JP5361477B2 - 軸受け装置、軸受け装置の製造システム、並びに軸受け装置の製造方法 - Google Patents
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また、上記の問題を解決するために、ニードルベアリングの内輪(内側支持部材)にリテーナを組付けた状態で、リテーナの外周面に交差する一方向からリテーナの外周面にニードルを押付け、リテーナの外周面に設けられた孔部にニードルを挿入していた。そして、このニードルの挿入を効果的に行うために、リテーナをその軸線を中心として回転させながらニードルを挿入していたが、既にリテーナの孔部に組込まれたニードルがリテーナの外周面に押付けられたニードルと当接し、リテーナの回転が阻害されることがあった。
本発明の軸受け装置の製造システムは、内側支持部材の外側に配置され、周方向に複数の孔部を設けた円筒状のリテーナを前記内側支持部材の軸線を中心に回転可能に支持するとともに、前記孔部に向かう挿入方向に伸びるシュート部を設けた支持手段と、前記リテーナを前記内側支持部材の軸線を中心に所定方向に回転させる回転手段と、
前記シュート部に複数配置された回転部材を前記リテーナに押付け、複数の前記孔部に複数の前記回転部材を組込む組込み部材と、を備えた軸受け装置の製造システムにおいて、前記組込み部材は、前記挿入方向とは逆方向に所定の抗力を受けた場合に前記挿入方向とは逆方向に退避する退避手段を介して前記回転部材を押付けることを特徴としている。
従って、リテーナの孔部に挿入された回転部材とリテーナの外周面に押付けられる回転部材との当接を解消することができ、リテーナの回転が阻害されることを抑えることができる。
この発明によれば、支持手段を交換して外径寸法の異なる軸受け装置を製造する場合でも、回転部材を内側支持部材の軸線に直交する方向から挿入することとなる。このため、支持手段に設けられるシュート部を内側支持部材の軸線に直交する方向に伸び、傾斜面を有しない単純な形状にすることができ、製造する軸受け装置の外径寸法を変化させても支持手段において使用される部品を共通化することが可能となる。
この発明によれば、リテーナの外周面に押付けられる回転部材に作用する重力の影響を抑え、回転部材がリテーナの外周面へ押付けられる力を安定させることができる。
この発明によれば、押付け手段と退避手段を挿入方向にコンパクトに配置することができるので、軸受け装置の製造システムを全体として小型にすることが可能となる。
この発明によれば、軸受け装置を製造する時に、既にリテーナの孔部に挿入された回転部材がリテーナの外周面に押付けられた回転部材と当接しても、孔部に組込まれた回転部材が挿入方向から押付けられる回転部材を挿入方向とは逆方向に退避させることがきる。従って、リテーナの孔部に挿入された回転部材とリテーナの外周面に押付けられる回転部材が強く当接して回転部材に生じる傷を抑えることが可能となり、製造される軸受け装置の回転をより安定させることができる。
また、本発明の軸受け装置によれば、製造される時にリテーナの回転が阻害されることを抑えることで回転部材に生じる傷を抑え軸受け装置の回転をより安定させることができる。
図1はカムフォロアの製造システムのブロック図、図2はカムフォロアの製造システムの制御に関するブロック図、図3は要部説明図である。
図1に示すように、このカムフォロアの製造システム1は、ニードル供給装置31に多数蓄えられたニードルから分離装置4及び計数装置6により一つのカムフォロアを組立てるのに必要な所定本数のニードルを組立装置5に供給するとともに、カムフォロアの製造システム1を操作する作業者がスタッドと外輪を1つずつ組立装置5に供給することにより、組立装置5で連続的にカムフォロアを製造するシステムである。
また図2に示すように、カムフォロアの製造システム1は、駆動力を発生させる圧縮空気の圧力を切替える弁切替え部21と、後述する第一端部回転モータ51cを制御するとともに後述する各種シリンダを弁切替え部21により制御する制御部22とを備えている。
なお、スタッドW1は特許請求の範囲の内側支持部材に、ニードルW2は回転部材にそれぞれ相当する。
第二の搬送方向E1及び第二の上流方向E2は、第一の搬送方向D1に直交する方向に設定されている。また、通常の使用時においては、上方支持面42a及び後述する下方支持面61aは水平面に平行に配置され、第一の搬送方向D1、第二の搬送方向E1、第二の上流方向E2及び後述する第一の上流方向D2は、水平面に沿った方向となる。
また、上方支持台42の供給位置P2には、下方支持面61aまで下がる段部42bが設けられている。
分離ロッド41には、ニードルW2を第二の搬送方向E1に押圧する押圧面41aと、ニードルW2が押圧面41aから離れるのを防止する鉤部41bが設けられている。そして、待機位置P1に供給されたニードルW2は、搬送シリンダ43により第二の搬送方向E1に移動する分離ロッド41に設けられた押圧面41aと鉤部41bに囲まれて供給位置P2まで確実に搬送され、供給位置P2に設けられた段部42bで下方支持面61aに落ちる。この時にニードルW2は、分離ロッド41から外れて計数装置6に供給される。
下方支持台61には、第二の搬送方向E1に延在するとともに第一の搬送方向D1に所定の間隔をおいて平行に配置された一対の側壁61bが設けられ、供給位置P2に供給されたニードルW2を第二の搬送方向E1に案内する。
また本実施形態では、上方支持台42と下方支持台61を別の構成とし隣り合うように配置したが、上方支持台42と下方支持台61を一体の構成としてもよい。
分離ロッド41でニードルW2を供給位置P2に搬送する時には、先に供給位置P2に搬送されたニードルW2を第二の搬送方向E1に押しながら搬送している。重り62は、分離ロッド41で第二の搬送方向E1に押される下方支持面61a上のニードルW2を第二の上流方向E2に寄せるために、下方支持面61a上のニードルW2の第二の搬送方向E1側に配置される。そして、分離ロッド41が先に供給位置P2に搬送されたニードルW2を第二の搬送方向E1に押すたびに、重り62もニードルW2と一体となって第二の搬送方向E1に移動する。
エレベータ64には第二の搬送方向E1に貫通する計数孔64aが設けられていて、この計数孔64aの中に一つのカムフォロアWを組立てるのに必要な所定本数、例えば15本のニードルW2が収容可能なように計数孔64aの寸法が設定されている。
エレベータ64は、エレベータ駆動シリンダ65により、図3に示す下降端位置Q1から上昇端位置Q2までの範囲を鉛直方向Fに往復移動する。エレベータ64が上昇端位置Q2に配置されている時には、付勢プレート63は第二の搬送方向E1に移動しながら計数孔64a内にニードルW2を供給する。
一方、エレベータ駆動シリンダ65によりエレベータ64が上昇端位置Q2から移動した時には、エレベータ64の壁部64bにより付勢プレート63は第二の搬送方向E1に移動することができず、停止している。
図3及び図5に示すように、組立装置5は、リテーナW4をスタッドW1の軸線C1を中心に回転方向Bに回転させる回転手段51と、リテーナW4をスタッドW1の軸線C1を中心に回転可能に支持するセット治具52と、セット治具52を分割及び結合させる治具移動手段53と、ニードルW2を組込む回転部材組込み手段7と、外輪W3を組付ける外輪組付け手段55と、回転手段51、治具移動手段53及び外輪組付け手段55を固定する組立部ベース56を有する。
なお、セット治具52は特許請求の範囲の支持手段に外輪組付け手段は外側部材組付け手段にそれぞれ相当する。
また回転手段51は、スタッドW1を回転させることにより、スタッドW1に組付けられたリテーナW4をスタッドW1の軸線C1を中心に回転方向Bに回転させる。
なお、第一端部回転モータ51c及びベアリング51fも組立部ベース56に固定され、第二端部駆動シリンダ51bは図示しない支持手段により支持されている。
また、第一治具52a及び第二治具52bにはニードルW2を組込むシュート部52cが設けられている。シュート部52cは、リテーナW4の孔部W7に向かう挿入方向Hに伸びている。そして、挿入方向Hは、スタッドW1の軸線C1に直交するとともに水平面に平行な方向、すなわち第二の搬送方向E1と平行に設定されている。
なお、組込み棒71は特許請求の範囲の組込み部材に、組込みベース73は伝達部材に、組込みシリンダ74は押付け手段にそれぞれ相当する。
組込み棒71は、挿入方向Hに沿って配置されるとともに、挿入方向Hに往復移動することにより、リテーナW4の複数の孔部W7に複数のニードルW2を組込む。
組込みベース73には、挿入方向Hとは逆方向である第二の上流方向E2に伸びる方向変換部73cが設けられ、図示しない直動ガイドに案内されて、第二の搬送方向E1及び第二の上流方向E2に所定範囲内を往復移動する。
組込みシリンダ74は、ニードルW2を挿入方向Hに押付ける駆動力を生じるために、組込みベース73を介して退避手段72を挿入方向Hに押圧する。すなわち、組込み棒71は、組込みシリンダ74との間に退避手段72を介して、ニードルW2をリテーナW4の外周面W8に押付けている。
退避手段72、組込みベース73及び組込みシリンダ74をこのような構成にすることで、組込みシリンダ74と退避手段72を挿入方向Hにコンパクトに配置することができ、カムフォロアの製造システム1を全体として小型にすることが可能となる。
組込みシリンダ74は、図2及び図3に示すように内部にベース位置検出センサ74bを有しており、組込みシリンダ74が備えるベースロッド74aの第二の搬送方向E1の位置を検出し、検出結果を制御部22に送信する。制御部22は送信されたベース位置検出センサ74bの検出結果により、組込みベース73の位置を求めることが可能となっている。
退避ベース72aは、退避バネ72dにより組込みベース73に対して所定範囲内を移動する。
退避バネ72dはコイル状のバネであり、第二の搬送方向E1に沿って配置されるとともに、一端が退避ベース72aに他端が組込みベース73に固定された退避バネ固定具73aにそれぞれ伸縮自在に固定されている。退避バネ72dは、退避ベース72aが組込みベース73に固定されたストッパー72cに当接するまで伸びることができるが、退避ベース72aがストッパー72cに当接する時も退避バネ72dは圧縮された状態になっている。
後述するように、組込み棒71で挿入方向Hに押圧してニードルW2をリテーナW4の外周面W8に押付けながら、複数のニードルW2を複数の孔部W7に組込む。
この時、通常は図6に示すように、既にリテーナW4の孔部W7に組込まれた位置L1に配置されているニードルW2は、隣り合う位置L2に配置されているニードルW2に干渉することなく、リテーナW4と共に回転方向Bに回転する。
ただし図7示すように、リテーナW4の孔部W7とニードルW2の隙間、及びシュート部52cとニードルW2の隙間により、挿入方向Hに対して所定方向Bとは逆方向のリテーナW4の孔部W7の位置L3に、ニードルW2が組込まれてしまうことがある。この場合、位置L3に配置されたニードルW2はリテーナW4の回転によりリテーナW4の外周面W8に押付けられた位置L4に配置されたニードルW2と当接し、位置L4に配置されたニードルW2は位置L3に配置されたニードルW2の方向から所定の抗力Mを受ける。
退避バネ72dのバネ定数は、この抗力Mの第二の上流方向E2の分力を受けた場合に位置L4に配置されたニードルW2を挿入方向Hとは逆方向に退避させ、位置L3に配置されたニードルW2との当接を解消することができるように設定されている。さらに、退避バネ72dのバネ定数は、図3に示すように、組込みベース73がベース待機位置K1からベース送り位置K2まで移動する間に退避バネ72dが縮みきって圧縮することができなくなることがないようにも設定されている。
退避ベース72aは組込みベース73に対して第二の搬送方向E1及び第二の上流方向E2に相対的に移動する。そして、図3に示すように、退避ベース72aがストッパー72cに当接し組込みベース73に対して最も第二の搬送方向E1側に移動した時の組込みベース73に対する組込み棒71の位置が組込み棒待機位置Jである。
そして、組込みベース73がベース送り位置K2に、組込み棒71が組込み棒待機位置Jにそれぞれ配置された時には、組込み棒71の先端はセット治具52内に取付けられたリテーナW4の近傍に達し、計数孔64aに収容された全てのニードルW2をリテーナW4の複数の孔部W7に組込むように設定されている。
なお、カムフォロアの製造システムの組立装置で行われる工程以外の工程は、既に説明を行った、又は既存のカムフォロアの製造システムと同様の構成なので説明を省略する。
また、カムフォロアの製造方法の各工程が開始される前には、図3に示すように、エレベータ64に設けられた計数孔64aには所定本数のニードルW2が収容され、エレベータ64は下降端位置Q1に配置されている。そして、組込みベース73はベース待機位置に、組込み棒71は組込み棒待機位置にそれぞれ配置されている。
そして作業者は、図示しない入力装置により制御部22に命令して、弁切替え部21により第二端部駆動シリンダ51bを駆動させて、第二端部支持具51dを第一の上流方向D2に移動させることにより、スタッドW1を第一端部支持具51aと第二端部支持具51dで挟んで支持させ、ステップS2に移行する。
上記の工程により、リテーナW4はスタッドW1の軸線C1を中心に回転可能となるように支持される。
すると、スタッドW1が回転することでリテーナW4も回転方向Bに回転し、セット治具52に設けられたシュート部52cを通ってリテーナW4の複数の孔部W7に複数のニードルW2が組込まれていく。
この時、上記のように退避バネ72dのバネ定数が設定されているので、図7に示すようにリテーナW4の孔部W7に挿入されたニードルW2とリテーナW4の外周面W8に押付けられるニードルW2との当接を解消することができ、リテーナW4の回転が阻害されることを抑えることができる。そしてニードルW2同士が強く当接することを低減することができるので、ニードルW2に生じる傷を抑えることが可能となる。
また、挿入方向Hは水平面に平行な方向に設定されているので、リテーナW4の外周面W8に押付けられるニードルW2に作用する重力の影響を抑え、ニードルW2がリテーナW4の外周面W8へ押付けられる力を安定させることができる。
このように、エレベータ64に設けられた計数孔64a内に配置された一つのカムフォロアWを組立てるのに必要な所定本数のニードルW2を、セット治具52内に取付けられたリテーナW4に設けられた孔部W7に過不足無く組付けることができる。
以上の工程により、組立装置5におけるカムフォロアWの組立が完成する。
また、セット治具52やエレベータ64を交換することで、リテーナW4を用いないカムフォロアWも製造することができる。
例えば、上記実施形態では、カムフォロアの製造システム1を操作する作業者が、第一治具シリンダ53aの内周面52d及び第二治具52bの内周面52eの共通の軸線軸線C2と、リテーナW4を組付けたスタッドW1の軸線C1が同一軸線を有するように配置した。また、作業者は、外輪W3を第一端部支持具51aの外周面に、外輪W3が第一の搬送方向D1に移動しない程度に係止させた。
しかし、上記の作業を制御部22の命令のもとに自動に行うスタッド供給装置及び外輪供給装置を新たに備えてもよい。
また、上記実施形態では退避バネ72dをコイル状のバネとしたが、板バネや皿バネであってもよい。
また、上記実施形態では、エレベータ64に設けられた計数孔64aに複数のニードルW2を収容した。しかし、複数のニードルW2をセット治具52に設けられたシュート部52cに配置してもよい。
リテーナW4にニードルW2がスタッドW1の軸線C1方向へ抜け落ちることを防止する形状が設けられている場合でも、スタッドW1の軸線C1に交差する方向からニードルW2を組込むことで、その形状を避けながらリテーナW4の孔部W7にニードルW2を組付けることが可能となるからである。
また、上記実施形態では、組込みシリンダ74は、第二の上流方向E2に伸びる方向変換部73cが設けられた組込みベース73を介して退避手段72を挿入方向Hに押圧する構成とした。しかし、組込みシリンダ74を退避手段72の第二の上流方向E2に配置して、組込みシリンダ74で挿入方向Hから退避手段72を押圧してもよい。
51 回転手段
52 セット治具(支持手段)
52c シュート部
71 組込み棒(組込み部材)
72 退避手段
73 組込みベース(伝達部材)
73c 方向変換部
74 組込みシリンダ(押付け手段)
C1 スタッドの軸線(内側支持部材の軸線)
E1 第二の搬送方向
H 挿入方向
W カムフォロア(軸受け装置)
W1 スタッド(内側支持部材)
W2 ニードル(回転部材)
W4 リテーナ
W7 孔部
Claims (4)
- 内側支持部材の外側に配置され、周方向に複数の孔部を設けた円筒状のリテーナを前記内側支持部材の軸線を中心に回転可能に支持するとともに、前記孔部に向かう挿入方向に伸びるシュート部を設けた支持手段と、
前記リテーナを前記内側支持部材の軸線を中心に所定方向に回転させる回転手段と、
前記シュート部に複数配置された回転部材を前記リテーナの外周面に押付け、複数の前記孔部に複数の前記回転部材を組込む組込み部材と、を備えた軸受け装置の製造システムにおいて、
前記組込み部材は、前記挿入方向とは逆方向に所定の抗力を受けた場合に前記挿入方向とは逆方向に退避する退避手段を介して前記回転部材を押付けることを特徴とする軸受け装置の製造システム。 - 請求項1に記載の軸受け装置の製造システムにおいて、
前記挿入方向は前記内側支持部材の軸線に直交する方向であることを特徴とする軸受け装置の製造システム。 - 請求項1又は請求項2に記載の軸受け装置の製造システムにおいて、
前記挿入方向は水平面に平行な方向であることを特徴とする軸受け装置の製造システム。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の軸受け装置の製造システムにおいて、
前記回転部材を押付ける駆動力を生じる押付け手段は、前記挿入方向とは逆方向に伸びる方向変換部が設けられた伝達部材を介して前記退避手段を前記挿入方向に押圧することを特徴とする軸受け装置の製造システム。
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