JP5338939B2 - フタロシアニンナノサイズ構造物、及び該ナノサイズ構造物を用いた電子素子 - Google Patents
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Description
一方、ウエットプロセスを想定した電子素子へより好適に展開するためには、該一次元結晶性構造物は、短径が500nm以下の一次元結晶性構造物(以下、ナノサイズ一次元構造物と表記する)であることが好ましい。
無置換フタロシアニン及び置換基を有するフタロシアニンを含有するナノサイズ構造物であって、
構造物の形状が、長径と短径を有し、その短径が500nm以下であり、
無置換フタロシアニンが、一般式(1)又は(2)で表されるものであり、
置換基を有するフタロシアニンが、一般式(3)又は(4)で表されるものであるフタロシアニンナノサイズ構造物。
フタロシアニン骨格のベンゼン環にある各水素原子はフッ素、塩素、臭素で置換されていても良く、Z1〜Z8は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜30の非環状炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数1〜30の環状炭化水素基、置換基を有してもよいへテロアリール基であり、a、b、c、及びdは各々独立に0〜4の整数を表すが少なくとも1つは0ではなく、Z1〜Z8が一般式(5)、又は(6)である場合、及び共に水素原子である場合を除く。
を提供するものである。
以下、本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物について説明する。
本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物は、長径(長軸)と短径(短軸)を有する一次元性(ワイヤー状、ファイバー状、糸状、針状、ロッド状等の線状)構造物であって、その短径は500nm以下、さらに好ましくは300nm以下、最も好ましくは100nm以下であり、無置換フタロシアニンと置換基を有するフタロシアニン(フタロシアニン誘導体)を構造物構成材料として含むものである。なお、長径については、(長径/短径)>1であれば(長径/短径が1より大きければ)、特に制限は無い。又、無置換フタロシアニンと置換基を有するフタロシアニンの混合比は、置換基を有するフタロシアニンの無置換フタロシアニンに対する混合比([置換基を有するフタロシアニンの質量×100]/[無置換フタロシアニンの質量])が1〜200質量%の範囲が好ましく、さらに好ましくは1〜120質量%である(後記)。
フタロシアニン骨格のベンゼン環にある各水素原子はフッ素、塩素、臭素で置換されていても良く、Z1〜Z8は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜30の非環状炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数1〜30の環状炭化水素基、置換基を有してもよいへテロアリール基であり、a、b、c、及びdは各々独立に0〜4の整数を表すが少なくとも1つは0ではなく、Z1〜Z8が一般式(5)、又は(6)である場合、及び共に水素原子である場合を除く。
−SO2NH−CH2CH3
−SO2NH−CH2CH2CH3
−SO2NH−CH(CH3)2
−SO2NH−CH2CH2CH2CH3
−SO2NH−CH(CH3)(CH2CH3)
−SO2NH−CH2−CH(CH3)2
−SO2NH−C(CH3)3
−SO2NH−(CH2)4CH3
−SO2NH−(CH2)5CH3
−SO2NH−(CH2)7CH3
−SO2NH−(CH2)11CH3
−SO2NH−(CH2)17CH3
−SO2NH−(CH2)21CH3
−SO2NH−Cy
(Cyはシクロヘキシル基を表す。)
−SO2NH−Ph
−SO2NH−Th
(Thはチエニル基を表す。)
−SO2N(CH3)2
−SO2N(CH2CH2CH3)2
本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物の製造方法は、例えば、WO2010/122921号公報、特開2009−280531号公報、WO2011/065133号公報に記載の方法を用いることが出来る。また、これらの公報に記載されている方法で得られたナノサイズ構造物の、長径/短径比(アスペクト比)を調整し、ナノサイズ構造物のアスペクト比を下げる方法も、本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物の製造方法に用いることができる。以下に具体例を示す。
(a)前記無置換フタロシアニンと前記置換基を有するフタロシアニンとを良溶媒に溶解させた後に、貧溶媒に析出させて複合体を得る工程(a)と、
(b)前記複合体を微粒子化して、微粒子化複合体を得る工程(b)と、
(c)前記微粒子化複合体を有機溶媒中にて一次元結晶成長(一方向に結晶成長)させ、ナノサイズの一次元構造物(ナノワイヤー又はナノロッド)化する工程(c)と
を有するものである。
一般にフタロシアニン類は硫酸などの酸溶媒に可溶であることが知られており、本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物の製造方法においても、まず前記無置換フタロシアニンと前記置換基を有するフタロシアニン(スルファモイル基置換フタロシアニン)とを硫酸、クロロ硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の酸溶媒に溶解させる。その後に水などの貧溶媒に投入して該無置換フタロシアニンと該置換基を有するフタロシアニンの複合体を析出させる。
本工程(a)で得られた無置換フタロシアニンと置換基を有するフタロシアニンの複合体は、透過型電子顕微鏡による観察結果から、結晶粒界がなく等方性形状の構造物であることが確認された。
工程(b)は、前記工程(a)を経て得られた複合体を微粒子化することができれば、その方法は特に限定されるものではない。複合体の微粒子化方法には乾式法と湿式法(分散溶媒中で微粒子化を行なう方法)があるが、工程(c)において溶媒中で微粒子化複合体を一方向に結晶成長させ一次元ナノサイズ構造物化を行なうことを考慮すると、湿式法で前記複合体を微粒子化することが好ましい。
工程(c)は、前記工程(b)を経て得られた微粒子化複合体を、一方向に結晶成長(一次元結晶成長)させることでナノサイズ一次元構造物化する工程である。ナノサイズ一次元構造物化の程度は、得られるナノサイズ一次元構造物の形状が、幅(短径)が500nm以下であることが好ましく、より好ましくは300nm以下であり、最も好ましくは100nm以下である。
ナノサイズ一次元構造物化の方法は、該微粒子化複合体をナノサイズ一次元構造物化することができれば、その方法は特に限定されるものではないが、該微粒子化複合体を有機溶媒中(液相中)でナノサイズ一次元構造物化する方法を挙げることができる。具体的には、該微粒子化複合体を、有機溶媒中(液相中)にて、攪拌又は静置することで、該複合体をナノサイズ一次元構造物化せしめることが出来る。なお、攪拌又は静置に際しては、所定の温度下に制御された状態で行なうことが、ナノサイズ一次元構造物の形状を制御するという観点で好ましい。
アミド系溶媒として、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
芳香族系有機溶媒として、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
ハロゲン系有機溶媒として、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、
グリコールエステル系溶媒として、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
グリコールエーテル系溶媒として、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを最も好適な有機溶媒として挙げることができる。前記有機溶媒は単独で用いることもできるが、任意の比率で混合して使用することもでき、さらには他の有機溶媒と併用して用いることもできる。
該複合体をナノサイズ一次元構造物化する場合の攪拌又は静置時の温度は、5〜300℃の範囲が好ましく、さらに好ましくは20〜250℃である。温度が5℃以上であれば、十分にフタロシアニン類の結晶成長を誘発することができ、目的とする一次元結晶成長により、一次元構造物への成長が可能であり、又、250℃以下であれば生成した一次元構造物の凝集、融着がほとんど見られず、又、短径(幅)方向に結晶成長して粗大(等方性構造物)化することもない。
本発明のインキ組成物は、本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物と有機溶媒とを必須成分として含有する。これらのインキ組成物は、ウエットプロセス(印刷又は塗布)により電子素子の活性部(半導体層)を形成する前駆体材料として好適なものである。
本発明のインキ組成物は、前記フタロシアニンナノサイズ一次元構造物を、有機溶媒に分散させることにより製造される。又は、前記工程(c)で得られたフタロシアニンナノサイズ一次元構造物の分散液を本発明のインキ組成物として用いることもできる。
アミド系溶媒として、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
芳香族系有機溶媒として、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
ハロゲン系有機溶媒として、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、
グリコールエステル系溶媒として、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
グリコールエーテル系溶媒として、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを最も好適な分散用有機溶媒として挙げることができる。
次に、本発明の電子素子について説明する。本発明の電子素子は、本発明のフタロシアニンナノサイズ一次元構造物を、活性層部(半導体層)に含有する電子素子である。電子素子の具体例として、太陽電池や受光素子などの光電変換素子、電界効果型トランジスタや静電誘導型トランジスタやバイポーラトランジスタ等のトランジスタ、電界発光素子、温度センサー、ガスセンサー、湿度センサー、放射線センサーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
次に、本発明の光電変換素子について説明する。本発明の光電変換素子は、少なくとも一対の電極、すなわち正極と負極を有し、これら電極間に本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物を含む。図1は本発明の光電変換素子の一例を示す模式図である。図1において符号1は基板、符号2は電極a、符号3は本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物を含む光電変換層(有機半導体層)、符号4は電極bである。
これらバッファー層は、単層であってもよく、又、異なる材料を積層したものであってもよい。
又、隣接する本発明による光電変換素子の電極a同士を接触させ、且つ、隣接する本発明による光電変換素子の電極b同士を接触させることにより、本発明による光電変換素子を並列接続させて集積化させたことを特徴とする太陽電池モジュールであってもよい。
次に、本発明のトランジスタについて説明する。本発明のトランジスタは、活性部(トランジスタではチャネル部(半導体層)言う)に本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物を含有するトランジスタである。
このようなトランジスタとしては、基板上に本発明によるフタロシアニンナノサイズ構造物を含む膜とこれに連結するソース電極とドレイン電極を形成し、その上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成したトップゲート型を挙げることができる。
銅フタロシアニンスルホン酸(DIC(株)製EXT−795 平均スルホン化度=0.95)50質量部とDMF1,000質量部の混合溶液を5℃に冷却後、塩化チオニル50質量部を滴下し、室温で1時間、70℃で5時間反応した。反応液を氷水5,000質量部に注ぎ、得られた沈殿物を回収、乾燥して銅フタロシアニンスルホン酸と銅フタロシアニンスルホニルクロリドの混合物を得た。
合成例1において、メチルモノアミン40%水溶液23質量部の替わりにn−プロピルモノアミン(東京化成(株)製)17.5質量部を使用した以外は合成例1と同様の操作を行い、下記[化12]で表される化合物を得た。
合成例1において、メチルモノアミン40%水溶液23質量部の替わりにヘキシルモノアミン(東京化成(株)製)30質量部を使用した以外は合成例1と同様の操作を行い、下記[化13]で表される化合物を得た。
合成例1において、メチルモノアミン40%水溶液23質量部の替わりにドデシルモノアミン(東京化成(株)製)55質量部を使用した以外は合成例1と同様の操作を行い、下記[化14]で表される化合物を得た。
合成例1において、メチルモノアミン40%水溶液23質量部の替わりにステアリルモノアミン(東京化成(株)製)80質量部を使用した以外は合成例1と同様の操作を行い、下記[化15]で表される化合物を得た。
合成例1において、メチルモノアミン40%水溶液23質量部の替わりにシクロヘキシルモノアミン(東京化成(株)製)29.4質量部を使用した以外は合成例1と同様の操作を行い、下記[化16]で表される化合物を得た。
合成例1において、メチルモノアミン40%水溶液23質量部の替わりにフェニルモノアミン(東京化成(株)製)27.6質量部を使用した以外は合成例1と同様の操作を行い、下記[化17]で表される化合物を得た。
合成例1において、メチルモノアミン40%水溶液23質量部の替わりに3−チエニルモノアミン29.4質量部を使用した以外は合成例1と同様の操作を行い、下記[化18]で表される化合物を得た。
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
無置換フタロシアニンとして銅フタロシアニン(Fastogen Blue 5380E(商品名、DIC製))1.6gと、置換基を有するフタロシアニンとして合成例1で得られた[化11]で表されるフタロシアニン誘導体1.2gを濃硫酸(関東化学製)81gに投入して完全に溶解させ、濃硫酸溶液を調製した。続いて、蒸留水730gを1000mLのビーカーに投入し、これを氷水で十分冷却した後、該蒸留水を撹拌しながら、先に調製した濃硫酸溶液を投入し、無置換銅フタロシアニンと[化11]で表される銅フタロシアニン誘導体とからなる複合体を析出させた。
続いて得られた該複合体を、濾紙を用いてろ過し、蒸留水を用いて十分に洗浄し、その後、真空乾燥気で脱水処理をした。
n型のシリコン基板を用意してこれをゲート電極とし、この表面層を熱酸化処理して酸化シリコンからなるゲート絶縁膜を形成した。ここに、前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(1)をスピンコートし、フタロシアニンナノサイズ構造物よりなる半導体膜(チャネル部)を形成した。次に、蒸着成膜によって、金薄膜からなるソース・ドレイン電極をパターン形成し、トランジスタ(1)を製造した。なお、チャネル長L(ソース電極−ドレイン電極間隔)を75μm、チャネル幅Wを5.0mmとした。
前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(1)150mgとPCBM(フロンティアカーボン製)45mgとオルトジクロロベンゼン200mgをサンプル瓶の中に投入し、超音波洗浄機(47kHz)中で30分間超音波照射することにより光電変換素子用材料(1)を得た。
(ここで、JVmaxは、印加電圧が0Vから開放端電圧値の間で電流密度と印加電圧の積が最大となる点における電流密度と印加電圧の積の値である。)
PCE=[(Jsc×Voc×FF)/擬似太陽光強度(100mW/cm2)]×100(%)
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
置換基を有するフタロシアニンとして合成例(2)で得たスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(2)を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(2)を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(2)を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
置換基を有するフタロシアニンとして合成例(3)で得たスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(3)を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(3)を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(3)を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
置換基を有するフタロシアニンとして合成例(4)で得たスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(4)を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(4)を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(4)を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
置換基を有するフタロシアニンとして合成例(5)で得たスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(5)を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(5)を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(5)を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
置換基を有するフタロシアニンとして合成例(6)で得たスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(6)を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(6)を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(6)を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
置換基を有するフタロシアニンとして合成例(7)で得たスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(7)を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(7)を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(7)を得た。特性の評価結果を表1にまとめた
<フタロシアニンナノサイズ構造物とフタロシアニンナノサイズ構造物分散液の製造>
置換基を有するフタロシアニンとして合成例(8)で得たスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(8)を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(8)を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(8)を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
WO2010/122921号公報に記載の方法で[化19]のスルファモイル基置換フタロシアニンを合成した。
置換基を有するフタロシアニンとして[化19]で表せられるスルファモイル基置換フタロシアニンを用いる以外は実施例(1)と同様にして、フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(1)’を得た。
<トランジスタの製造とトランジスタ特性(移動度)の評価>
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(1)’を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(1)’を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
フタロシアニンナノサイズ構造物分散液に前記フタロシアニンナノサイズ構造物分散液(2)’を用いる以外は実施例(1)としてトランジスタ(2)’を得た。特性の評価結果を表1にまとめた。
2 電極a
3 光電変換層
4 電極b
5 本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物を含有する層(電極aが正極の場合)、又は電子受容性材料を含有する層(電極aが負極の場合)
6 電子受容性材料を含有する層(電極bが負極の場合)、又は本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物を含有する層(電極bが正極の場合)
7 基板
8 ゲート電極
9 ゲート絶縁膜
10 ソース電極
11 ドレイン電極
12 本発明のフタロシアニンナノサイズ構造物を含有する半導体層
Claims (9)
- 無置換フタロシアニン及び置換基を有するフタロシアニンを含有するナノサイズ構造物であって、
構造物の形状が、長径と短径を有し、その短径が500nm以下であり、
無置換フタロシアニンが、一般式(1)又は(2)で表されるものであり、
(但し、式中、Xは、銅原子、亜鉛原子、コバルト原子、ニッケル原子、錫原子、鉛原子、マグネシウム原子、鉄原子、パラジウム原子、カルシウム原子、GeO、TiO、VO及びAlClからなる群から選ばれる何れかである。)
置換基を有するフタロシアニンが、一般式(3)又は(4)で表されるものであるフタロシアニンナノサイズ構造物。
フタロシアニン骨格のベンゼン環にある各水素原子はフッ素、塩素、臭素で置換されていても良く、Z1〜Z8は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜30の非環状炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数1〜30の環状炭化水素基、置換基を有してもよいへテロアリール基であり、a、b、c、及びdは各々独立に0〜4の整数を表すが少なくとも1つは0ではなく、Z1〜Z8が一般式(5)、又は(6)である場合、及び共に水素原子である場合を除く。
- 炭素数1〜22の非環状若しくは環状アルキル基が、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、1−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−ドコシル基、シクロヘキシル基である請求項2に記載のナノサイズ構造物。
- 請求項1〜3の何れかに記載のフタロシアニンナノサイズ構造物と有機溶媒とを必須成分とするインキ組成物。
- 請求項1〜3の何れかに記載のフタロシアニンナノサイズ構造物を含有する電子素子。
- 請求項1〜3の何れかに記載のフタロシアニンナノサイズ構造物をチャネル部に含有するトランジスタ。
- 請求項6に記載のトランジスタの製造方法において、
請求項4に記載のインキ組成物を製膜することによりチャネル部を作製することを特徴とするトランジスタの製造方法。 - 少なくとも正極と負極を有する光電変換素子であって、
正極と負極の間に請求項1〜3の何れかに記載のフタロシアニンナノサイズ構造物を含む膜を有することを特徴とする光電変換素子。 - 請求項8に記載の光電変換素子の製造方法において、
正極と負極の間に請求項4に記載のインキ組成物を製膜する工程を有することを特徴とする光電変換素子の製造方法。
Priority Applications (7)
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