JP5348793B2 - 忌避成分の少ないセメントの製造方法 - Google Patents
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Description
2 セメントキルン
2a 窯尻
3 仮焼炉
4 プレヒータ
4a 最下段サイクロン
4b〜4d サイクロン
5 被覆設備
6 供給設備
7 キルンバーナー
8 クリンカクーラ
9 シュート
10 抽気設備
11 ダスト回収設備
C 被覆素材
CP コークス粉末
CXR 被覆還元性物質・塩素源
Ga〜Gb ガラス粉末
M セメント原料
R 還元性物質
RX 還元性物質・塩素源
X 塩素源
Claims (11)
- 還元性物質の表面を、軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆し、
塩素源の表面を、軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆し、
該被覆した還元性物質及び塩素源を前記セメントキルンに供給し、
該被覆還元性物質及び被覆塩素源の供給により、セメント製造工程における忌避成分の還元揮発及び塩化揮発を促進し、
該忌避成分を該セメント製造工程から除去することを特徴とするセメントの製造方法。 - 還元性物質と塩素源との混合物の表面を、軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆し、
該被覆した混合物を前記セメントキルンに供給し、
該被覆した混合物の供給により、セメント製造工程における忌避成分の還元揮発及び塩化揮発を促進し、
該忌避成分を該セメント製造工程から除去することを特徴とするセメントの製造方法。 - 還元性物質の表面を、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い塩素源で被覆し、
該還元性物質を被覆した塩素源の表面を軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆し、
該被覆した還元性物質及び塩素源を前記セメントキルンに供給し、
該被覆還元性物質及び塩素源の供給により、セメント製造工程における忌避成分の還元揮発及び塩化揮発を促進し、
該忌避成分を該セメント製造工程から除去することを特徴とするセメントの製造方法。 - 前記被覆素材の軟化点、融点又は分解温度が700℃以上であることを特徴とする請求項1、2又は3に記載のセメントの製造方法。
- 前記忌避成分は、鉛又は/及び亜鉛であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のセメントの製造方法。
- 前記還元性物質は、粒径が200μm未満の微粉を含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のセメントの製造方法。
- 前記塩素源は、粒径が200μm未満の微粉を含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のセメントの製造方法。
- 前記被覆素材は、前記忌避成分を含有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のセメントの製造方法。
- 還元性物質の表面を、軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆した被覆還元性物質と、塩素源の表面を、軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆した被覆塩素源とを混合したことを特徴とするセメントの忌避成分除去助剤。
- 還元性物質と塩素源との混合物の表面を、軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆したことを特徴とするセメントの忌避成分除去助剤。
- 還元性物質の表面を、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い塩素源で被覆し、該還元性物質を被覆した塩素源の表面を軟化点、融点又は分解温度がセメントキルンの焼点温度より低い素材で被覆したことを特徴とするセメントの忌避成分除去助剤。
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TWI483918B (zh) * | 2008-03-10 | 2015-05-11 | Taiheiyo Cement Corp | 水泥製造方法 |
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2010
- 2010-03-24 JP JP2010067157A patent/JP5348793B2/ja active Active
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