JP2010507920A - 共添加された利得媒質を備えた光励起ソリッド・ステート・レーザ - Google Patents
共添加された利得媒質を備えた光励起ソリッド・ステート・レーザ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010507920A JP2010507920A JP2009533997A JP2009533997A JP2010507920A JP 2010507920 A JP2010507920 A JP 2010507920A JP 2009533997 A JP2009533997 A JP 2009533997A JP 2009533997 A JP2009533997 A JP 2009533997A JP 2010507920 A JP2010507920 A JP 2010507920A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ions
- laser
- solid state
- state laser
- rare earth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1605—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth terbium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/1631—Solid materials characterised by a crystal matrix aluminate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/1631—Solid materials characterised by a crystal matrix aluminate
- H01S3/1638—YAlO3 (YALO or YAP, Yttrium Aluminium Perovskite)
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/1655—Solid materials characterised by a crystal matrix silicate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/1668—Solid materials characterised by a crystal matrix scandate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1691—Solid materials characterised by additives / sensitisers / promoters as further dopants
- H01S3/1698—Solid materials characterised by additives / sensitisers / promoters as further dopants rare earth
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/32—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
- H01S5/323—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/32308—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm
- H01S5/32341—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm blue laser based on GaN or GaP
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
本発明は、Ce3+−イオン、及び更なる希土類材料のイオンが共添加されたソリッドステート母材の利得媒質(6)を含むソリッド・ステート・レーザに関する。母材は、更なる希土類材料のイオンの上位発振状態よりもCe3+−イオンの5dバンドの下縁がエネルギ的に高いように選択される。前述のレーザは、400nm乃至450nmの波長域においてGaNレーザ・ダイオード(4)によって光励起され得、可視波長域においてレーザ放射を発光する。特に前述のレーザにより、緑色波長域において発光するGaNダイオード・レーザ励起ソリッド・ステート・レーザを実現することが可能である。
Description
本発明は、希土類イオンで添加されたソリッドステート母材の利得媒質を備えたソリッド・ステート・レーザに関する。
レーザは、現在、プロジェクション・システム用の光源としてUHPランプ(UHP:超高性能)を置き換える好適な候補である。赤色レーザ・ダイオード及び青色レーザ・ダイオードは入手可能であるが、緑色波長域における集積レーザ光源はないことにより、今まで、ディスプレイ又は照明のアプリケーションのためにレーザを広範にわたって使用することが妨げられている。
現在使用されている、緑色波長域のレーザ光源は、赤外レーザ光源の第2高調波発生(SHG)によるか、又は、アップコンバージョンによる周波数変換に依存する。
赤外波長域からのアップコンバージョンの代替策には、周知の色素レーザの場合のような青色レーザ光源の周波数変換がある。青紫色域のGaNベースのレーザ・ダイオードの最近の開発により、この手法は、全てのソリッドステート・デバイスにとって魅力的になっている。
米国特許6,816,532B2号明細書には、利得媒質に希土類イオン(特に、Ho3+−、Sm3+−イオン、Eu3+−イオン、Dy3+−イオン、Er3+−イオン及びTb3+−イオン)が添加されたレーザ・ダイオード励起レーザ装置が開示されている。固体利得媒質は、GaNベースのレーザ・ダイオードによって励起される。開示されたレーザの励起及びレーザ発光には、希土類イオンの4f状態間の遷移が関係する。前述の遷移における吸収は比較的弱いので、デバイスの効率は限定的であり、例えばファイバ・レーザにおけるように相互作用が長いことが必要である。励起源としてのGaNレーザ・ダイオードでTb3+−イオンのレーザ上準位5D4を埋めるために、5D4準位に向けた連続した関係を伴う、5D3準位に向けた488nm又は380nmでの励起が必要である。励起波長488nm及び380nmにおける効率的なGaNレーザ・ダイオードはまだ入手可能でない。
本発明の目的は、GaNレーザ・ダイオードによって効率的に光励起することが可能な、可視波長域において発光するソリッド・ステート・レーザを提供することである。
この目的は、請求項1記載のソリッド・ステート・レーザによって達成される。効果的な実施例は、従属請求項の主題であるか、又は、本発明を実施する実施例を含む以下の説明に記載されている。
本願で提案するソリッド・ステート・レーザは、Ce3+−イオン、及び更なる希土類イオンが共添加されたソリッドステート母材の利得媒質を含む。母材は、更なる希土類材料のイオンの上位発振状態よりもCe3+−イオンの5dバンドの下縁がエネルギ的に高いように選択される。
前述の利得媒質により、本願提案の全ソリッドステートのレーザは、例えば400nm以上450nm以下の波長範囲においてGaNレーザ・ダイオードで効率的に励起することが可能である。利得媒質は、Ce3+−イオンにおける4f−5d遷移を介して励起レーザの放射を吸収する。Ce3+−イオンの5dバンドから、エネルギは、更なる希土類イオンの上位発振状態に移動し、それは次いで、上位発振状態と下位発振状態との間の遷移を介して所望のレーザ放射を放出する。放出レーザの波長は更なる希土類イオンの選択によって影響を受け、更に、ソリッド・ステート・レーザのミラーのスペクトル特性により、影響を受け得る。母材の適切な選択は非常に重要である。この母材が、両方の希土類イオンのエネルギ・レベルに影響を及ぼすからである。
Ce3+−イオン、及び更なる3価希土類イオンの効果的な組合せは、可視波長域における種々の波長で発光するレーザを企図するための、Ce3+−イオンと、Pr3+、Sm3+、Eu3+、Dy3+及びTm3+との組合せである。
好ましい実施例では、本願で提案するソリッド・ステート・レーザは、Ce3+−イオン及びTb3+−イオンが共添加されたソリッドステート母材の利得媒質を含む。この場合、レーザ励起手法には、Ce3+における4f−5d遷移、レーザ発光が行われるTb3+の5D4状態へのCe3+5dバンドからのエネルギ移動が関係する。この手法は、4f−5d遷移の高い吸収を、希土類4f−4fレーザの既知のレーザ特性と組み合わせるので非常に魅力的である。よって、集積度が非常に高く、効率的なレーザ・デバイスが実施可能である。5D4状態が好適に孤立しており、多くの母材において長い寿命を有するので、Tb3+−イオンは、緑色波長域において光励起ソリッド・ステート・レーザを提供することは非常に魅力的である。この5D4準位から、約543nmの緑色発光は非常に顕著である。
好ましくは、Ce3+−イオンのドーパント濃度cCeは0.01%wt乃至5%wtの範囲内である。Tb3+−イオンの濃度cTbは、Ce3+−イオンの濃度cCeに応じて、cTb=k*cCeによって選択され、kは0.5と50との間で変動する。
Ce3+−イオンにおける5fバンド、及び更なる希土類イオンにおける発振状態のエネルギ位置は母材に依存するので、この母材の適切な選択が、所望のレーザ動作を達成するために重要である。少なくとも6eVのエネルギ・ギャップを有する母材を使用した場合、非常に効果的なレーザ動作が観察されている。母材は更に、Ce3+−イオンの5dバンドと、例えば、Tb3+−イオンの5D4状態との間のエネルギ移動を確実にしなければならない。本願で提案するソリッド・ステート・レーザに好適な母材には、Y3_xLuxAl5_yGayO12(x=l、2、3;y=l、2、3、4、5)、Y3−xCaxAl5_xSixO12、Y3−xAl5_xScxO12、M2O3(ここで、M=Sc、Y、Lu、Gd、La)、CaYAlO4、及びM2SiO5(ここで、M=Y、Lu、Gd又はこれらの組合せ)がある。
本願で提案するソリッド・ステート・レーザでは、Ce3+−イオンは、増感剤としてふるまい、4f−5d遷移を介して励起放射の好適な吸収をもたらす一方、更なる希土類イオンは、レーザ活性イオンとしてふるまう。Ce3+−イオンが添加されたソリッドステート母材が、励起状態の吸収が非常に強いためにレーザ動作に適していないということが当該技術分野において知られているが、Ce3+−イオンを更なる3価希土類イオンと共添加することにより、かつ、適切な母材を選択することにより、レーザ動作を効率的に達成することが可能であるということを本発明の発明者は意外にも見出した。更に、Ce3+−イオン及びTb3+−イオンの組合せにより、緑色波長域において発光するようGaNベースのレーザ・ダイオードにより、効率的に励起することが可能な全ソリッド・ステート・レーザが実現される。励起レーザを含む前述の全ソリッドステート・レーザ・システムは、集積度が非常に高いやり方で製造することが可能であり、ディスプレイ又は照明のアプリケーションにおけるプロジェクション・システムの光源として特に適している。
全ソリッド・ステート・レーザの光学的設計は、当該技術分野において知られているように選ぶことが可能である。前述のレーザは、例えば、当該技術分野において知られている他のダイオード励起ソリッド・ステート・レーザと同様に、端面励起ロッドの形態で設定することが可能である。本願提案のレーザは、平面導波路レーザの形態で企図することも可能である。この形態では、共添加材料が、レーザ・ダイオードの発光プロファイルに、その幾何形状において適合された平面導波路の形態になる。この場合、レーザ・ダイオード及び共添加変換媒質は好ましくは、共有冷却構造上に配置される。これにより、デバイスの高集積化が可能になる。Ce3+−イオンの吸収が高いことにより、励起放射の方向に対して垂直の方向にレーザ放射が出てくる横位励起幾何構造も可能になる。
本発明の前述及び他の局面は、実施例を参照すると、明らかであり、明らかにされるであろう。
本願提案のソリッド・ステート・レーザ及びレーザ・システムは、特許請求の範囲記載の保護範囲を制限することなく、添付図面に関して例として以下に説明する。
以下の実施例では、本願提案のレーザの利得媒質にCe3+−イオン及びTb3+イオンが共添加される。Ce−Tbレーザは、GaNベースのレーザ・ダイオードで励起される。図1は、前述のソリッド・ステート・レーザの励起及び発振手法を示す。GaNベースのレーザ・ダイオードの青色励起放射1は、Ce3+−イオンの4f−5d遷移を介して吸収される。図示するように、励起放射1による励起後、エネルギ移動2が、Ce3+−イオンの5dバンドとTb3+−イオンの上位発振状態(5D4状態)との間で生じる。前述のTb3+−イオン5D4状態から、約543nmのレーザ発光3が、Tb3+−イオンのより低い状態への遷移によって始まる。レーザ発光3は前述のレーザ手法では非常に顕著である。
図2は、本願提案のCe−Tbレーザの端面励起幾何構造の例を示す図である。GaNレーザ・ダイオード4が発光する励起放射は、適切な光学系5により、ソリッド・ステート・レーザの第1の共鳴器端面ミラーを介してCe3+−Tb3+共添加利得材料6に集束させる。端面励起に使用される第1の共鳴器端面ミラー7は、緑色波長における放射の場合、反射率が高く、励起放射波長の場合、反射が防止される。一方、第2の共鳴器端面ミラー8は、励起放射波長の場合、反射率が非常に高く、発振動作を達成するために、利得材料6が発光する緑色波長の場合、十分な反射率を有する。一方、前述の第2の共鳴器端面ミラー8は、緑色波長域におけるレーザ発光3の一部分のアウトカプリングを可能にする。
図3は、本願提案のソリッド・ステート・レーザの設計の別の例を示す。この例では、横位励起幾何構造をCe−Tbレーザに使用する。この場合のCe−Tbレーザの利得媒質6は、レーザ動作を維持するために、生成された緑色放射の十分に大きな部分を反射する2つの共鳴器端面ミラー10を有する。何れの共鳴器端面ミラー10もレーザ放射3のアウトカプリング・ミラーとしての役目を担う。利得媒質6は、図3に示すように、利得媒質6の長さ全体にわたる励起放射1の発光を達成するために、隣り合わせのいくつかのGaNレーザ・ダイオードを含むGaNダイオード・レーザ・モジュール9によって横位励起される。
本発明は、図面及び上記明細書において詳細に図示し、説明しているが、前述の図示及び説明は、例証又は例示であり、限定するものでないものとし、本発明は、記載した実施例に限定されるものでない。本明細書及び特許請求の範囲記載の種々の実施例は、組み合わせることも可能である。
本願記載の実施例に対する他の変形は、図面、明細書及び特許請求の範囲の検討から、特許請求の範囲記載の発明を実施するうえで当業者によって理解され、実施され得る。特許請求の範囲では、「comprising」の語は他の構成要素又は工程を排除せず、「a」又は「an」の不定冠詞は複数形を排除しない。単に特定の方策が相互に別々の従属請求項に記載されていることは、前述の方策の組合せを使用して効果を得ることが可能でないことを示すものでない。特許請求の範囲記載の参照符号は、前述の特許請求の範囲記載の範囲を限定するものと解されるべきでない。
参照符号リスト
1 励起放射
2 エネルギ移動
3 レーザ放射
4 GaNレーザ・ダイオード
5 光学系
6 Ce3+−Tb3+共添加利得材料
7 第1の共鳴器端面ミラー
8 第2の共鳴器端面ミラー
9 GaNダイオード・レーザ・モジュール
10 共鳴器ミラー
1 励起放射
2 エネルギ移動
3 レーザ放射
4 GaNレーザ・ダイオード
5 光学系
6 Ce3+−Tb3+共添加利得材料
7 第1の共鳴器端面ミラー
8 第2の共鳴器端面ミラー
9 GaNダイオード・レーザ・モジュール
10 共鳴器ミラー
Claims (8)
- Ce3+−イオン、及び更なる希土類材料のイオンが共添加されたソリッドステート母材の利得媒質を備えるソリッド・ステート・レーザであって、前記母材は、前記更なる希土類材料のイオンの上位発振状態よりも前記Ce3+−イオンの5dバンドの下縁がエネルギ的に高いように選択されるソリッド・ステート・レーザ。
- 請求項1記載のソリッド・ステート・レーザであって、
前記更なる希土類材料のイオンがTb3+−イオンであるソリッド・ステート・レーザ。 - 請求項2記載のソリッド・ステート・レーザであって、
前記母材は、前記Tb3+−のイオンの5D4状態よりも前記Ce3+−イオンの5dバンドの下縁がエネルギ的に高く、前記母材のエネルギ・ギャップ>6eVであるように選択されるソリッド・ステート・レーザ。 - 請求項1又は2に記載のソリッド・ステート・レーザであって、
前記母材は、 Y3−xLuxAl5_yGay012(x=l,2,3;y=l,2,3,4,5)、 Y3−xCaxAl5_xSixO12、Y3−xAl5_xScx012、M2O3(ここで、M=Sc、Y、Lu、Gd、La)、CaYAlO4及びM2SiO5(M=Y、Lu、Gd、又は前述の組合せ)
の材料のうちの1つから選択されるソリッド・ステート・レーザ。 - 請求項4記載のソリッド・ステート・レーザであって、
前記母材は、0.01%wt乃至5%wtの範囲内のCe3+−イオンのドーパント濃度、及び、前記Ce3+−イオンのドーパント濃度の0.5倍乃至50倍の、Tb3+−イオンのドーパント濃度を有するソリッド・ステート・レーザ。 - 請求項1記載のソリッド・ステート・レーザであって、
前記更なる希土類材料のイオンがPr3+−イオン、Sm3+−イオン、Eu3+−イオン、Dy3+−イオン、及びTm3+−イオンから選択されるソリッド・ステート・レーザ。 - 請求項1記載のソリッド・ステート・レーザ、及び前記ソリッド・ステート・レーザの利得媒質を光励起するよう構成された少なくとも1つのGaNレーザ・ダイオードを備えたソリッド・ステート・レーザ・システム。
- 請求項4記載のソリッド・ステート・レーザ、及び前記ソリッド・ステート・レーザの利得媒質を光励起するよう構成された少なくとも1つのGaNレーザ・ダイオードを備えたソリッド・ステート・レーザ・システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06122825 | 2006-10-24 | ||
PCT/IB2007/054188 WO2008050258A2 (en) | 2006-10-24 | 2007-10-15 | Optically pumped solid-state laser with co-doped gain medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010507920A true JP2010507920A (ja) | 2010-03-11 |
Family
ID=39167480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009533997A Withdrawn JP2010507920A (ja) | 2006-10-24 | 2007-10-15 | 共添加された利得媒質を備えた光励起ソリッド・ステート・レーザ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2084792A2 (ja) |
JP (1) | JP2010507920A (ja) |
CN (1) | CN101529672A (ja) |
TW (1) | TW200830652A (ja) |
WO (1) | WO2008050258A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012521650A (ja) * | 2009-03-23 | 2012-09-13 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 光励起型固体レーザ及び前記固体レーザを有する照明システム |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2586109B1 (en) * | 2010-06-22 | 2019-05-29 | Koninklijke Philips N.V. | Laser |
CN102051684A (zh) * | 2011-01-14 | 2011-05-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 铥钬共掺铝酸钇钙激光晶体的生长方法 |
JPWO2014006879A1 (ja) * | 2012-07-02 | 2016-06-02 | 国立大学法人北海道大学 | レーザー媒質、レーザー発振装置およびレーザー発振方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7197059B2 (en) * | 2002-05-08 | 2007-03-27 | Melles Griot, Inc. | Short wavelength diode-pumped solid-state laser |
-
2007
- 2007-10-15 CN CNA2007800396257A patent/CN101529672A/zh active Pending
- 2007-10-15 JP JP2009533997A patent/JP2010507920A/ja not_active Withdrawn
- 2007-10-15 EP EP07826745A patent/EP2084792A2/en not_active Withdrawn
- 2007-10-15 WO PCT/IB2007/054188 patent/WO2008050258A2/en active Application Filing
- 2007-10-19 TW TW96139348A patent/TW200830652A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012521650A (ja) * | 2009-03-23 | 2012-09-13 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 光励起型固体レーザ及び前記固体レーザを有する照明システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008050258A2 (en) | 2008-05-02 |
WO2008050258A3 (en) | 2008-06-19 |
EP2084792A2 (en) | 2009-08-05 |
TW200830652A (en) | 2008-07-16 |
CN101529672A (zh) | 2009-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI446012B (zh) | 具降低斑點之寬頻雷射燈 | |
JP4422720B2 (ja) | アイセーフの固体レーザシステム | |
JP5324453B2 (ja) | 可視の波長領域についてのキャビティー内の周波数変換された固体レーザー | |
US20050100073A1 (en) | Cladding-pumped quasi 3-level fiber laser/amplifier | |
JP2009518842A (ja) | 先細りにされている導波路の区域を有する光励起導波路レーザ | |
US8000363B2 (en) | Solid state laser device with reduced temperature dependence | |
JP2007157764A (ja) | 蛍光ファイバを用いた多波長レーザ光源 | |
JP2010507920A (ja) | 共添加された利得媒質を備えた光励起ソリッド・ステート・レーザ | |
JP2001085793A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
US20090161704A1 (en) | Intracavity upconversion laser | |
US20100316073A1 (en) | Optically pumped solid-state laser with co-doped gain medium | |
WO2023061911A1 (en) | White light source | |
EP2586109B1 (en) | Laser | |
EP1162705A2 (en) | High-power VIS solid-state laser | |
JPH1065237A (ja) | 固体レーザ装置 | |
JP2001223423A (ja) | レーザー装置 | |
Perera et al. | Exploring light-emitting diode pumped luminescent concentrators in solid-state laser applications | |
JP2008147700A (ja) | レーザーダイオード励起固体レーザー | |
JP2002344049A (ja) | レーザーダイオード励起固体レーザー | |
JPH0423479A (ja) | レーザー装置 | |
JP2008113052A (ja) | ファイバーレーザーおよびファイバーアンプ | |
JP2008113052A5 (ja) | ||
JP2002353542A (ja) | レーザーダイオード励起固体レーザー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101012 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20110502 |