JP5344313B2 - イリジウムの焼成還元方法 - Google Patents
イリジウムの焼成還元方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5344313B2 JP5344313B2 JP2010172911A JP2010172911A JP5344313B2 JP 5344313 B2 JP5344313 B2 JP 5344313B2 JP 2010172911 A JP2010172911 A JP 2010172911A JP 2010172911 A JP2010172911 A JP 2010172911A JP 5344313 B2 JP5344313 B2 JP 5344313B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- iridium
- reducing
- added
- hydroxide
- process according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 title claims description 60
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 238000010304 firing Methods 0.000 title claims description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 21
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 17
- IUJMNDNTFMJNEL-UHFFFAOYSA-K iridium(3+);trihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ir+3] IUJMNDNTFMJNEL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- -1 iridium ion Chemical class 0.000 claims description 9
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 6
- CPVWIPKRZBLZSK-UHFFFAOYSA-K [Ir](Cl)(Cl)Cl.N Chemical compound [Ir](Cl)(Cl)Cl.N CPVWIPKRZBLZSK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001036 glow-discharge mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
本発明は、イリジウムの塩化物溶液から金属イリジウムを回収する方法に関する。
イリジウム塩化物溶液からの金属イリジウムの回収法に関して、塩化アンモニウムを用いた晶析法により塩化イリジウム酸アンモニウム塩を液中より回収し、さらに還元雰囲気中で還元焼成することで金属イリジウムを得る方法がよく知られている。また、先行する特許文献１の如し、イリジウム塩化物溶液からの回収法として塩化イリジウム酸アンモニウム塩を経由し、さらに中和法によりイリジウムの酸化物を得るプロセスが提案されている。
しかし、塩化アンモニウムを用いた晶析法では、晶析后液中にイリジウムが残存してしまうので、さらにそこから回収をおこなう工程を設けなければならないこと、また、塩化イリジウム酸アンモニウム塩から金属イリジウムを直接得る焼成処理においては多量の塩化アンモニウムが発生するので、還元焼成炉の閉塞が問題となる。
また、塩化イリジウム酸アンモニウム塩からイリジウムの中和物を得るためには含有されるアンモニウムイオンを除去する必要があり、手間隙がかかる。
また、塩化イリジウム酸アンモニウム塩からイリジウムの中和物を得るためには含有されるアンモニウムイオンを除去する必要があり、手間隙がかかる。
本発明の目的は、イリジウムの塩化物溶液から金属イリジウムを回収する方法を提供するものである。
本発明は、上記課題を解決するものであって、以下の発明を提供する。
（１）イリジウムの塩化物溶液から金属イリジウムを回収する方法において、
該溶液を加熱して酸化剤を添加することでイリジウムイオンの価数を４価に調整した後、さらに塩基を加え、前記液中のイリジウムを水酸化物として沈殿させる回収工程、
該沈殿物をろ過した後、純水によるリパルプ洗浄を数回行い付随するアルカリ金属イオンを洗浄除去する洗浄工程、
該沈殿物を還元性ガス雰囲気中で還元焼成することにより、金属イリジウムを得る還元工程
からなるイリジウムの焼成還元方法。
（２）上記（１）に記載の回収工程において、
イリジウムの塩化物溶液に加える酸化剤は硝酸、次亜塩素酸化合物、過酸化水素、塩素の何れか一つを含むイリジウムの焼成還元方法。
（１）イリジウムの塩化物溶液から金属イリジウムを回収する方法において、
該溶液を加熱して酸化剤を添加することでイリジウムイオンの価数を４価に調整した後、さらに塩基を加え、前記液中のイリジウムを水酸化物として沈殿させる回収工程、
該沈殿物をろ過した後、純水によるリパルプ洗浄を数回行い付随するアルカリ金属イオンを洗浄除去する洗浄工程、
該沈殿物を還元性ガス雰囲気中で還元焼成することにより、金属イリジウムを得る還元工程
からなるイリジウムの焼成還元方法。
（２）上記（１）に記載の回収工程において、
イリジウムの塩化物溶液に加える酸化剤は硝酸、次亜塩素酸化合物、過酸化水素、塩素の何れか一つを含むイリジウムの焼成還元方法。
（３）上記（１）に記載の回収工程において、
イリジウムの塩化物溶液に加える塩基は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの何れか一つを含むイリジウムの焼成還元方法。
（４）上記（１）に記載の回収工程において、
原料溶液に塩基を加え、液ｐＨを７以上に上げるイリジウムの焼成還元方法。
（５）上記（１）に記載の回収工程において、
塩基を加えた原料溶液の加熱処理が７０℃から１００℃であり、処理時間が１時間以上であるイリジウムの焼成還元方法。
イリジウムの塩化物溶液に加える塩基は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの何れか一つを含むイリジウムの焼成還元方法。
（４）上記（１）に記載の回収工程において、
原料溶液に塩基を加え、液ｐＨを７以上に上げるイリジウムの焼成還元方法。
（５）上記（１）に記載の回収工程において、
塩基を加えた原料溶液の加熱処理が７０℃から１００℃であり、処理時間が１時間以上であるイリジウムの焼成還元方法。
（６）上記（１）に記載の洗浄工程において、
水酸化イリジウムの純水によるリパルプ洗浄を少なくとも３回以上行うことによるイリジウムの焼成還元方法。
（７）上記（１）に記載の焼成還元工程において、
還元性雰囲気中、５００℃以上１０００℃以下で
１時間以上加熱処理を行うことにより金属イリジウムを得るイリジウムの焼成還元方法。
（８）上記（７）に記載の還元工程において、
還元性雰囲気は水素であるイリジウムの焼成還元方法。
水酸化イリジウムの純水によるリパルプ洗浄を少なくとも３回以上行うことによるイリジウムの焼成還元方法。
（７）上記（１）に記載の焼成還元工程において、
還元性雰囲気中、５００℃以上１０００℃以下で
１時間以上加熱処理を行うことにより金属イリジウムを得るイリジウムの焼成還元方法。
（８）上記（７）に記載の還元工程において、
還元性雰囲気は水素であるイリジウムの焼成還元方法。
本発明によれば、
（１）イリジウム塩化物水溶液中からほぼ全量のイリジウムを水酸化物として回収することが可能である。
（２）また、リパルプ洗浄では水酸化イリジウムの溶解がほとんどないので、そのまま還元雰囲気中で還元焼成することで損失なく金属イリジウムを得ることができる。
（３）リパルプ洗浄を行うことで、前工程で添加したアルカリ金属をほぼ完全に取り除くことが可能である。
等があげられる。
（１）イリジウム塩化物水溶液中からほぼ全量のイリジウムを水酸化物として回収することが可能である。
（２）また、リパルプ洗浄では水酸化イリジウムの溶解がほとんどないので、そのまま還元雰囲気中で還元焼成することで損失なく金属イリジウムを得ることができる。
（３）リパルプ洗浄を行うことで、前工程で添加したアルカリ金属をほぼ完全に取り除くことが可能である。
等があげられる。
以下本発明について、詳細に説明する。
尚、本発明の一態様である処理フローを図１に示す。
本発明のイリジウムの還元方法は、イリジウムを含有する塩化物溶液を出発原料とする。その濃度は、イリジウムが５０ｍｇ／Ｌ以上である。
尚、本発明の一態様である処理フローを図１に示す。
本発明のイリジウムの還元方法は、イリジウムを含有する塩化物溶液を出発原料とする。その濃度は、イリジウムが５０ｍｇ／Ｌ以上である。
（水酸化イリジウム生成工程）
本発明の回収工程では、原料溶液に酸化剤として硝酸、次亜塩素酸化合物、過酸化水素、塩素の何れか一つを少なくとも用いる。
回収工程操作中、適宜酸化剤の添加を行うことでＯＲＰを５００ｍＶ以上に維持する。ＯＲＰを５００ｍＶ以上にすることで、液中のほとんどのイリジウムイオンの価数は４価に調整されるが、このことにより、この後の水酸化処理においてイリジウムのほぼ全量が回収可能であることを保証される。
塩基として水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの何れか一つを少なくとも添加するこする。
この際、液ｐＨを７以上に上げる。ｐＨが７より低いとイリジウムの一部が水酸化物を形成せず、イリジウム回収率が低下する。
好ましくは、ｐＨを９から１３である。
反応終了後、徐冷し、ろ過により水酸化イリジウムを得る。
本発明の回収工程では、原料溶液に酸化剤として硝酸、次亜塩素酸化合物、過酸化水素、塩素の何れか一つを少なくとも用いる。
回収工程操作中、適宜酸化剤の添加を行うことでＯＲＰを５００ｍＶ以上に維持する。ＯＲＰを５００ｍＶ以上にすることで、液中のほとんどのイリジウムイオンの価数は４価に調整されるが、このことにより、この後の水酸化処理においてイリジウムのほぼ全量が回収可能であることを保証される。
塩基として水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの何れか一つを少なくとも添加するこする。
この際、液ｐＨを７以上に上げる。ｐＨが７より低いとイリジウムの一部が水酸化物を形成せず、イリジウム回収率が低下する。
好ましくは、ｐＨを９から１３である。
反応終了後、徐冷し、ろ過により水酸化イリジウムを得る。
また加熱温度は、７０℃以上である。好ましくは、７０℃から１００℃である。水酸化処理反応時の液温が７０℃より低いと液中に存在するイリジウムイオンの全量に関して水酸化処理反応が充分に進まず、また、水酸化処理反応終了後のろ過回収におけるイリジウム水酸化物が微細となり、回収が困難、または、回収率が低下する。
保持時間は、１時間以上が望ましい。イリジウム水酸化処理反応が１時間以下であるとイリジウムの全量が水酸化処理反応を終えていない可能性があり、回収率が低下する。
上記の処理により、液中のイリジウムはほぼ全量が水酸化イリジウムを形成し、沈殿】
（リパルプ洗浄工程）
本発明のリパルプ洗浄工程は、水酸化イリジウムに付随する不純物、特に前工程で塩基として添加したアルカリ金属イオンを除去するために行う。
鋭意研究した結果によれば、リパルプ洗浄工程では、水酸化イリジウム１ｋｇに対して２Ｌ以上、望ましくは１０Ｌ程度の純水を用いてリパルプ洗浄を３０分以上継続することで行う。
終了後フィルタープレス等で固液分離する一連の操作を少なくとも３回以上望ましくは５回繰り返すことで水酸化イリジウムからほぼ完全に不純物、特にアルカリ金属の除去が可能である。
（リパルプ洗浄工程）
本発明のリパルプ洗浄工程は、水酸化イリジウムに付随する不純物、特に前工程で塩基として添加したアルカリ金属イオンを除去するために行う。
鋭意研究した結果によれば、リパルプ洗浄工程では、水酸化イリジウム１ｋｇに対して２Ｌ以上、望ましくは１０Ｌ程度の純水を用いてリパルプ洗浄を３０分以上継続することで行う。
終了後フィルタープレス等で固液分離する一連の操作を少なくとも３回以上望ましくは５回繰り返すことで水酸化イリジウムからほぼ完全に不純物、特にアルカリ金属の除去が可能である。
リパルプ洗浄時の固液比（リパルプ洗浄液（Ｌ）／水酸化イリジウム重量（ｋｇ））が２以下であると充分な洗浄効果が得られず、また、リパルプ洗浄回数が３回未満であるとイリジウム水酸化物に付随するアルカリ金属元素を始めとする不純物は充分に除去することは不可能である。
（焼成還元工程）
本発明の還元工程は、リパルプ洗浄後の水酸化イリジウムを還元雰囲気中で、焼成することでイリジウムを金属イリジウムに変換を行う。
還元雰囲気として、水素気流中において５００℃以上、１０００℃以下であり、望ましくは７５０〜８５０℃で１時間以上、望ましくは３時間程度で熱処理を行うことにより、金属イリジウムを得ることができる。焼成温度が５００℃未満であるとイリジウム酸化物を金属イリジウムに充分に還元することは不可能である。
本発明の還元工程は、リパルプ洗浄後の水酸化イリジウムを還元雰囲気中で、焼成することでイリジウムを金属イリジウムに変換を行う。
還元雰囲気として、水素気流中において５００℃以上、１０００℃以下であり、望ましくは７５０〜８５０℃で１時間以上、望ましくは３時間程度で熱処理を行うことにより、金属イリジウムを得ることができる。焼成温度が５００℃未満であるとイリジウム酸化物を金属イリジウムに充分に還元することは不可能である。
以下に実施例をもって本発明を説明するが、実施例によって限定されるものではない。
出発原料として、イリジウム濃度が１０ｇ／Ｌであるイリジウム塩化物溶液１Ｌを使用した。液ｐＨは３．５であった。
出発原料として、イリジウム濃度が１０ｇ／Ｌであるイリジウム塩化物溶液１Ｌを使用した。液ｐＨは３．５であった。
（水酸化イリジウム生成工程）
原料溶液に５％次亜塩素酸ナトリウム溶液を添加し、ＯＲＰを５００ｍＶ以上に調整した。
なお、反応中は５％次亜塩素酸ナトリウム溶液を適宜添加することでＯＲＰが５００ｍＶ以上になるように調整した。
原料溶液に５％次亜塩素酸ナトリウム溶液を添加し、ＯＲＰを５００ｍＶ以上に調整した。
なお、反応中は５％次亜塩素酸ナトリウム溶液を適宜添加することでＯＲＰが５００ｍＶ以上になるように調整した。
次に８０℃まで加熱した後、水酸化ナトリウム溶液を添加し、ｐＨを８に調整した。
イリジウムイオンが水酸化物を形成するとｐＨが下がるので適宜水酸化ナトリウム溶液を添加し、ｐＨが８になるように維持した。
反応を３時間で終了させ、徐冷した。徐冷後、ろ過を行い、水酸化イリジウムを得た。ろ液のイリジウム濃度を測定したところ５ｍｇ／Ｌ未満であることが確認できた。
イリジウムイオンが水酸化物を形成するとｐＨが下がるので適宜水酸化ナトリウム溶液を添加し、ｐＨが８になるように維持した。
反応を３時間で終了させ、徐冷した。徐冷後、ろ過を行い、水酸化イリジウムを得た。ろ液のイリジウム濃度を測定したところ５ｍｇ／Ｌ未満であることが確認できた。
（リパルプ洗浄工程）
得られた水酸化イリジウム３０ｇを純水３００ｍＬに添加し、１時間撹拌した。撹拌後、ろ過を行った。この操作を５回繰り返した。また、各リパルプ洗浄後に発生する洗浄后液中のイリジウム濃度を測定したところ１０ｍｇ／Ｌ未満であることが確認できた。
得られた水酸化イリジウム３０ｇを純水３００ｍＬに添加し、１時間撹拌した。撹拌後、ろ過を行った。この操作を５回繰り返した。また、各リパルプ洗浄後に発生する洗浄后液中のイリジウム濃度を測定したところ１０ｍｇ／Ｌ未満であることが確認できた。
（還元工程）
洗浄処理を行った水酸化イリジウムをセラミックボートに積載し管状炉内に設置した。その後、水素ガスを流しながら、８５０℃で３時間の熱処理を行った。得られた金属イリジウムのＧＤＭＳ分析結果を表１に示す。 ９９．９８０９ｍａｓｓ％の高純度の金属イリジウムが得られた。
洗浄処理を行った水酸化イリジウムをセラミックボートに積載し管状炉内に設置した。その後、水素ガスを流しながら、８５０℃で３時間の熱処理を行った。得られた金属イリジウムのＧＤＭＳ分析結果を表１に示す。 ９９．９８０９ｍａｓｓ％の高純度の金属イリジウムが得られた。
Claims (8)
- イリジウムの塩化物溶液から金属イリジウムを回収する方法において、該溶液を加熱して酸化剤を添加することでイリジウムイオンの価数を４価に調整した後、さらに塩基を加え、前記液中のイリジウムを水酸化物として沈殿させる回収工程、
該沈殿物をろ過した後、純水によるリパルプ洗浄を数回行い付随するアルカリ金属イオンを洗浄除去する洗浄工程、
該沈殿物を還元性ガス雰囲気中で還元焼成することにより、金属イリジウムを得る還元工程
からなることを特徴とするイリジウムの焼成還元方法。 - 請求項１に記載の回収工程において、
イリジウムの塩化物溶液に加える酸化剤は硝酸、次亜塩素酸化合物、過酸化水素、塩素の何れか一つを含むこと
を特徴とするイリジウムの焼成還元方法。 - 請求項１に記載の回収工程において、
イリジウムの塩化物溶液に加える塩基は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの何れか一つを含むこと
を特徴とするイリジウムの焼成還元方法。 - 請求項１に記載の回収工程において、
原料溶液に塩基を加え、液ｐＨを７以上に上げること
を特徴とするイリジウムの焼成還元方法。 - 請求項１に記載の回収工程において、
塩基を加えた原料溶液の加熱処理が７０℃から１００℃であり、処理時間が１時間以上であること
を特徴とするイリジウムの焼成還元方法。 - 請求項１に記載の洗浄工程において、
水酸化イリジウムの純水によるリパルプ洗浄を少なくとも３回以上行うこと
を特徴とするイリジウムの焼成還元方法。 - 請求項１に記載の還元工程において、
還元性雰囲気中、５００℃以上１０００℃以下
１時間以上加熱処理を行うことにより金属イリジウムを得ること
を特徴とするイリジウムの焼成還元方法。 - 請求項７に記載の還元工程において、
還元性雰囲気は水素であること
を特徴とするイリジウムの焼成還元方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010172911A JP5344313B2 (ja) | 2010-07-14 | 2010-07-14 | イリジウムの焼成還元方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010172911A JP5344313B2 (ja) | 2010-07-14 | 2010-07-14 | イリジウムの焼成還元方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012021222A JP2012021222A (ja) | 2012-02-02 |
| JP5344313B2 true JP5344313B2 (ja) | 2013-11-20 |
Family
ID=45775705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010172911A Active JP5344313B2 (ja) | 2010-07-14 | 2010-07-14 | イリジウムの焼成還元方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5344313B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5623956B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2014-11-12 | Jx日鉱日石金属株式会社 | イリジウムの塩化物溶液からの金属イリジウムの製造方法 |
| JP6907791B2 (ja) * | 2017-08-07 | 2021-07-21 | 住友金属鉱山株式会社 | イリジウムの回収方法 |
| JP7183694B2 (ja) * | 2018-10-25 | 2022-12-06 | 住友金属鉱山株式会社 | ルテニウムの回収方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3975901B2 (ja) * | 2002-12-09 | 2007-09-12 | 住友金属鉱山株式会社 | イリジウムの分離精製方法 |
| JP4116490B2 (ja) * | 2003-05-07 | 2008-07-09 | 日鉱金属株式会社 | 高純度の白金族の回収方法 |
| JP3741117B2 (ja) * | 2003-09-26 | 2006-02-01 | 住友金属鉱山株式会社 | 白金族元素の相互分離方法 |
| JP5154486B2 (ja) * | 2009-03-26 | 2013-02-27 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 白金族元素の回収方法 |
-
2010
- 2010-07-14 JP JP2010172911A patent/JP5344313B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012021222A (ja) | 2012-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2019146619A1 (ja) | 高純度酸化スカンジウムの製造方法 | |
| JP4268196B2 (ja) | スコロダイトの製造方法 | |
| JP6439530B2 (ja) | スカンジウムの回収方法 | |
| JP6703077B2 (ja) | リチウム回収方法 | |
| JP5146017B2 (ja) | 鉛アノードスライムの塩素浸出方法 | |
| JP4079018B2 (ja) | コバルト水溶液の精製方法 | |
| JP5344313B2 (ja) | イリジウムの焼成還元方法 | |
| JP2012036498A (ja) | イリジウムの製造方法 | |
| JP6233478B2 (ja) | ビスマスの精製方法 | |
| JP2008013388A (ja) | 塩化ニッケル水溶液の精製方法 | |
| JP6358299B2 (ja) | 高純度酸化スカンジウムの製造方法 | |
| TW201638343A (zh) | 脫銅黏泥（ｓｌｉｍｅ）所含之有價金屬的浸出方法 | |
| JP2008274382A (ja) | 塩化コバルト水溶液から鉛の分離方法 | |
| JP6816410B2 (ja) | スカンジウムの回収方法 | |
| WO2018138917A1 (ja) | ビスマスの精製方法 | |
| JP2012237030A (ja) | 塩化ニッケル溶液からのマンガンの分離方法 | |
| JP5154486B2 (ja) | 白金族元素の回収方法 | |
| JP5423592B2 (ja) | 低塩素硫酸ニッケル／コバルト溶液の製造方法 | |
| JP2011132562A (ja) | Ｃｏ化合物の回収方法 | |
| JP5673471B2 (ja) | 塩化ニッケル水溶液中の銅イオン除去方法及び電気ニッケルの製造方法 | |
| JP2010222612A (ja) | ルテニウムの精製回収方法 | |
| JP5447824B2 (ja) | 亜硝酸ロジウム錯イオン溶液の精製方法と、そのアンモニウム塩の製造方法。 | |
| JP2009097024A (ja) | ロジウムの精製方法 | |
| JP2013204137A (ja) | ルテニウムの回収方法 | |
| JP6708065B2 (ja) | テルルの分離回収方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100819 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110331 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130702 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130726 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20130726 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130801 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130728 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5344313 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |