JP5332442B2 - 半導体装置の製造方法及び半導体装置 - Google Patents
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−CH2−結合が環状にSiの2つの結合手を接続し、残り2つのSiの結合手に官能基R1,R2がそれぞれ結合され、官能基R1、R2は酸素を含まず2重結合を含む、原料を用いて、半導体基板上方に、酸素を含まない第1のSiC膜を成膜し、前記第1のSiC膜上に第1絶縁膜を成膜して、前記第1のSiC膜及び前記第1絶縁膜を含む層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜に銅配線を埋め込み、
前記銅配線を覆って、前記層間絶縁膜上に、前記第1のSiC膜と同じ原料を用いて第2のSiC膜を成膜する、
半導体装置の製造方法であって、
前記第1及び第2のSiC膜の成膜が、初期にNH 3 またはN 2 によりNを添加する半導体装置の製造方法
が提供される。
シリコン基板と、
シリコン基板上方に形成され、環状構造を有し、酸素を含まない第1のSiC膜と第1絶縁膜を含む層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に埋め込まれた銅配線と、
前記銅配線を覆い、前記層間絶縁膜上に形成され、環状構造を有し、酸素を含まない第2のSiC膜と、
を有し、
前記第1及び第2のSiC膜の下地との界面部分はNが添加されている半導体装置
が提供される。
本例として、酸素を含まないSiC膜(k=3.4)を作成した。
−CH2−結合が環状にSiの2つの結合手を接続し、残り2つのSiの結合手に官能基R1,R2がそれぞれ結合され、官能基R1、R2は酸素を含まず2重結合を含む、原料を用いて、半導体基板上方に、酸素を含まない第1のSiC膜を成膜し、前記第1のSiC膜上に第1絶縁膜を成膜して、前記第1のSiC膜及び前記第1絶縁膜を含む層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜に銅配線を埋め込み、
前記銅配線を覆って、前記層間絶縁膜上に、前記第1のSiC膜と同じ原料を用いて第2のSiC膜を成膜する、
半導体装置の製造方法。
前記主層間絶縁膜が多孔質SiOC膜である付記1記載の半導体装置の製造方法。
前記原料がDVScPである付記1または2記載の半導体装置の製造方法。
前記SiC膜の成膜が、初期にNH3またはN2によりNを添加したSiC:N膜を成膜する付記1〜3のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
前記Nを添加したSiC:N膜の厚さが、SiC:N膜とSiC膜の層厚さの10%以下である付記4記載の半導体装置の製造方法。
前記SiC膜の成膜を開始する前に、NH3またはN2によるプラズマを励起し、下地表面を前処理する付記4または5記載の半導体装置の製造方法。
前記NH3またはN2によるプラズマを励起する前に、不活性ガスを導入し、不活性ガスのプラズマを励起して下地表面を前処理する付記6記載の半導体装置の製造方法。
前記SiC膜の成膜が、10MHz以上のRF主励起源と1MHz未満のHFバイアス源を用い、バイアス源の供給する電力が15mW/cm2以上である付記1〜7のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
前記主層間絶縁膜を形成する工程が、多孔質SiOC膜を成膜し、その後デンスSiOC膜を成膜する付記1〜8のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
前記銅配線を埋め込む工程が、前記デンスSiOC膜上のメタル層をCMPで除去し、さらにデンスSiOC膜をCMPで除去する付記9記載の半導体装置の製造方法。
シリコン基板と、
シリコン基板上方に形成され、環状構造を有し、酸素を含まない第1のSiC膜と第1絶縁膜を含む層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に埋め込まれた銅配線と、
前記銅配線を覆い、前記層間絶縁膜上に形成され、環状構造を有し、酸素を含まない第2のSiC膜と、
を有する半導体装置。
11 絶縁性銅拡散防止膜(SiC:N/SiC)、
12 多孔質SiOC膜、
13 デンスSiOC膜、
16 バリアメタル層、
17 銅(配線)層、
18 絶縁性銅拡散防止膜(SiC:N/SiC)、
51 真空チャンバ、
52 サセプタ、
53 シリコン基板、
54 シャワーヘッド、
55 マスフローコントローラ、
56 DVScP容器、
57 温度調整器、
58 RF電源、
59 HF電源、
Claims (6)
- −CH2−結合が環状にSiの2つの結合手を接続し、残り2つのSiの結合手に官能基R1,R2がそれぞれ結合され、官能基R1、R2は酸素を含まず2重結合を含む、原料を用いて、半導体基板上方に、酸素を含まない第1のSiC膜を成膜し、前記第1のSiC膜上に第1絶縁膜を成膜して、前記第1のSiC膜及び前記第1絶縁膜を含む層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜に銅配線を埋め込み、
前記銅配線を覆って、前記層間絶縁膜上に、前記第1のSiC膜と同じ原料を用いて第2のSiC膜を成膜する、
半導体装置の製造方法であって、
前記第1及び第2のSiC膜の成膜が、初期にNH 3 またはN 2 によりNを添加する半導体装置の製造方法。 - 前記第1絶縁膜が多孔質SiOC膜である、請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記原料がDVScPである請求項1または2記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1及び第2のSiC膜の成膜が、10MHz以上のRF主励起源と1MHz未満のHFバイアス源を用い、バイアス源の供給する電力が15mW/cm2以上である請求項1〜3のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
- シリコン基板と、
シリコン基板上方に形成され、環状構造を有し、酸素を含まない第1のSiC膜と第1絶縁膜を含む層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に埋め込まれた銅配線と、
前記銅配線を覆い、前記層間絶縁膜上に形成され、環状構造を有し、酸素を含まない第2のSiC膜と、
を有し、
前記第1及び第2のSiC膜の下地との界面部分はNが添加されている半導体装置。 - −CH 2 −結合が環状にSiの2つの結合手を接続し、残り2つのSiの結合手に官能基R1,R2がそれぞれ結合され、官能基R1、R2は酸素を含まず2重結合を含む、SiC原料とNH 3 またはN 2 を用いて、半導体基板上方に、初期に酸素を含まないSiC:N膜を成膜し、その後NH 3 またはN 2 の供給を止めて酸素を含まないSiC膜を成膜することにより、前記SiC:N膜及び前記SiC膜を含む第1の銅拡散防止膜を形成し、
前記第1の銅拡散防止膜の上に第1絶縁膜を形成し、
前記第1絶縁膜内に銅配線を形成し、
前記第1絶縁膜上に、前記銅配線を覆うように、前記第1の銅拡散防止膜と同じ原料を用いて、前記SiC:N膜及び前記SiC膜を含む第2の銅拡散防止膜を形成する、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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