JP5347424B2 - ガラス製造装置および製造方法 - Google Patents
ガラス製造装置および製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5347424B2 JP5347424B2 JP2008269595A JP2008269595A JP5347424B2 JP 5347424 B2 JP5347424 B2 JP 5347424B2 JP 2008269595 A JP2008269595 A JP 2008269595A JP 2008269595 A JP2008269595 A JP 2008269595A JP 5347424 B2 JP5347424 B2 JP 5347424B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- alumina
- ceramic particles
- molten glass
- platinum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 128
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 72
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 90
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 70
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 49
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 15
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 5
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 5
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 3
- -1 etc. Substances 0.000 description 3
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 3
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052851 sillimanite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N platinum rhodium Chemical compound [Rh].[Pt] PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
- C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
ガラス製造工程における装置温度は、その処理内容により異なるが、約900℃以上の高温環境下にある。白金材料は、上記特性からこのような高温環境下でも装置内部の溶融ガラスを汚染することなく、長期間十分な耐久性を維持することができる。
特に、液晶ディスプレイ(LCD)、有機エレクトロルミネッセンス・ディスプレイ(OLED)、無機エレクトロルミネッセンス・ディスプレイ等に使用されるアルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラス基板の場合、無アルカリガラスが高融点であり、アルカリ含有ガラスと比較して高粘性であるため、溶融ガラス中の気泡が浮上しにくく、気泡の抑制が難しい。
該部材の溶融ガラスが接する面の裏面側に、アルミナ系セラミック粒子の全量に対しMnをMn2O3換算で0.1〜15質量%含有し、アルミナ系セラミック粒子から放出される酸素の量が上昇する変化点を溶融ガラス温度域に有するアルミナ系セラミック粒子を含む層が形成されていることを特徴とするガラス製造装置を提供する。
該部材の溶融ガラスが接する面の裏面側にアルミナ系セラミック粒子を含む層が形成されており、
該アルミナ系セラミック粒子がムライトを10質量%以上含有し、かつ、該ムライトに対する質量%でMnをMn2O3換算で0.1〜15%含有することを特徴とするガラス製造装置を提供する。
SiO2 50〜70%、
Al2O3 5〜25%、
B2O3 1〜20%、
MgO 0〜10%、
CaO 0〜17%、
SrO 0〜17%、
BaO 0〜20%、
MgO+CaO+SrO+BaO 8〜30%
を含有する無アルカリガラスであることが好ましい。
特に、本発明のガラス製造装置およびガラス製造方法で製造される無アルカリガラスは、フラットパネルディスプレイ用の基板ガラス、特に、液晶ディスプレイ(LCD)、有機エレクトロルミネッセンス・ディスプレイ(OLED)、無機エレクトロルミネッセンス・ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用の基板ガラスの用途に好適である。
図1は、ガラス製造装置の一構成例を示した模式図である。図1に示すガラス製造装置1は、溶解槽2と、該溶解槽2の下流側に設けられた清澄槽3と、清澄槽3の下流側に設けられた攪拌槽4と、攪拌槽4の下流側に設けられた成形装置5と、を有し、溶解槽2、清澄槽3、攪拌槽4および成形装置5は、それぞれ、溶融ガラスを流通させるための導管(連絡流路)6,7,8によって接続されている。
溶解槽2は、バーナー、電極等が設けられ、ガラス原料を溶解することができる。溶解槽2の下流側には溶融ガラスの流出口が形成されており、該流出口を上流端とする導管6を介して溶解槽2と清澄槽3とが連通している。
清澄槽3は、主としてガラスの清澄が行われる部位であり、溶融ガラス中に含まれる微細な泡が清澄剤から放出される清澄ガスにより浮上され、溶融ガラスから除去される。清澄槽3の下流側には溶融ガラスの流出口が形成されており、該流出口を上流端とする導管7を介して清澄槽3と攪拌槽4とが連通している。
攪拌槽4は、主としてスターラー等により溶融ガラスを攪拌し、均質化する部位である。攪拌槽4の下流側には流出口が形成されており、流出口を上流端とする導管8を介して攪拌槽4と成形装置5とが連通している。
成形装置5は、主としてガラスを所望の形状に成形する部位であり、製造するガラス製品の形状に応じて適宜選択される。例えば、ガラス製品がフラットパネルディスプレイ用のガラス基板である場合、フロート成形装置、ダウンドロー成形装置等が使用される。
ここで、溶融ガラスと接する白金製もしくは白金合金製の部材の具体例としては、溶融ガラスを収容する白金製もしくは白金合金製の容器が挙げられる。但し、これに限定されず、ガラス製造装置の使用時において、溶融ガラスと接する白金製もしくは白金合金製の部材を広く含む。以下、本明細書において、溶融ガラスと接する白金製もしくは白金合金製の部材の具体例として、溶融ガラスを収容する白金製もしくは白金合金製の容器を挙げて説明するが、溶融ガラスを収容する容器以外の白金製もしくは白金合金製の部材については、溶融ガラスを収容する容器と記載されている部分を白金製もしくは白金合金製の部材として解釈する。
溶融ガラスを収容する容器とは、ガラス製造工程において、溶融ガラスを一時的に保持または収容する容器を広く含み、図1に示すガラス製造装置1の一構成例では、溶解槽2、清澄槽3、攪拌槽4、および導管6,7,8が該当する。
したがって、本発明のガラス製造装置は、上記した溶融ガラスを収容する容器のうち、少なくとも1つは白金材料製であり、該白金材料製の容器の溶融ガラスと接する面の裏面側、すなわち、図1に示すガラス製造装置の一構成例では、白金材料製の容器壁面の外側に、上記のアルミナ系セラミック粒子層が形成される。
Mnの価数変化の際(Mn3+→Mn2+、または、Mn4+→Mn2+の場合)には、下記式に示すようにMn酸化物から酸素が放出されるので、アルミナ系セラミック粒子から放出される酸素の量を測定することによって、Mnの価数変化を確認することができる。
Mn2O3 → 2MnO + 1/2O2
MnO2 → MnO + 1/2O2
なお、アルミナ系セラミック粒子から放出される酸素の量は、TG−DTA−MS(示差熱分析熱天秤−質量分析法)やTPD(昇温脱ガス法)等により求めることができる。
酸素放出量の変化点が溶融ガラス温度域にあれば、ガラス製造装置の使用時、より具体的には、溶融ガラスを収容する容器の白金材料製の壁面が溶融ガラスと接している状態において、アルミナ系セラミック粒子に含まれるMnの価数変化が起こりやすい状態になるので、ガラス製造時において、界面での気泡発生抑制効果が安定して発揮される。
溶融ガラス温度域とは、溶解から成形前までのガラス製造工程において、溶融ガラスが経験する温度域を指す。図1に示すガラス製造装置1において、溶解槽2から導管8までで溶融ガラスが経験する温度域を指す。溶融ガラス温度域は、ガラスの種類やガラス製造装置の構成要素によっても異なるが、無アルカリガラスの場合、通常1250〜1650℃である。好ましくは、後述するガラス製造装置を構成する容器ごとの溶融ガラス温度域である。
図2は、このようなプロットの近似曲線の一例を示したグラフである。図2中、曲線Aは、酸素放出量の変化点が1250〜1650℃の範囲にあるので、本発明で使用するアルミナ系セラミック粒子である。一方、曲線Bは酸素放出量の変化点が1250℃未満であり、曲線Cは酸素放出量の変化点が1650℃超であるため、本発明で使用するアルミナ系セラミック粒子ではない。
以上の点から、本発明で使用するアルミナ系セラミック粒子は、ムライトを10質量%以上含有し、かつ、ムライトに対する質量%でMnをMn2O3換算で0.1〜15%含有することが好ましいこととなる。この場合、ムライトの含有量の好適範囲は上記した通りである。また、Mnの含有量は、ムライトに対する質量%でMn2O3換算で13質量%以下であることがより好ましい。
アルミナ系セラミック粒子中のガラス相の含有量は、50質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、20質量%以下であることがさらに好ましく、10質量%以下であることが特に好ましい。ガラス相の含有量が50質量%超だと、ムライト相表面がガラス相で覆われてしまい、Mnの価数変化による界面での気泡発生抑制効果が十分発揮できない傾向にある。
具体的には、容器の壁面外側に、容器と所定の間隔をもって耐火性ブロックを設け、容器と該耐火性ブロックとの隙間にアルミナ系セラミック粒子を充填する。耐火性ブロックは、耐火性であって、アルミナ系セラミック粒子を保持できるものであれば特に限定されず、例えば、焼成耐火物、具体的には、アルミナジルコン質、ジルコン質、シリマナイト質、シャモット質、アルミナ質、マグネシア質のレンガ等が例示される。但し、耐火性ブロックの製造容易性(成形性、加工性等)及びコストの点を考慮すると、アルミナ質レンガが好ましい。
なお、本発明で粒子のアルミナ系セラミックを用いるのは、白金材料製の容器の壁面外側に充填するのに好都合だからである。したがって、粒径2mm以下程度に粉砕されたものであればよく、特定の粒度分布となるように調整したものを意図したものではない。本明細書において粒径とは、その大きさの目開きのふるいを通る粒子の大きさをいう。例えば粒径2mm以下の場合には、2mmの目開きのふるいを通る粒子のことをいう。したがって、セラミック粒子の形状は、特に限定されず、球形、角型、不定形等であってよい。容器周囲に、該容器に対して十分な接触点をもってセラミック粒子を充填させることを考慮すると、粒径は2mm以下が好ましい。また充填する際の飛散防止を考慮すると粒径は10μm以上が好ましい。
したがって、本発明では、ガラス製造装置を構成する白金材料製の容器の壁面外側に、該容器に収容される溶融ガラス温度域に変化点を有するアルミナ系セラミック粒子を充填する。
この無アルカリガラスは、酸化物基準の質量百分率表示で、
SiO2 50〜70%、
Al2O3 5〜25%、
B2O3 1〜20%、
MgO 0〜10%、
CaO 0〜17%、
SrO 0〜17%、
BaO 0〜20%、
MgO+CaO+SrO+BaO 8〜30%
を含有する。
なお、上記の質量百分率表示は、SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrOおよびBaOの合計を100%としたものである。
SiO2 55〜64%、
Al2O3 10〜22%、
B2O3 6〜12%、
MgO 1〜7%、
CaO 2〜14%、
SrO 3〜14%、
BaO 0〜1%、
MgO+CaO+SrO+BaO 10〜30%
を含有することがより好ましい。
なお、上記の質量百分率表示は、SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrOおよびBaOの合計を100%としたものである。
本実施例では、図3(a)に示す白金合金製(白金ロジウム合金、ロジウム10質量%)のルツボ(JIS H6201(1986.11.1)準拠)と、図3(b)に示すジルコニアレンガ製の基台(耐火性ブロック)を用いて白金合金界面での気泡の発生状況を評価した。図3(a)に示すルツボ、および図3(b)に示す基台の寸法はそれぞれ以下の通りである。
ルツボ
高さ:27mm
上部径:25mm
底部径:15mm
容量:10cc
質量:8.0g
基台
外部寸法:48mm×48mm×48mm
凹部深さ:26mm
凹部径:35mm
また、実施例で使用したアルミナ系セラミック粒子を表1に示す。表1の組成になるように原料を秤量した後、ボールミルで湿式混合し、乾燥後、アルミナルツボで、大気中1350℃で1日予備焼成し、アルミナ乳鉢で粉砕、混合した後、大気中1670℃、14日間、その後、1350℃、10日間焼成して粒径10〜300μmのアルミナ系セラミック粒子を作製した。表1中、アルミナ系セラミック粒子中の結晶相とガラス相との割合は、粉末X線回折(XRD)法により各結晶相の割合を測定して求めた。具体的には、各結晶相の純物質(ムライト、バデレアイト、コランダム、Mn酸化物)と試料とのXRD強度比から結晶相の割合を求め、試料と各結晶相の割合の合計との差からガラス相の割合を求めた。また、アルミナ系セラミック粒子における組成比は蛍光X線分析により求めた。なお、例1〜例3は、ムライト中のAlの一部をMnで置換したものである。例4は原料にZr酸化物を含めた結果、ムライト以外に、バデレアイトおよびコランダムを結晶相として含有するものである。例5は、Mnの含有量がMn2O3換算で15%超であったため、Mnの一部がアルミナ系セラミックの結晶構造中に組み込まれず、Mn酸化物のまま残存したものである。例6〜例8は、ムライト中のAlの一部をそれぞれCo、SnおよびTiで置換したものである。例9は、Mnの含有量がMn2O3換算で0.1%未満の例である。
無アルカリガラスが溶解した後、さらに1400℃で1時間保持し、白金合金界面、すなわち、ルツボ壁面での気泡の発生を観察した。結果を表1に示す。表1において、例1〜4は実施例、例5〜9は比較例を示す。表1中、気泡占有率は図3(a)のルツボ底面において、気泡が占める面積の割合である。なお、括弧書は実際の測定値である。気泡占有率が2%未満の場合、実際のガラス製造装置に適用して無アルカリガラスを製造した際に気泡が少ないガラスが得られると考えられる。なお、0%は測定限界以下であったことを示している。
表1の結果から明らかなように、例1〜4のアルミナ系セラミック粒子は、効果的にかつ安定して、界面での気泡発生を抑制することができた。一方、例5〜8のアルミナ系セラミック粒子は、酸素放出量の変化点が1250〜1650℃の範囲にないため、実施例の溶融ガラス温度(1400℃)ではMnの価数変化による気泡発生抑制効果を発揮できないものと考えられる。また、例9のアルミナ系セラミック粒子は、酸素放出量の変化点が1250〜1400℃であるが、Mn2O3含有量が0.1質量%未満であるため、Mnの価数変化による気泡発生抑制効果を十分発揮できないものと考えられる。
2:溶解槽
3:清澄槽
4:攪拌槽
5:成形装置
6,7,8:導管
Claims (8)
- ガラスの製造装置であって、溶融ガラスと接する白金製もしくは白金合金製の部材を有し、
該部材の溶融ガラスが接する面の裏面側に、アルミナ系セラミック粒子の全量に対しMnをMn2O3換算で0.1〜15質量%含有し、アルミナ系セラミック粒子から放出される酸素の量が上昇する変化点を溶融ガラス温度域に有するアルミナ系セラミック粒子を含む層が形成されていることを特徴とするガラス製造装置。 - 前記溶融ガラス温度域が、1250〜1650℃であることを特徴とする請求項1に記載のガラス製造装置。
- 前記アルミナ系セラミック粒子が、ムライトを10質量%以上含有することを特徴とする請求項1または2に記載のガラス製造装置。
- ガラスの製造装置であって、溶融ガラスと接する白金製もしくは白金合金製の部材を有し、
該部材の溶融ガラスが接する面の裏面側にアルミナ系セラミック粒子を含む層が形成されており、
該アルミナ系セラミック粒子がムライトを10質量%以上含有し、かつ、該ムライトに対する質量%でMnをMn2O3換算で0.1〜15%含有することを特徴とするガラス製造装置。 - 前記アルミナ系セラミック粒子の全量に対するFeの含有量が、Fe2O3換算で0.2質量%未満であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガラス製造装置。
- 前記白金製もしくは白金合金製の部材が、溶融ガラスを収容する容器であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のガラス製造装置。
- 請求項1〜6のいずれかに記載のガラス製造装置を用いたガラス製造方法。
- 製造されるガラスが、酸化物基準の質量百分率表示(SiO2、Al2O3、B2O3、MgO、CaO、SrOおよびBaOの合計を100%とする)で、
SiO2 50〜70%、
Al2O3 5〜25%、
B2O3 1〜20%、
MgO 0〜10%、
CaO 0〜17%、
SrO 0〜17%、
BaO 0〜20%、
MgO+CaO+SrO+BaO 8〜30%
を含有する無アルカリガラスであることを特徴とする請求項7に記載のガラス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008269595A JP5347424B2 (ja) | 2008-10-20 | 2008-10-20 | ガラス製造装置および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008269595A JP5347424B2 (ja) | 2008-10-20 | 2008-10-20 | ガラス製造装置および製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010095427A JP2010095427A (ja) | 2010-04-30 |
JP5347424B2 true JP5347424B2 (ja) | 2013-11-20 |
Family
ID=42257389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008269595A Active JP5347424B2 (ja) | 2008-10-20 | 2008-10-20 | ガラス製造装置および製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5347424B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7032412B2 (en) * | 2003-03-13 | 2006-04-25 | Corning Incorporated | Methods of manufacturing glass sheets with reduced blisters |
DE10348466B4 (de) * | 2003-10-14 | 2007-05-31 | Schott Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von hoch schmelzenden Gläsern oder Glaskeramiken und Verwendung einer Vorrichtung |
JP2006076871A (ja) * | 2003-12-26 | 2006-03-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 硼珪酸板ガラス物品の製造装置、製造方法及び硼珪酸板ガラス物品 |
-
2008
- 2008-10-20 JP JP2008269595A patent/JP5347424B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010095427A (ja) | 2010-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI406836B (zh) | Manufacture of alkali - free glass | |
JP4720777B2 (ja) | ガラス製造装置および製造方法 | |
JP6128710B2 (ja) | ジルコニア量の少ないディスプレイ品質ガラス板の大量生産 | |
KR102532702B1 (ko) | 무알칼리 유리 기판의 제조 방법 및 무알칼리 유리 기판 | |
TW201213246A (en) | Alumina isopipes for use with tin-containing glasses | |
EP2918554B1 (en) | Molten glass conveying equipment element, method for manufacturing molten glass conveying equipment element, glass manufacturing apparatus comprising molten glass conveying equipment element and method for manufacturing glass product | |
JP6955321B2 (ja) | 珪酸塩ガラスの製造方法、珪酸塩ガラス及び珪酸塩ガラス用シリカ原料 | |
TW201223913A (en) | High zirconia refractory product | |
TWI400216B (zh) | High zirconia cast refractory | |
KR20150136582A (ko) | 무알칼리 유리의 제조 방법 | |
WO2013150912A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板製造装置 | |
JP4613635B2 (ja) | ガラス及びその製造方法 | |
JP2006076871A (ja) | 硼珪酸板ガラス物品の製造装置、製造方法及び硼珪酸板ガラス物品 | |
JP2008308343A (ja) | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板並びにその製造方法 | |
JP2008201617A (ja) | ガラスの製造方法 | |
WO2010041305A1 (ja) | ガラス製造装置および製造方法 | |
KR101798288B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 | |
JP5347424B2 (ja) | ガラス製造装置および製造方法 | |
CN108473360A (zh) | 硅酸盐玻璃用混合原料以及使用该原料的管状玻璃的制造方法 | |
KR20060117316A (ko) | 붕규산 판유리 물품의 제조장치, 제조방법 및 붕규산판유리 물품 | |
JP2008019110A (ja) | ガラス流路用材料、ガラス製造用装置及びガラス製品の製造方法 | |
JP2011116596A (ja) | ガラス製造容器用焼成被膜、ガラス製造容器、ガラス製造装置、ガラスの製造方法及びガラス製造装置の製造方法 | |
JP5252364B2 (ja) | ガラス溶融設備及びガラスの溶融方法 | |
TW201542481A (zh) | 矽酸鹽玻璃的製造方法、矽酸鹽玻璃及矽酸鹽玻璃用氧化矽原料 | |
TW201825422A (zh) | 熔融玻璃之製造方法及玻璃物品之製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110801 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130723 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130805 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5347424 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R154 | Certificate of patent or utility model (reissue) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |