JP5324453B2 - 可視の波長領域についてのキャビティー内の周波数変換された固体レーザー - Google Patents
可視の波長領域についてのキャビティー内の周波数変換された固体レーザー Download PDFInfo
- Publication number
- JP5324453B2 JP5324453B2 JP2009533996A JP2009533996A JP5324453B2 JP 5324453 B2 JP5324453 B2 JP 5324453B2 JP 2009533996 A JP2009533996 A JP 2009533996A JP 2009533996 A JP2009533996 A JP 2009533996A JP 5324453 B2 JP5324453 B2 JP 5324453B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- solid
- cavity
- gain medium
- gan
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 31
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 30
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- -1 rare earth ions Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 6
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 4
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005371 ZBLAN Substances 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000005811 Viola adunca Nutrition 0.000 description 1
- 240000009038 Viola odorata Species 0.000 description 1
- 235000013487 Viola odorata Nutrition 0.000 description 1
- 235000002254 Viola papilionacea Nutrition 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/0627—Construction or shape of active medium the resonator being monolithic, e.g. microlaser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/108—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
- H01S3/109—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1605—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth terbium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1628—Solid materials characterised by a semiconducting matrix
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/164—Solid materials characterised by a crystal matrix garnet
- H01S3/1643—YAG
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/17—Solid materials amorphous, e.g. glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/04—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
- H01S5/041—Optical pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/0604—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium comprising a non-linear region, e.g. generating harmonics of the laser frequency
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/1003—Waveguide having a modified shape along the axis, e.g. branched, curved, tapered, voids
- H01S5/1014—Tapered waveguide, e.g. spotsize converter
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/14—External cavity lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/32—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
- H01S5/323—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/32308—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm
- H01S5/32341—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm blue laser based on GaN or GaP
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
本発明は、延長されたレーザーキャビティーを備えた半導体レーザー、特にGaNレーザー、を含むキャビティー内の周波数で変換された固体レーザーに関係する。
緑色の波長領域における集積化されたレーザー源の欠如は、今までに、表示又は照明の用途のためのレーザーの広範な使用を妨げてきたものである。現今では、緑色の波長領域のための使用されたレーザー源は、赤外のレーザー源のアップコンバージョンによるか又は第二高調波発生(SHG)によるかいずれかの周波数変換に頼る。
本発明の目的は、高度に集積された様式で製造することができるところの可視の波長領域において放出する固体レーザーを提供するというものである。
提案されたキャビティー内の周波数変換された固体レーザーは、請求項によって定義されたような保護の範囲を限定することなく、付随する図との関連で一例として後に続くものにおいて記載される。図は、
図1 キャビティー内の周波数変換された固体レーザーの基本的なレイアウトの例;及び
図2 キャビティー内の周波数変換された固体レーザーのさらなる例の上面図
:を示す。
提案された固体レーザーの基本的なレイアウトの例は、図1にスケッチされたものである。固体レーザーは、GaNに基づいたレーザーダイオード1を含むが、それの一つの末端の表面は、GaNに基づいたレーザーダイオード1の波長のための、即ち、ポンプ放射のための、反射防止コーティング6を有する。GaNに基づいたレーザーダイオード1のキャビティーは、延長されたポンプレーザーキャビティー2を形成するところの末端のミラー5及び7を含む。これらのミラー5及び7は、ポンプ放射のための高い反射率のミラーである。レーザーダイオード1からの放射は、いくつかの光学部品9によってコリメートされると共にダウンコンバージョンする媒体3のブロックへと集束させられるが、それは、ポンプ放射の一部を吸収すると共に可視の波長領域に向かって周波数を変換する。このダウンコンバージョンする媒体3は、希土類がドープされた固体の材料、例えばTb:GaN、Pr:GaN、Pr:ZBLAN、又はTb:YAG、である。
[付記]
付記(1):
キャビティー内の周波数変換された固体レーザーであって、
− 延長されたレーザーキャビティーを備えた半導体レーザー、及び
− 前記延長されたレーザーキャビティーに配置された第二のレーザーキャビティー、
前記第二のレーザーキャビティーが、前記半導体レーザーの放射を吸収すると共に可視の波長領域におけるより高い波長で放射を放出する利得媒体を含有すること
を含む、固体レーザーにおいて、
前記第二のレーザーキャビティーにおける前記利得媒体は、希土類イオンがドープされた固体のホスト材料で形成されたものである、固体レーザー。
付記(2):
付記(1)に記載の固体レーザーにおいて、
前記半導体レーザーは、GaNレーザーである、固体レーザー。
付記(3):
付記(2)に記載の固体レーザーにおいて、
前記第二の利得媒体のホスト材料は、GaNに基づいた材料である、固体レーザー。
付記(4):
付記(1)、(2)、又は(3)に記載の固体レーザーにおいて、
前記半導体レーザーの利得媒体及び前記第二のレーザーキャビティーの利得媒体は、導波路を形成する、固体レーザー。
付記(5):
付記(4)に記載の固体レーザーにおいて、
前記第二のレーザーキャビティーの利得媒体の導波路は、前記半導体レーザーの利得媒体の導波路と比べてより小さい断面を有すると共に、
両方の導波路は、テーパーが付けられた領域を通じて接続されたものである、
固体レーザー。
付記(6):
付記(1)乃至(5)のいずれか一つに記載の少なくとも三つの固体レーザーを含むRGBの光源であって、
前記三つの固体レーザーは、赤色の、緑色の、及び青色の波長領域において異なる波長で放出するものであると共に共通の基体に製作されたものである、光源。
1 GaNに基づいたレーザーダイオード
2 ポンプレーザーキャビティー
3 変換する材料
4 可視のレーザーキャビティー
5 ポンプレーザーキャビティーの第一の末端のミラー
6 ポンプレーザーの放射のための反射防止性のコーティング
7 ポンプレーザーキャビティーの第二の末端のミラー
8 可視のレーザーキャビティーの末端のミラー
9 光学部品
10 可視の出力
11 テーパーが付けられた領域
Claims (6)
- キャビティー内の周波数変換された固体レーザーであって、
延長されたレーザーキャビティーを備えた半導体レーザー、及び
前記半導体レーザーの放射を吸収する利得媒体を含有すると共に希土類イオンがドープされた固体の状態のホスト材料で形成されたものである第二のレーザーキャビティー
を具備する、固体レーザーにおいて、
上記の第二のレーザーキャビティーは、上記の延長されたレーザーキャビティー内に配置されたものであると共に、
前記第二のレーザーキャビティーにおける上記の利得媒体は、可視の波長の領域におけるより高い波長で放射を放出するものである
ことを特徴とする、固体レーザー。 - 請求項1に従った固体レーザーにおいて、
上記の半導体レーザーは、GaNレーザーである、
固体レーザー。 - 請求項2に従った固体レーザーにおいて、
前記第二の利得媒体のホスト材料は、GaNに基づいた材料である、
固体レーザー。 - 請求項1、2、又は3に従った固体レーザーにおいて、
前記半導体レーザーの利得媒体及び前記第二のレーザーキャビティーの利得媒体は、導波路を形成する、
固体レーザー。 - 請求項4に従った固体レーザーにおいて、
前記第二のレーザーキャビティーの利得媒体の導波路は、前記半導体レーザーの利得媒体の導波路と比べてより小さい断面を有すると共に、
両方の導波路は、テーパーが付けられた領域を通じて接続されたものである、
固体レーザー。 - 請求項1から5までの一つに従った少なくとも三つの固体レーザーを具備するRGBの光源であって、
上記の三つの固体レーザーは、赤色の、緑色の、及び青色の波長の領域において異なる波長で放出するものであると共に共通の基体に製作されたものである、
光源。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06122827.6 | 2006-10-24 | ||
EP06122827 | 2006-10-24 | ||
PCT/IB2007/054186 WO2008050257A2 (en) | 2006-10-24 | 2007-10-15 | Intracavity frequency-converted solid-state laser for the visible wavelength region |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010507919A JP2010507919A (ja) | 2010-03-11 |
JP5324453B2 true JP5324453B2 (ja) | 2013-10-23 |
Family
ID=39199080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009533996A Expired - Fee Related JP5324453B2 (ja) | 2006-10-24 | 2007-10-15 | 可視の波長領域についてのキャビティー内の周波数変換された固体レーザー |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100329298A1 (ja) |
EP (1) | EP2084791A2 (ja) |
JP (1) | JP5324453B2 (ja) |
CN (1) | CN101529673A (ja) |
TW (1) | TW200845520A (ja) |
WO (1) | WO2008050257A2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100149222A1 (en) * | 2008-07-10 | 2010-06-17 | Corporation For Laser Optics Research | Blue laser pumped green light source for displays |
JP2013507792A (ja) * | 2009-10-13 | 2013-03-04 | スコーピオズ テクノロジーズ インコーポレイテッド | チューナブルレーザのハイブリッド集積のための方法及びシステム |
US9431791B1 (en) * | 2014-02-05 | 2016-08-30 | Aurrion, Inc. | Multi-section heterogeneous semiconductor optical amplifier |
US10003173B2 (en) | 2014-04-23 | 2018-06-19 | Skorpios Technologies, Inc. | Widely tunable laser control |
US10587090B1 (en) * | 2015-12-31 | 2020-03-10 | Soraa Laser Diode, Inc. | Safe laser light |
EP4416804A1 (en) * | 2021-10-12 | 2024-08-21 | Signify Holding B.V. | White light source |
US11971577B2 (en) * | 2022-06-13 | 2024-04-30 | Nexus Photonics, Inc | Heterogeneously integrated photonic platform with non-linear frequency conversion element |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5390210A (en) * | 1993-11-22 | 1995-02-14 | Hewlett-Packard Company | Semiconductor laser that generates second harmonic light with attached nonlinear crystal |
US5450429A (en) * | 1994-06-02 | 1995-09-12 | Spectra-Physics Laserplane, Inc. | Efficient linear frequency doubled solid-state laser |
US5513196A (en) * | 1995-02-14 | 1996-04-30 | Deacon Research | Optical source with mode reshaping |
JP4018177B2 (ja) * | 1996-09-06 | 2007-12-05 | 株式会社東芝 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
US6330388B1 (en) * | 1999-01-27 | 2001-12-11 | Northstar Photonics, Inc. | Method and apparatus for waveguide optics and devices |
US6140669A (en) * | 1999-02-20 | 2000-10-31 | Ohio University | Gallium nitride doped with rare earth ions and method and structure for achieving visible light emission |
US6255669B1 (en) * | 1999-04-23 | 2001-07-03 | The University Of Cincinnati | Visible light emitting device formed from wide band gap semiconductor doped with a rare earth element |
US6778582B1 (en) * | 2000-03-06 | 2004-08-17 | Novalux, Inc. | Coupled cavity high power semiconductor laser |
US6944192B2 (en) * | 2001-03-14 | 2005-09-13 | Corning Incorporated | Planar laser |
US6816532B2 (en) * | 2001-05-15 | 2004-11-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Laser-diode-excited laser apparatus, fiber laser apparatus, and fiber laser amplifier in which laser medium doped with one of ho3+, sm3+, eu3+, dy3+, er3+, and tb3+is excited with gan-based compound laser diode |
US7197059B2 (en) * | 2002-05-08 | 2007-03-27 | Melles Griot, Inc. | Short wavelength diode-pumped solid-state laser |
US7345812B2 (en) * | 2003-02-21 | 2008-03-18 | University Of Kansas | Method and apparatus for use of III-nitride wide bandgap semiconductors in optical communications |
US7039075B2 (en) * | 2003-04-11 | 2006-05-02 | Thornton Robert L | Fiber extended, semiconductor laser |
WO2006015193A2 (en) * | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Novalux, Inc. | Apparatus, system, and method for wavelength conversion of mode-locked extended cavity surface emitting semiconductor lasers |
CN101185210B (zh) * | 2005-05-31 | 2010-10-06 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 具有减小的斑点的宽带激光灯 |
-
2007
- 2007-10-15 EP EP07826743A patent/EP2084791A2/en not_active Withdrawn
- 2007-10-15 WO PCT/IB2007/054186 patent/WO2008050257A2/en active Application Filing
- 2007-10-15 US US12/446,472 patent/US20100329298A1/en not_active Abandoned
- 2007-10-15 JP JP2009533996A patent/JP5324453B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-10-15 CN CNA2007800397230A patent/CN101529673A/zh active Pending
- 2007-10-19 TW TW096139371A patent/TW200845520A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101529673A (zh) | 2009-09-09 |
WO2008050257A2 (en) | 2008-05-02 |
US20100329298A1 (en) | 2010-12-30 |
JP2010507919A (ja) | 2010-03-11 |
TW200845520A (en) | 2008-11-16 |
EP2084791A2 (en) | 2009-08-05 |
WO2008050257A3 (en) | 2008-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5324453B2 (ja) | 可視の波長領域についてのキャビティー内の周波数変換された固体レーザー | |
TWI446012B (zh) | 具降低斑點之寬頻雷射燈 | |
US20100272145A1 (en) | Vecsel-pumped solid-state laser | |
JPH09107143A (ja) | 青色アップコンバージョン・レーザ | |
US20050100073A1 (en) | Cladding-pumped quasi 3-level fiber laser/amplifier | |
Jeong et al. | Ytterbium-doped large-core fibre laser with 272W of output power | |
US20080273570A1 (en) | Optically Pumped Waveguide Laser With a Tapered Waveguide Section | |
JP2007157764A (ja) | 蛍光ファイバを用いた多波長レーザ光源 | |
US20100118903A1 (en) | Solid state laser device with reduced temperature dependence | |
TWI423545B (zh) | 腔內上轉換雷射 | |
JP2010507920A (ja) | 共添加された利得媒質を備えた光励起ソリッド・ステート・レーザ | |
US20100316073A1 (en) | Optically pumped solid-state laser with co-doped gain medium | |
JP2001203412A (ja) | アップコンバージョンレーザ装置 | |
JP2989454B2 (ja) | 希土類イオン添加短波長レーザ光源装置 | |
JPH1065237A (ja) | 固体レーザ装置 | |
JP2834757B2 (ja) | 発光素子およびその製造方法 | |
Laurand et al. | Power-scaling of diamond microlensed microchip semiconductor disk lasers | |
JP2005026475A (ja) | 光ファイバレーザ | |
JPH1065259A (ja) | 固体レーザ装置 | |
JP2005277018A (ja) | ファイバレーザ装置及び青色レーザ装置 | |
JP2000353838A (ja) | 誘導放出光発生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101012 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120731 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121029 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130131 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130625 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130718 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |