現象などの変化がみられる。それに対し、不溶性の感光体は上記のような現象がみられず、滴下前と全く変化が現れない。
保護層の塗工方法としては、同様な理由で塗工膜形成時の溶媒含有量、溶媒との接触時間を少なくする方法が好ましく、具体的にはスプレーコート法、塗工液量を規制したリングコート法が好ましい。また、下層成分の混入量を抑えるためには、電荷輸送層として高分子電荷輸送物質を用いること、感光層(もしくは電荷輸送層)と保護層の間に、保護層の塗工溶媒に対し不溶性の中間層を設けることも有効である。
硬化終了後は、更に残留溶媒低減のため100〜150℃で10分〜30分加熱して、本発明の感光体を得る。
図4は、本発明の画像形成装置を説明するための概略図であり、後述するような変形例も本発明の範疇に属するものである。
図4において感光体(11)は本発明の要件を満たす感光体である。感光体(11)はドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状のものであってもよい。
帯電手段(12)は、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器(ソリッド・ステート・チャージャー)、帯電ローラを始めとする公知の手段が用いられる。帯電手段(12)は、消費電力の低減の観点から、感光体に対し接触もしくは近接配置したものが良好に用いられる。中でも、帯電手段(12)への汚染を防止するため、感光体と帯電手段表面の間に適度な空隙を有する感光体近傍に近接配置された帯電機構が望ましい。
本発明においては帯電の極性として正負いずれも使用できるが、正帯電の方が負帯電に比べ、帯電性が安定しており、またオゾンの発生量も少ないため望ましい。
転写手段(16)には、一般に上記の帯電器を使用できるが、転写チャージャーと分離チャージャーを併用したものが効果的である。
現像手段(14)により感光体上に現像されたトナー(15)は、受像媒体(18)に転写されるが、全部が転写されるわけではなく、感光体上に残存するトナーも生ずる。このようなトナーは、クリーニング手段(17)により、感光体より除去される。クリーニング手段は、ゴム製のクリーニングブレードやファーブラシ、マグファーブラシ等のブラシ等を用いることができる。なお、図4中、符号19は定着手段を示す。
図5において、感光体(11)は、本発明の要件を満たし、エンドレスベルト状のものである。駆動手段(1C)により駆動され、帯電手段(12)による帯電、露光手段(13)による像露光、現像(図示せず)、転写手段(16)による転写、クリーニング前露光手段(1B)によるクリーニング前露光、クリーニング手段(17)によるクリーニング、除電手段(1A)による除電が繰返し行なわれる。図5においては、感光体(この場合は支持体が透光性である)の支持体側よりクリーニング前露光の光照射が行なわれる。
この電子写真装置では、感光体(11)の周囲に帯電手段(帯電装置)(12)、露光手段(13)、ブラック(Bk)、シアン(C)、マゼンタ(M)、及びイエロー(Y)の各色トナー毎の現像手段(14Bk,14C,14M,14Y)、中間転写体である中間転写ベルト(1F)、クリーニング手段(17)が順に配置されている。ここで、図中に示すBk、C、M、Yの添字は上記のトナーの色に対応し、必要に応じて添字を付けたり適宜省略する。
[ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド誘導体の合成例]
(1)モノイミド体の製造:
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物(東京化成(株)製)5.36g(20.0mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド30ml、酢酸3mlをフラスコに入れ、加熱還流させた。これに、2−ヘプチルアミン2.42g(21.0mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド6mlとの溶液を撹拌しながら約2時間で滴下した。さらに5時間還流下に反応させ、冷却後、溶媒を減圧蒸留で除き、残渣にトルエンを加え不溶物を濾別した後、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。さらにシクロヘキサン/トルエン混合溶媒で再結晶し下記構造式(a)で示されるモノイミド体3.02g(収率41.3%)を得た。
上記(1)で得られたモノイミド体1.83g(5.00mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド15mlに1,1−ジベンジルヒドラジン(東京化成(株)製)1.06g(5.00mmol)を加え、アルゴン気流下、60℃で3.5時間撹拌した。その後、溶媒のN,N‘−ジメチルホルムアミドを減圧蒸溜にて留去して、赤色結晶を得た。これをシリカゲルカラム処理精製〔溶離液:トルエン/酢酸エチル(30/1)vol混合溶媒〕し、得られた橙赤色結晶を酢酸エチル/エタノール混合溶媒にて再結晶し、得られた結晶を減圧加熱乾燥器により乾燥して、黄色針状結晶の下記構造式(b)のジイミド誘導体(例示化合物No.30:表7に記載)を2.21g(収率78.9%)を得た。
[顔料の合成例]
特開2001−19871号公報に記載の合成方法に準じて顔料を作製した。
即ち、1,3−ジイミノイソインドリン29.2gとスルホラン200mlを混合し、窒素気流下でチタニウムテトラブトキシド20.4gを滴下する。滴下終了後、徐々に180℃まで昇温し、反応温度を170℃〜180℃の間に保ちながら5時間撹拌して反応を行なった。反応終了後、放冷した後析出物を濾過し、クロロホルムで粉体が青色になるまで洗浄し、次にメタノールで数回洗浄し、更に80℃の熱水で数回洗浄した後乾燥し、粗チタニルフタロシアニンを得た。粗チタニルフタロシアニンを20倍量の濃硫酸に溶解し、100倍量の氷水に撹拌しながら滴下し、析出した結晶をろ過し、次いで洗浄液が中性になるまで水洗いを繰り返し、チタニルフタロシアニン顔料のウェットケーキ(水ペースト)を得た。得られたこのウェットケーキ(水ペースト)2gをテトラヒドロフラン20gに投入し、4時間攪拌を行なった後、濾過を行ない、乾燥して、チタニルフタロシアニン粉末を得た。
X線管球:Cu
電圧:50kV
電流:30mA
走査速度:2°/分
走査範囲:3°〜40°
時定数:2秒
長さ340mm、直径30mmのアルミシリンダー(JIS1050)を導電性支持体とし、下記組成の下引き層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液を順次塗布、乾燥し、3.5μmの下引き層、0.15μmの電荷発生層、20μmの電荷輸送層を形成した。更に下記の条件にて、5μmの保護層を電荷輸送層上に設けて感光体を得た(感光体1とする)。
アルキッド樹脂(大日本インキ製:ベッコゾール M−6401−50): 60部
メラミン樹脂(大日本インキ製:スーパーベッカミン L−121−60):40部
酸化チタン(石原産業社製:CR−EL): 400部
2−ブタノン: 500部
これらをボールミル装置(メディアとしてφ10mmのアルミナボールを使用)にて5日間ボールミルを行い下引き層用塗工液とした。
下記構造式(c)のフルオレノン系ビスアゾ顔料: 12部
2−ブタノン: 200部
シクロヘキサノン: 400部
例示化合物No.30のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 10部
これらをボールミル装置(メディアとしてφ10mmのPSZボールを使用)にて5日間ボールミルを行い電荷発生層用塗工液とした。
下記構造式(d)の化合物: 10部
シリコーンオイル(信越化学工業社製:KF50): 0.01部
テトラヒドロフラン: 80部
これらを撹拌、溶解し電荷輸送層用塗工液とした。
電荷輸送性構造を有さない3官能以上のラジカル重合性モノマー
{トリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、
日本化薬製)分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99}:10部
下記構造式(e)の1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物
(例示化合物No.54):
10部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)}: 1部
テトラヒドロフラン: 100部
保護層は、スプレー塗工してから20分間自然乾燥した後、メタルハライドランプ:160W/cm、照射強度:500mW/cm2、照射時間:60秒の条件で光照射を行うことによって塗布膜を硬化させた。
実施例1において電荷発生層塗工液及び電荷輸送層塗工液を以下のものに変更した以外は実施例1と同様にして感光体を作製した(感光体2とする)。
下記構造式(c)のフルオレノン系ビスアゾ顔料: 12部
2−ブタノン: 200部
シクロヘキサノン: 400部
これらをボールミル装置(メディアとしてφ10mmのPSZボールを使用)にて5日間ボールミルを行い電荷発生層用塗工液とした。
下記構造式(d)の化合物: 10部
例示化合物No.1のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 1部
シリコーンオイル(信越化学工業社製:KF50): 0.01部
テトラヒドロフラン: 80部
これらを撹拌、溶解し電荷輸送層用塗工液とした。
実施例1において電荷発生層塗工液及び電荷輸送層塗工液を以下のものに変更した以外は実施例1と同様にして感光体を作製した(感光体3とする)。
下記構造式(c)のフルオレノン系ビスアゾ顔料: 12部
2−ブタノン: 200部
シクロヘキサノン: 400部
例示化合物No.7のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 10部
これらをボールミル装置(メディアとしてφ10mmのPSZボールを使用)にて5日間ボールミルを行い電荷発生層用塗工液とした。
下記構造式(d)の化合物: 10部
例示化合物No.7のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 1部
シリコーンオイル(信越化学工業社製:KF50): 0.01部
テトラヒドロフラン: 80部
これらを撹拌、溶解し電荷輸送層用塗工液とした。
実施例1において電荷発生層塗工液を以下のものに変更した以外は実施例1と同様にして感光体を作製した(感光体4とする)。
顔料合成例で作製したチタニルフタロシアニン顔料: 15部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1): 10部
2−ブタノン: 280部
例示化合物No.30のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 10部
市販のビーズミル分散機に直径0.5mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラール及びナフタレンテトラカルボン酸誘導体を溶解した2−ブタノン及び顔料を全て投入し、ローター回転数1200r.p.m.にて30分間分散を行い、分散液を作製した。
実施例1において電荷発生層塗工液及び電荷輸送層塗工液を以下のものに変更した以外は実施例1と同様にして感光体を作製した(感光体5とする)。
顔料合成例で作製したチタニルフタロシアニン顔料: 15部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1): 10部
2−ブタノン: 280部
市販のビーズミル分散機に直径0.5mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラール及びナフタレンテトラカルボン酸誘導体を溶解した2−ブタノン及び顔料を全て投入し、ローター回転数1200r.p.m.にて30分間分散を行い、分散液を作製した。
下記構造式(d)の化合物: 10部
例示化合物No.1のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 1部
シリコーンオイル(信越化学工業社製:KF50): 0.01部
テトラヒドロフラン: 80部
これらを撹拌、溶解し電荷輸送層用塗工液とした。
実施例1において電荷発生層塗工液及び電荷輸送層塗工液を以下のものに変更した以外は実施例1と同様にして感光体を作製した(感光体6とする)。
顔料合成例で作製したチタニルフタロシアニン顔料: 15部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1): 10部
2−ブタノン: 280部
例示化合物No.7のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 10部
市販のビーズミル分散機に直径0.5mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラール及びナフタレンテトラカルボン酸誘導体を溶解した2−ブタノン及び顔料を全て投入し、ローター回転数1200r.p.m.にて30分間分散を行い、分散液を作製した。
下記構造式(d)の化合物: 10部
例示化合物No.7のナフタレンテトラカルボン酸誘導体: 1部
シリコーンオイル(信越化学工業社製:KF50): 0.01部
テトラヒドロフラン: 80部
これらを撹拌、溶解し電荷輸送層用塗工液とした。
実施例4において、保護層を設けなかったこと以外は実施例4と同様にして感光体を作製した(感光体7とする)。
実施例4において例示化合物No.30のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を使用しない以外は実施例4と同様にして感光体を作製した(感光体8とする)。
実施例4において例示化合物No.30のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を下記構造式(ETM1)の化合物に変更した以外は実施例4と同様にして感光体を作製した(感光体9とする)。
実施例5において例示化合物No.1のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を比較例3で用いた前記化合物(ETM1)に変更した以外は実施例5と同様にして感光体を作製した(感光体10とする)。
実施例4において例示化合物No.30のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を下記構造式(ETM2)の化合物に変更した以外は実施例4と同様にして感光体を作製した(感光体11とする)。
実施例5において例示化合物No.1のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を比較例5で用いた前記化合物(ETM2)に変更した以外は実施例5と同様にして感光体を作製した(感光体12とする)。
実施例4において例示化合物No.30のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を下記構造式(ETM3)の化合物に変更した以外は実施例4と同様にして感光体を作製した(感光体13とする)。
実施例5において例示化合物No.1のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を比較例7で用いた前記化合物(ETM3)に変更した以外は実施例5と同様にして感光体を作製した(感光体14とする)。
長さ340mm、直径30mmのアルミシリンダー(JIS1050)を導電性支持体とし、下記組成の感光層塗工液を塗布、乾燥し、25μmの感光層を形成した。更に下記の条件にて、5μmの保護層を電荷輸送層上に設けて感光体を得た(感光体15とする)。
〈顔料分散液〉
顔料合成例で作製したチタニルフタロシアニン: 3部
シクロヘキサノン: 97部
φ9cmのガラスポットにφ0.5mmのPSZボールを用い、回転数100rpmで2時間分散を行なった。
上記分散液を用いて下記組成の感光体用塗工液(感光層塗工液)を作製した。
〔感光層塗工液〕
上記分散液: 60部
下記構造式(d)の化合物: 30部
Z型ポリカーボネート樹脂(帝人化成製:パンライトTS−2050): 50部
シリコーンオイル(信越化学工業社製:KF50): 0.01部
テトラヒドロフラン: 350部
電荷輸送性構造を有さない3官能以上のラジカル重合性モノマー
{トリメチロールプロパントリアクリレート(KAYARAD TMPTA、
日本化薬製)分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99}:10部
下記構造式(e)の1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物
(例示化合物No.54): 10部
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)}: 1部
テトラヒドロフラン: 100部
保護層は、スプレー塗工してから20分間自然乾燥した後、メタルハライドランプ:160W/cm、照射強度:500mW/cm2、照射時間:60秒の条件で光照射を行うことによって塗布膜を硬化させた。
実施例7において例示化合物No.16のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を、例示化合物No.21のナフタレンテトラカルボン酸誘導体に変更した以外は実施例7と同様にして感光体を作製した(感光体16とする)。
実施例7において例示化合物No.16のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を、例示化合物No.33のナフタレンテトラカルボン酸誘導体に変更した以外は実施例7と同様にして感光体を作製した(感光体17とする)。
実施例7において例示化合物No.16のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を、例示化合物No.42のナフタレンテトラカルボン酸誘導体に変更した以外は実施例7と同様にして感光体を作製した(感光体18とする)。
実施例7において例示化合物No.16のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を前記化合物(ETM1)に変更した以外は実施例7と同様にして感光体を作製した(感光体19とする)。
実施例7において例示化合物No.16のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を前記化合物(ETM2)に変更した以外は実施例7と同様にして感光体を作製した(感光体20とする)。
実施例7において例示化合物No.16のナフタレンテトラカルボン酸誘導体を前記化合物(ETM3)に変更した以外は実施例7と同様にして感光体を作製した(感光体21とする)。
実施例1〜3で作製した感光体1〜3を実装用にした後、画像形成装置(リコー製imgio Neo 270改造機、露光光源を655nmの半導体レーザ(LD)に変更した装置)に搭載し、書き込み率5%チャート(A4全面に対して、画像面積として5%相当の文字が平均的に書かれている)を用い通算10万枚印刷する耐刷試験を行なった。
試験開始時の感光体の帯電電位が−900Vとなるようなバイアスを設定し、試験終了に至るまでこの帯電条件で試験を行なった。また現像バイアスは−650Vとした。試験環境は23℃、55%RHである。
耐刷試験の前後で暗部電位、明部電位、また耐刷試験後に地汚れ、残像評価を行った。
また、全ての試験前後における膜厚の差(摩耗量)を評価した。尚、膜厚の測定は、感光体長手方向の両端5cmを除き、1cm間隔に測定し、その平均値を膜厚とした。
[暗部電位]:一次帯電の後、現像部位置まで移動した際の感光体表面電位とし、初期において−900Vとするように帯電器の印加電圧を調整し、その後は試験終了後まで一定の印加電圧とした。
[明部電位]:一時帯電の後、画像露光(全面露光)を受け、現像部位置まで移動した際の感光体表面電位。
[地汚れ]:白ベタ画像を出力し、地汚れを以下の基準で5段階(5が優れ1が劣る)に分けて評価した。
〈地汚れ評価基準〉
5:地汚れがまったく無く、良好。
4:地汚れがごく僅かに観察されるが、良好。
3:地汚れが僅かに観察されるが実質的に良好。
2:地汚れが観察され、画像の種類によっては問題となる。
1:地汚れが全面的に観察され問題となる。
[残像評価]:図11の様な評価用画像を出力し、ハーフトーン部での残像の程度を以下の基準で5段階(5が優れ1が劣る)に分けて評価した。
〈残像評価基準〉
5:残像まったく無く、良好。
4:残像ごく僅かに観察されるが、良好。
3:残像が僅かに観察されるが実質的に良好。
2:残像が観察され、画像の種類によっては問題となる。
1:残像がはっきりと観察され問題となる。
結果を下記表8に示す。
実施例11において画像形成装置の露光光源を780nmの半導体レーザ(LD)に変更し、さらに感光体を実施例4〜10及び比較例1〜11で作製した感光体4〜21に変更した以外は実施例11と同様にして評価を行った。
結果を下記表8に示す。
実施例1〜3で作製した感光体1〜3を実装用にした後、タンデム機構を有するフルカラー画像形成装置(リコー製IPSiO Color8100改造機、露光光源は655nmの半導体レーザ(LD)である)に搭載し、書き込み率5%チャート(A4全面に対して、画像面積として5%相当の文字が平均的に書かれている)を用い通算10万枚印刷する耐刷試験を行なった。
試験開始時の感光体の帯電電位が−700Vとなるようなバイアスを設定し、試験終了に至るまでこの帯電条件で試験を行なった。また現像バイアスは−500Vとした。試験環境は23℃、55%RHである。
耐刷試験前後に地汚れ、残像、色再現性の評価を行なった。
・地汚れ:白ベタ画像を出力し、地汚れを以下の基準で5段階(5が優れ1が劣る)に分けて評価した。
〈地汚れ評価基準〉
5:地汚れがまったく無く、良好。
4:地汚れがごく僅かに観察されるが、良好。
3:地汚れが僅かに観察されるが実質的に良好。
2:地汚れが観察され、画像の種類によっては問題となる。
1:地汚れが全面的に観察され問題となる。
[残像評価]:図11の様な評価用画像を出力し、ハーフトーン部での残像の程度を以下の基準で5段階(5が優れ1が劣る)に分けて評価した。
〈残像評価基準〉
5:残像まったく無く、良好。
4:残像ごく僅かに観察されるが、良好。
3:残像が僅かに観察されるが実質的に良好。
2:残像が観察され、画像の種類によっては問題となる。
1:残像がはっきりと観察され問題となる。
[色再現性]:フルカラーパターン画像を出力し、初期において出力した画像と10万枚印刷後の画像とを比較し、色彩の変化や濃度から色再現性を以下の基準で5段階(5が優れ1が劣る)に分けて評価した。
〈色再現性評価基準〉
5:初期とほとんど変わらず、良好。
4:色彩や濃度の変化が極めてごく僅かに観察されるが、良好。
3:色彩や濃度の変化が僅かに観察されるが実質的に良好。
2:色彩や濃度の変化が観察される。
1:色彩や濃度の変化が非常に大きい。
結果を下記表9に示す。
実施例21において画像形成装置の露光光源を780nmの半導体レーザ(LD)に変更し、さらに感光体を実施例4〜10及び比較例1〜11で作製した感光体4〜21に変更した以外は実施例21と同様にして評価を行った。
結果を下記表9に示す。
このような、高耐久で、長期にわたり高品位な画像を安定して出力することができる感光体を用いれば、常に安定した画像を出力することのできる画像形成装置及びフルカラー画像形成装置と、取り扱いの利便性が高いプロセスカートリッジが構成でき、レーザープリンタ、複写機、ファクシミリ等の広い分野に適用することができる。
31 導電性支持体
33 感光層
35 電荷発生層
37 電荷輸送層
39 表面保護層
41 下引き層
(図4の符号)
11 感光体
12 帯電手段
13 露光手段
1A 除電手段
14 現像手段
15 トナー
17 クリーニング手段
18 受像媒体
19 定着手段
(図5の符号)
1A 除電手段
1B クリーニング前露光手段
1C 駆動手段
11 感光体
12 帯電手段
13 露光手段
16 転写手段
17 クリーニング手段
(図6の符号)
1A 除電装置
11 感光体
12 帯電装置
13 露光装置
14 現像装置
16 転写装置
17 クリーニング装置
18 受像媒体
(図7の符号)
11 感光体
12 帯電手段
13 露光手段
14Bk,14C,14M,14Y 現像手段
17 クリーニング手段
1D 第1の転写手段
1E 第2の転写手段
1F 中間転写ベルト
18 受像媒体
19 定着手段
(図8、9の符号)
1C 駆動手段
1D 第1の転写手段
1E 第2の転写手段
1F 中間転写体
1G 搬送転写ベルト
11Y,11M,11C,11Bk 感光体
12Y,12M,12C,12Bk 帯電手段
13Y,13M,13C,13Bk 露光手段
14Y,14M,14C,14Bk 現像手段
16Y,16M,16C,16Bk 転写手段
17Y,17M,17C,17Bk クリーニング手段
18 受像媒体
19 定着手段
Claims (11)
- 導電性支持体上に、少なくとも感光層と表面保護層を有する電子写真感光体であって、前記感光層に下記一般式(A)で表されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミド誘導体を含有し、且つ前記表面保護層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーと1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とにより形成された樹脂硬化物からなることを特徴とする電子写真感光体。
- 前記表面保護層に用いられる1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物が、下記一般式(1)又は(2)で表されるラジカル重合性化合物の少なくとも一種以上であることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記表面保護層に用いられる1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物が、下記一般式(3)で表されるラジカル重合性化合物の少なくとも一種以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子写真感光体。
- 前記樹脂硬化物からなる表面保護層が、加熱手段又は光エネルギー照射手段の少なくとも何れかにより形成されたものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 前記感光層に電荷発生物質が含まれ該電荷発生物質が、CuKαの特性X線に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として少なくとも27.2゜に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニンであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 前記感光層に電荷発生物質が含まれ該電荷発生物質が、CuKαの特性X線に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2゜)として少なくとも27.2゜に最大回折ピークを有し、更に9.4゜、9.6゜、24.0゜に主要なピークを有し、最も低角側の回折ピークとして7.3゜にピークを有し、該7.3°のピークと9.4゜のピークの間にピークを有さないチタニルフタロシアニン結晶であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載の電子写真感光体が搭載されたことを特徴とする画像成形装置。
- 少なくとも感光体と、この感光体の表面を一様に帯電する帯電装置と、一様帯電後に像露光を行い静電潜像を形成する像露光装置と、前記静電潜像にトナーを現像する現像装置とを具備してなる画像形成要素を複数配列したフルカラー画像形成装置において、前記感光体として、請求項1乃至6のいずれかに記載の電子写真感光体が搭載されたことを特徴とするフルカラー画像形成装置。
- 装置本体に対して着脱可能であり、少なくとも、回転もしくは回動される電子写真感光体と、該電子写真感光体に形成される潜像を現像する現像部と、像転写後の像担持体表面を清浄面化するクリーニング部とを有する画像形成装置用のプロセスカートリッジであって、前記電子写真感光体が請求項1乃至6のいずれかに記載の電子写真感光体であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 請求項9に記載のプロセスカートリッジが搭載されたことを特徴とする画像成形装置。
- 請求項9に記載のプロセスカートリッジが搭載されたことを特徴とするフルカラー画像成形装置。
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