JP5373825B2 - フレキシブルフィルムのパターニングシステム - Google Patents

フレキシブルフィルムのパターニングシステム Download PDF

Info

Publication number
JP5373825B2
JP5373825B2 JP2010548631A JP2010548631A JP5373825B2 JP 5373825 B2 JP5373825 B2 JP 5373825B2 JP 2010548631 A JP2010548631 A JP 2010548631A JP 2010548631 A JP2010548631 A JP 2010548631A JP 5373825 B2 JP5373825 B2 JP 5373825B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
patterning
movable
elements
clamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010548631A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011513968A (ja
Inventor
エルウィン リナルド メインデルス,
マリア ペテル,
ペテル テオドルス マリア ヒーセン,
ウィルヘルムス ヨハネス マリア デ・ラート,
Original Assignee
ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー filed Critical ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー
Publication of JP2011513968A publication Critical patent/JP2011513968A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5373825B2 publication Critical patent/JP5373825B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/18Handling of layers or the laminate
    • B32B38/1825Handling of layers or the laminate characterised by the control or constructional features of devices for tensioning, stretching or registration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q3/00Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
    • B23Q3/15Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
    • B23Q3/154Stationary devices
    • B23Q3/1546Stationary devices using permanent magnets
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70783Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

本発明はフレキシブルフィルムをパターニングするシステムおよび方法に関する。
本発明はフレキシブルフィルムのパターニング分野に関する。フレキシブルフィルムのパターニングの1つの応用例は、ディスプレイフィルム、電池フィルム、または太陽電池パネルフィルム等の電気的機能を備えたフレキシブルフィルムをなすことである。これらのフィルムは複層フィルムシステム、すなわちフレキシブルな積層した電子回路装置の構成要素として用いられる。これらの複層フィルムシステムには多くのアプリケーションがあり、たとえば照明の分野と再使用可能および使い捨て可能なセンサ装置に用いられる。{じょくそう}
機能的フィルムは、フィルム上に順に、層を加えることおよび層をパターニングすることによって製造される。この製造プロセスは、たとえばコンピュータチップのような従来の電子部品の製造に類似している。しかしながら、ここでは、柔軟性の無い電子部品の製造とフレキシブルな機能フィルムの製造とでは違いがあり、この製造においてはリソグラフィーでのパターニングプロセス(マスクを用いた露光、マスクレス露光またはレーザーパターニング等)における、クリーニング、層堆積、加熱、エッチング、ハンドリングまたは保管などの種々のステップがフレキシブルな機能フィルムの変形を起こすことがある。変形はパターニングされた複数層の積層体の重ね合わせ誤差となる。
したがって、1つの態様では、本発明は、順次パターニングにおけるフレキシブルフィルムの変形を補償するシステムおよび方法を提供することを目的とする。
なお、ウェハーを変形するための装置は従来技術で知られている(谷口氏等、米国特許US4475223)。しかしながら、この特許における装置は、ウェハーと変形したマスクとの間隔が一定に維持されるようにウェハーを変形する、いわゆる平面変形を行う。フレキシブルフィルムの変形を補償する際の課題は、柔軟性の無いウェハーを変形することとは明らかに異なるが、これは面外変形の補正の他に、いわゆる面内変形の補正が必要とされるからである。
コスト削減の理由から、個々のフィルムは大面積で大量に製造されること、たとえば何メートル(数百メートル)ものフィルムのロールで生産されることが望ましい。
したがって、もう1つの態様では、本発明は、バッチ毎の製造プロセスと同様に、オープンリール式(“reel-to-reel”または“roll-to-roll”)の製造プロセスに使用される、フレキシブルフィルムをパターニングするためのシステムおよび方法を提供することを目的とする。
1つの態様では、本発明はフレキシブルフィルムにおける変形を補償するためのテーブルを提供し、このテーブルは支持ベースと変形補償システムとを備え、この変形補償システムは前記ベースに支持された複数の可動エレメントを備え、この可動エレメントはフレキシブルフィルムを支持するための面を形成し、この可動エレメントはフィルムをクランプ固定するためのクランプを備え、この可動エレメントは、クランプ固定されたフィルムを引き延ばして所定の形状となるように、フィルムを支持するための面に対し平行に個別に可動となっていることを特徴とする。
もう1つの態様によれば、本発明は、フレキシブルフィルムをパターニングするためのシステムを用いて、フレキシブルフィルムをパターニングする方法を提供し、前記システムは前記フィルムにおける変形を補償するためのテーブルを備え、前記テーブルは支持ベースと変形補償システムとを備え、この変形補償システムは、前記ベースに支持された複数の可動エレメントを備え、この可動エレメントはフィルムを支持するための面を形成し、この可動エレメントはフィルムをクランプ固定するためのクランプを備え、この方法はフィルムを提供するステップを含み、フィルムを可動エレメントにクランプ固定し、このフィルムを引き延ばして所定の形状となるように、この可動エレメントをフィルムに平行に個別に動かし、そしてテーブル上のフィルムをパターニングする。
本発明は、以下に詳細に説明する本発明の好ましい実施形態とこれに付随する図から、ただちに明白となる。
フレキシブルフィルムにおける変形を補償するためのテーブルの概観の概略図と誇張された側面図である。 可動エレメントの間のフィルムのたるみを低減するための可動エレメントの形状例である。 フィルムにおける変形を示すマーカーである。 フレキシブルフィルムをパターニングするためのシステムの概観である。 フィルムをパターニングするための方法を概略的に示す。 フィルムとテーブルの間の充分な接触を提供するための、フィルムをパターニングするためのシステムの配置である。 フィルムにおける磁性部分と粒子である。
本発明の1つの実施形態は、フレキシブルフィルムにおける変形補償のためのテーブル1である。図1Aはそのようなテーブルの実施形態の概観概略図を示す。この実施形態では、テーブルは支持ベース2と変形補償システム3とを備える。この変形補償システムは、前記ベースに支持された、可動エレメント4の格子を備える。この可動エレメント4はフレキシブルフィルム5を支持するための面を形成する。図1Bには、このテーブルの誇張された側面図が示されており、フィルム5をクランプ固定するためのクランプ6を備える可動エレメント4が示されている。この可動エレメント4は、個別にアドレス可能で、クランプ固定されたフィルム5を引き延ばして所定の形状とするように、フィルム5を支持するための面に平行に動かすことができる。
格子における可動エレメント4は、実質的にテーブルの全面に渡って規則的に分布しており、50から500μmの範囲にある最大距離のギャップにより隔てられている。さらに、12ないし25μmのフィルムに対して、このギャップはまた、たとえば2から20μmの間の最小値を持っている。
テーブル1のサイズの目安は50×50cmであるが、(約)2.8×2.4mのような大きなサイズを用いても良く、これはバッチ単位のディスプレイ製造における、いわゆる第9世代フォーマットに適合するものである。
可動エレメント4のサイズの目安は5×5mmから50×50mmである。このエレメントが1つの方向だけに動くようなことが起こる場合は、1つのエレメントの最大の長さがテーブルのサイズであってよく、ただしその幅は5mmと50mmの間である。
可動エレメント4の動きは、可動エレメント4に備えられたアクチュエータ7によってもたらされる。この実施形態では、アクチュエータ7は機械的アクチュエータである。しかしながら、他の実施形態では、可動エレメントはピエゾ素子、コイル、空気圧手段、油圧手段、または熱的手段によって駆動されてよい。
この実施形態では、クランプ6は磁気クランプである。もう1つの実施形態では、このクランプ6は真空クランプである。磁気クランプの吸引力を個別にアドレスし、強度を調整してもよい。磁気クランプの他の有利な点は、クランプとクランプ解除の可能な速度が真空クランプよりはるかに大きいことである。これらの特性は、重ね合わせ補償をオンザフライで行うため、画像の継ぎ合わせのため、およびアライメントなど、フレキシブル基板上での大面積リソグラフィーの全ての重要な条件に対してこの磁気的方法をとりわけ適したものとする。
図1Cに示すもう1つの実施形態では、可動エレメント4は、フィルム5と可動エレメント4の間の密着を改善するために密着強化層8を備えている。密着を強化する1つの可能性は摩擦増加層を用いることである。しかしながら、密着を強化する他の方法で、粘着層を用いるようなことも考えられる。この摩擦強化層は、好ましくは誘電体物質(すなわち非磁性体)である。
個々の密着強化層の厚さは、フィルムを支持する面を平坦にするように、可動エレメントの高さの違いを補償するために用いてよい。このように、これらの層の高さを変えることにより、可動エレメントの高さの違いが補償される。
上記では、可動エレメント4の3つの可能な構成要素が説明された。これらはクランプ6、アクチュエータ7および密着強化層8である。しかしながら、他の実施形態では可動エレメント4の構成は異なっていてよく、すなわち他の構成要素が用いられてよく、または前記の構成要素を除外してもよい。
クランプ固定されたフィルム5における変形は、このフィルム5を所定の形状に引き延ばすことにより補償される。したがって、この可動エレメント4は、フィルム5を支持する面に平行な面において2つの方向に移動する。テーブルのもう1つの実施形態では、平坦度の補償は、この可動エレメント4を第3の方向である、フィルム5を支持する面に直角な方向に動かすことにより可能となる。フィルムの面に平行な、可動エレメント4の回転軸の回りの回転はまた、このフィルムの平坦度を向上する。
フィルム5を支持する側の可動エレメント4の形状は、フィルム5が弛んで可動エレメントの間に入り込むことを低減するように選択される。この可動エレメントの形状の例が図2に示されている。この部品は四角形(図2A)、六角形(図2B)、または図2Cに示すように嵌合側にジグザグの端部を持つ四角形のものであってよい。
フィルムの弛みの傾向は、基本的に、テーブル1の表面に渡る可動エレメント4の分布の2つの形態に依存し、これらはエレメントの間のギャップの幅と(多数の)エレメントに渡って延伸しているこのギャップの長さである。
この弛み易さは、可動エレメントの間のギャップの幅の増大につれて増加する。ギャップの幅が増加すると、ある曲げ半径を持ったフィルムは、このギャップの中に容易に垂れ下がる。
さらに、この弛み易さはギャップの長さの増大につれて増加する。格子の配置に依存して、このギャップは複数の可動エレメントに沿って延伸する。ギャップの長さの増大は、フィルムのたるみが単一の曲面となることを促進する。単一曲面は1つの軸に沿って曲がっている面である。単一曲面の曲げは、フィルムにおける変形が非常に少ないので、比較的扱い易い。
ギャップの長さの減少は、フィルムを強制的にいわゆる複曲面(double-curved bending)の曲げにする。複曲面は、少なくとも2つの軸にそって曲がっている面である。複曲面の曲げは、単一曲面の曲げに比べ、さらに大きなフィルム変形を必要とし、したがって実現することは、はるかに難しい。したがって、これらのエレメントにジグザグのエッジを設けることにより、ギャップが複数のエレメントに沿って揃って延伸することが回避され、フィルムの垂れ下がりが最少となる。
図2Aから、四角形の可動エレメント4の格子の配置は、多数のエレメントに沿って延伸し、比較的容易に単一曲面の曲げとすることができることが分かる。従ってこのパターンは、比較的厚いフィルム(目安として200−500μm)に適している。
四角形の可動エレメントの嵌合側にジグザグが設けられている場合(図2C)、ギャップの延伸は、局所的には四角形の一辺よりも小さく、これによりこのパターンをとりわけ比較的薄いフィルム(目安として5−20μm)に適したものとしている。
図2Bの六角形エレメントによる構成は、ギャップの長さが六角形の一辺に沿ったものであることを示している。このギャップの長さは複数の四角形の構成でのギャップの長さとジグザグの間のギャップの長さとの間にあり、したがって平均的な厚さ(目安として50−200μm)のフィルムに適している。
本発明のもう1つの態様は、フレキシブルフィルム5をパターニングするためのシステム10である。図4Aはこのシステムの実施形態を示す。このシステムは、前述のように、変形を補償するテーブルを備える。このシステムは、さらにこのテーブルに渡って少なくとも部分的にフィルム5を動かす移送手段を備える。図4Aに示す実施形態では、この移送手段は2つのリール12を備える。リールを移送機構として用いることは、このシステムをオープンリール式プロセシングに準拠したものとし、したがってこのテーブルは、フィルムが連続して(またはステップモードで)移送されている間は、フィルムの一部を露出するようにして用いられる。
1つの実施形態では、前記リール12の内少なくとも1つは複数の磁気エレメント14を備えている。これは図4Bに示されている。フィルム5の移送を制御するために、各々のエレメントは個別にアドレス可能であり、各々の磁気エレメントは個別に調整される。
個々の磁気エレメント14は、動的な磁気力が発生されるようにアドレスされるようにしてもよい。この磁気ウェーブの伝搬速度はフィルム5の所望の移送速度に同期している。このようにして、フィルム5はリール12を回転することなく移送される(「静的移動」)。
本システムはさらに、テーブル上のフィルム5の部分をパターニングするために配置されたパターニングユニットを備える。図4Aに示す実施形態では、このパターニングユニットは照射手段13を備える。この照射はリソグラフィーかまたはレーザー直描の書き込みでよい。
本システムはさらに、アライメントシステム11を備え、変形補償システム3に通信で接続されており、アライメントシステムの出力に反応する。便宜上、このアライメントシステムは1回のみ、図4Aに示されている。
1つの実施形態では、このアライメントシステム11は、フィルム5上に設けられたマーカーパターンを検出するために配置されている。たとえば、露光によってフィルム5は変形した状態となり、フィルム5に備えられたアライメントマーカー9、9’、9”および変形の目安が測定される。このアライメントマーカー9、9’、9”は事前に露光されて、パターニングされた層に含まれるようにしてもよい。図3Aは、フィルム5における変形した状態にあるこれらのマーカー9、9’、9”を示す。
アライメントシステム11は、変形したフィルム5において、測定されたマーカー9、9’、9”を所望のマーカーパターンに関して位置合わせすることによって、変形補償システム3を制御する。好ましいマーカーパターンは、図3Bに示すように、変形していない状態のフィルム5から測定される。この好ましいマーカーパターンはまた、変形状態におけるマーカー9、9’、9”の位置からも決定することができる。これは、たとえば好ましいマーカーパターンにおいて、マーカー9、9’、9”の間隔に比べて変形が小さい場合に、実施可能である。
この好ましいマーカーパターンはテーブルの上に突出していてよい。
本システムにフィルム5を供給するために、本システムはフィルム供給装置(不図示)を備える。
1つの実施形態においては、本システムはステップ的な仕方で動作するようにしてもよい。露光テーブルの前後に設けられた移送手段を介して、フィルム5の当該部分がテーブルに渡って移送される。露光の間は、フィルム5はテーブルにクランプ固定される。露光後、フィルム5の新しい部分がテーブルに移送される。
もう1つの実施形態では、本システムをスキャナー型の方法で動作するようにしてもよい。この動作モードでは、フィルム5および照射手段は互いに相対的に移動し、照射されているフィルム5の一部のみがテーブルにクランプ固定される。この動作モードは3つの点で有利である。第1に、画像の大きさは画像システムの大きさで決定されない。第2に、画像の継ぎ合わせが最少となり、第3に連続的な処理フローが可能である。レーザー直描パターニングまたはマスクレス露光システムを用いて連続パターニングシステムを提供できる。
本発明のさらにもう1つの態様は、フレキシブルフィルムをパターニングするためのシステム16を用いることによってフレキシブルフィルムをパターニングする方法15である。図5に、この方法の概略を示す。本システムは、フィルム5における変形を補償するテーブルを備え、このテーブルは支持ベース2とこのベースで支持される可動エレメント4の格子とを備える。この可動エレメント4(不図示)はフィルム5を支持する面を形成し、またこの可動エレメント4はフィルム5をクランプ固定するためのクランプ6を備える。本方法は数ステップを含む。本方法は図5Aに示すフィルムの無いシステム16からスタートする。第1のステップでは、図5Bのように、フィルム供給装置がシステム17にフィルム5を供給する。第2のステップでは、フィルム5が可動エレメント4にクランプ固定され、ステップ3で、この可動エレメント4が個別に、フィルム5に対し平行に動かされ、このフィルム5を所定の形状(不図示)とするように引き延ばす。ステップ4において、図5Cのように、フィルム5は所定の形状に維持され、露光が行われて、テーブル18上でフィルムがパターニングされる。
フィルム5の変形が直線状の変形でない場合、フィルム5に対し直角に可動エレメントを移動して、フィルム5が所定の形状となるように引き延ばす、追加のステップを本方法に追加してもよい。
図6は、フレキシブルフィルムをパターニングするために、フィルム5とテーブル1の間で加圧接触させるように配置されたシステム60の多数の変形実施例を示す。図6Aでは、テーブルはフィルム5と直線状に揃っており、したがってフィルム5はテーブルと接触している。図6Bは、フィルム5をテーブルにガイドするための2つの補助リールまたはガイド25を示す。テーブル1を平面とする、さらに2つの補助ガイド25’が図6Cに示されている。これらの補助ガイドはローラーであってもよく、また異なる形状のガイドも可能である。図6Dでは、テーブル1の端部がフィルム5のためのガイドまたは支持体を構成している。図6Eでは、テーブル面は曲げられてフィルムの支持コンタクトとなっている。テーブルの湾曲は、円柱状、放物面状、または球状など、異なる複数の凸形状を含んでいてもよい。また、テーブルの大きさと半径は様々であってよい。ある場合には、ロールのような小さいテーブルを提供することも有利である。
1つの実施形態では、フィルム5の磁性部分19はフィルム5を磁性粒子または金属粒子、または特定の形状のファイバーで充填することによって形成される。図7は粒子の幾つかの形状例を示し、円形もしくは球形(図7A)、楕円形(図7B)、矩形、針状または円盤状(図7C)である。図7Dに示すような、様々な形状の混成も可能である。
異なるタイプの粒子形状は以下のように用いられる。
− 製造プロセスの最適化
− 異方性を導入して、様々な方向でのクランプ固定特性をコントロールする。たとえば機械動作方向または横方向の特性を改善する、または基板に平行な力を改善する。
− 長い粒子を同じ方向に揃えることによって、導電特性を増強する。
− 粒子の(ポリマー)フィルムへの接着を改善する。
これらの粒子および/またはファイバーはフィルム5に渡って均一に分散しているが、これらは特定の(密度)分布に従って分散していてもよい。分布の例としては厚さ方向に沿った分布があり、クランプ6に最も近いフィルム5の側から離れるにしたがって、粒子密度が減少する。クランプ固定側に近いところで粒子および/またはファイバーの密度が高いので、クランプ固定力が大きくなる。クランプ固定側に粒子を集中させることの2つめの有利性として、基板上の電子素子と基板上の粒子の間の絶縁を行うということがある。フィルム中に粒子を均一に分散させることの有利性は、フィルムの物性の均一性を向上することである。
本システムを磁気的に動作させることに対応して、フィルム5は磁性部分19を備える。この磁性部分19の特性は、クランプ固定力の調整の可能性に影響する。フィルム5の非磁性ベース材料はプラスチックでよく、また紙、複合材料、ガラス等でもよい。磁性部分19は、様々な方法で設けられてよい。
もう1つの実施形態では、フィルム5の磁性部分19は、磁気テープまたは金属テープ22によって形成される。これは図7Eに示されている。図7Fでは、磁気テープ22は追加のフィルム5と共に積層されている。磁気テープ22には、ストライプ状、四角形状等、特定のパターンが設けられている。
フィルム5に磁気粒子20を導入することの1つの有利性は、特定の粒子の密度を選択することによって、クランプ固定力が影響されるということである。フィルムにおける磁性粒子20のもう1つの有利性は、この磁性粒子20がフィルムにおける水/湿気のバリヤとなることである。
フィルム5をテーブルとリール12とに磁気的にクランプ固定することは、真空クランプ固定に比べて有利である。とりわけ、このクランプ固定力は調整可能であり、これにより選択的な滑りが起こり、不連続な変形領域の影響を最少とする。
もう1つの有利性は、真空クランプ固定が真空引の穴の近くでのみ可能であるのに対して、磁気力のスイッチングのオン・オフは速くかつ全面に渡り印加できることである。真空クランプ固定の不利な点は、必要な圧力を維持するために、真空引きの穴から空気を除去しなければならないことである。これは大きな真空力のスポットを生じさせ、従って基板の変形を生じさせる。
磁気クランプ固定の場合は、フィルムとテーブルの間の気泡を避けるように、穴または溝がクランプに設けられている。
ここで示す詳細な図面、具体的な例、および特定の形態は、単に説明のために供するものである。真空クランプ固定と比較した、フィルム5の磁気的処理のさらなる有利性は多孔フィルムの使用が可能であるということである。
さらに、従属項に示されているように、本発明の範囲を外れることなく、他の代替、変形、変更、および省略が、実施形態例の設計、動作条件、および配置において可能である。

Claims (19)

  1. フレキシブルフィルム(5)における変形を補償するためのテーブル(1)であって、
    支持ベース(2)と
    変形補償システム(3)とを備え、
    前記変形補償システムは、前記ベース(2)に支持された複数の可動エレメント(4)を備え、前記可動エレメントは前記フレキシブルフィルムを支持するための面を形成し、前記可動エレメントは前記フィルム(5)をクランプ固定するためのクランプ(6)を備え、
    前記可動エレメント(4)は、前記クランプ固定されたフィルムを引き延ばして所定の形状となるように、前記フィルム(5)を支持するための前記面に対し平行に個別に可動となっていることを特徴とするテーブル(1)。
  2. 請求項1に記載のテーブルにおいて、
    前記複数の可動エレメント(4)は、可動エレメントの格子を形成するように、実質的にテーブル(1)の全面に渡って規則的に分布していることを特徴とするテーブル。
  3. 請求項1に記載のテーブルにおいて、
    前記可動エレメント(4)は、最小の距離が2から20μmの間の範囲であって、そして最大の距離が50から500μmの間の範囲のギャップによって隔てられていることを特徴とするテーブル。
  4. 請求項3に記載のテーブルにおいて、
    前記ギャップが複数のエレメントに沿って揃って延伸することを回避し、前記フィルムの弛みを最小とするために、前記エレメントはジグザグのエッジを持つことを特徴とするテーブル。
  5. 請求項1に記載のテーブルにおいて、
    前記可動エレメント(4)は、さらに、前記可動エレメントを動かすためのアクチュエータ(7)を備えることを特徴とするテーブル。
  6. 請求項1に記載のテーブルにおいて、
    前記可動エレメント(4)は、さらに、フィルム(5)への前記クランプ(6)の把持を改善するための密着強化層(8)を備えることを特徴とするテーブル。
  7. 請求項6に記載のテーブルにおいて、
    前記密着強化層(8)は摩擦増加層であることを特徴とするテーブル。
  8. 請求項6に記載のテーブルにおいて、
    個々の前記密着強化層の厚さは、前記フィルムを支持する面が平坦となるように、前記可動エレメントの高さの違いを補償することを特徴とするテーブル。
  9. 請求項1に記載のテーブルにおいて、
    前記クランプ(6)は磁気クランプであることを特徴とするテーブル。
  10. 請求項1に記載のテーブルにおいて、
    前記クランプ(6)は真空クランプであることを特徴とするテーブル。
  11. フレキシブルフィルム(5)をパターニングするためのシステム(10)であって、
    前記フィルムを供給するためのフィルム供給装置と、
    請求項1に記載のテーブルと、
    前記テーブルに渡って少なくとも部分的に前記フィルムを動かす移送手段と、
    前記テーブルの上で前記フィルムの部分をパターニングするために配置されたパターニングユニットと、
    前記テーブルに設けられて、前記変形補償システム(3)に通信で接続されているアライメントシステム(11)とを備えることを特徴とするシステム(10)。
  12. 請求項11に記載のシステムにおいて、
    前記アライメントシステム(11)は、前記フィルム(5)の上に設けられたマーカーパターン(9、9’、9”)を検出するように配置されていることを特徴とするシステム。
  13. 請求項11に記載のシステムにおいて、
    オープンリール式(“reel-to-reel”)の製造プロセスに使用されるように、前記移送手段は少なくとも2つのリール(12)を備えることを特徴とするシステム。
  14. 請求項13に記載のシステムにおいて、
    前記リールの少なくとも1つは複数磁気エレメント(14)を備え、各々の磁気エレメント(14)は、前記フィルム(5)の移送を制御するように個別にアドレス可能となっていることを特徴とするシステム。
  15. 請求項11乃至14のいずれか1項に記載のシステムにおいて、
    前記パターニングユニットは照射手段(13)を備えることを特徴とするシステム。
  16. フレキシブルフィルムをパターニングする方法(15)であって、
    フレキシブルフィルムをパターニングするためのシステムを用い、前記システムは前記フィルム(5)における変形を補償するためのテーブルを備え、前記テーブルは支持ベース(2)と変形補償システム(3)とを備え、前記変形補償システムは前記ベース(2)によって支持された複数の可動エレメント(4)を備え、前記可動エレメントは前記フィルムを支持するための面を形成し、前記可動エレメントはフィルムをクランプ固定するクランプ(6)を備え、前記方法は以下のステップ、
    フレキシブルフィルムをパターニングするためのシステムを提供するステップ(16)と、
    フィルムを供給するステップ(17)と、
    前記フィルムを前記可動エレメント(4)にクランプ固定するステップと、
    前記フィルムを所定の形状に引き延ばすように、前記可動エレメントを前記フィルム(5)に対し平行に個別に動かすステップと、
    前記テーブルの上で前記フィルムをパターニングするステップ(18)とを含むことを特徴とする方法。
  17. 請求項16に記載の方法において、
    前記フィルム(5)に対し直角に前記可動エレメント(4)を個別に動かして、前記フィルムを前記所定の形状となるように引き延ばすステップをさらに備えることを特徴とする方法。
  18. 請求項16に記載の方法において、
    前記フィルム(5)は、前記フィルムを磁気的にクランプ固定するための磁性部分(19)を備えることを特徴とする方法。
  19. 請求項18に記載の方法において、
    前記磁性部分(19)は、クランプ固定力を局所的に調整するための磁性粒子(20)を備えることを特徴とする方法。
JP2010548631A 2008-02-27 2009-02-27 フレキシブルフィルムのパターニングシステム Expired - Fee Related JP5373825B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08152032A EP2095946A1 (en) 2008-02-27 2008-02-27 A system for patterning flexible foils
EP08152032.2 2008-02-27
PCT/NL2009/050088 WO2009108054A1 (en) 2008-02-27 2009-02-27 A system for patterning flexible foils

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011513968A JP2011513968A (ja) 2011-04-28
JP5373825B2 true JP5373825B2 (ja) 2013-12-18

Family

ID=39689208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010548631A Expired - Fee Related JP5373825B2 (ja) 2008-02-27 2009-02-27 フレキシブルフィルムのパターニングシステム

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8570491B2 (ja)
EP (2) EP2095946A1 (ja)
JP (1) JP5373825B2 (ja)
KR (1) KR101509282B1 (ja)
WO (1) WO2009108054A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9252318B2 (en) * 2008-03-05 2016-02-02 Hanergy Hi-Tech Power (Hk) Limited Solution containment during buffer layer deposition
JP6216655B2 (ja) * 2014-02-19 2017-10-18 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
JP6420608B2 (ja) * 2014-09-25 2018-11-07 東レエンジニアリング株式会社 基材処理方法および基材処理装置
CN106783682B (zh) * 2016-12-15 2019-11-22 武汉华星光电技术有限公司 柔性显示屏制作装置及制作方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4385434A (en) * 1981-06-08 1983-05-31 Visidyne, Inc. Alignment system
JPS57204547A (en) 1981-06-12 1982-12-15 Hitachi Ltd Exposing method
CA1310431C (en) * 1988-07-04 1992-11-17 Yoshio Nishi Information card with printed battery
JP2892079B2 (ja) * 1990-02-21 1999-05-17 ウシオ電機株式会社 フィルム露光装置
US5198857A (en) * 1990-03-30 1993-03-30 Ushio Denski Kabushiki Kaisha Film exposure apparatus and method of exposure using the same
JP4079992B2 (ja) * 1994-10-17 2008-04-23 バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド 導電性被処理体を載置部材に締め付けるための装置及び静電クランピング方法
US5652645A (en) * 1995-07-24 1997-07-29 Anvik Corporation High-throughput, high-resolution, projection patterning system for large, flexible, roll-fed, electronic-module substrates
JP3417313B2 (ja) * 1998-09-28 2003-06-16 ウシオ電機株式会社 帯状ワークの露光装置
JP3678144B2 (ja) * 2000-12-22 2005-08-03 ウシオ電機株式会社 フィルム回路基板の周辺露光装置
US6847433B2 (en) * 2001-06-01 2005-01-25 Agere Systems, Inc. Holder, system, and process for improving overlay in lithography
TWI277836B (en) * 2002-10-17 2007-04-01 Adv Lcd Tech Dev Ct Co Ltd Method and apparatus for forming pattern on thin-substrate or the like
JP2004172319A (ja) * 2002-11-19 2004-06-17 Seiko Epson Corp ワーク搬送テーブル、ワーク搬送装置、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
TWI228190B (en) * 2003-09-29 2005-02-21 Ind Tech Res Inst Method of fabricating a passive matrix plastic display by roll-to-roll process
US7292308B2 (en) 2004-03-23 2007-11-06 Asml Holding N.V. System and method for patterning a flexible substrate in a lithography tool
JP2006098718A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 描画装置
JP4491311B2 (ja) * 2004-09-30 2010-06-30 富士フイルム株式会社 画像記録装置及び画像記録方法
JP3815687B1 (ja) * 2005-03-09 2006-08-30 株式会社 シーズ 基板搬送用クランプユニット
JP2007331041A (ja) * 2006-06-13 2007-12-27 Hitachi High-Technologies Corp 平板状ワークの作業装置
JP5144992B2 (ja) * 2007-08-27 2013-02-13 株式会社オーク製作所 露光装置
US8023105B2 (en) * 2007-11-19 2011-09-20 Orc Manufacturing Co., Ltd. Compact projection exposure device and associated exposure process performed by the device for exposing film-shaped tape to form circuit patterns
US8379186B2 (en) * 2009-07-17 2013-02-19 Nikon Corporation Pattern formation apparatus, pattern formation method, and device manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011513968A (ja) 2011-04-28
US8570491B2 (en) 2013-10-29
US20110261336A1 (en) 2011-10-27
KR101509282B1 (ko) 2015-04-07
EP2259922B1 (en) 2015-05-20
KR20110061514A (ko) 2011-06-09
WO2009108054A1 (en) 2009-09-03
EP2259922A1 (en) 2010-12-15
EP2095946A1 (en) 2009-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1972997B1 (en) Nano-imprinting apparatus and method
EP3455676B1 (en) Apparatus for imprinting discrete substrates with a discrete flexible stamp
US8596509B2 (en) High speed and fine substrate alignment apparatus in roll to roll system
JP5373825B2 (ja) フレキシブルフィルムのパターニングシステム
US9841673B2 (en) Imprint apparatus and article manufacturing method
JP5669466B2 (ja) 保持装置、インプリント装置及び物品の製造方法
WO2011099563A1 (ja) 基板処理装置
JP2004347964A (ja) 帯状ワークの両面投影露光装置
JP2015050437A (ja) インプリント装置および物品の製造方法
JP6028926B2 (ja) 成膜マスクおよび成膜装置
JP2004172619A (ja) 歪みの小さい高解像度フレックス回路を加工する方法
JP2010014939A (ja) 回路素子の製造装置及び製造方法
US9815652B2 (en) Film treating method
JP7351016B2 (ja) ラミネータ
KR102574036B1 (ko) 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법
JP2018510075A (ja) 高可撓性基板の担体への接合方法およびその方法で形成された製品
JP2008227209A (ja) 回路基板用部材の製造方法
JP2005116857A (ja) 回路基板の製造方法および回路基板用部材
JP2004066812A (ja) 可撓性フィルムのラミネート方法およびラミネート装置並びに回路基板の製造方法
JP7142738B2 (ja) 積層装置及び積層方法
JP2014043038A (ja) 転写装置、被成形体および転写方法
JP2018185506A (ja) 搬送装置および積層体の製造方法
KR20040078537A (ko) 띠 형상 워크의 노광 장치 및 마스크와 워크 스테이지의평행 설정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120206

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20121130

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130327

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130402

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130626

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20130703

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130723

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130827

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130919

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5373825

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees