JP5323993B2 - 錯化合物およびそれを含有する光記録媒体 - Google Patents
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Description
光学記録媒体の記録層形成用色素として、ヒドラジド化合物のリガンドと遷移金属カチオンからなる錯体(特許文献1)、ヒドラジド化合物と金属原子からなる金属キレート錯体化合物(特許文献2)が知られている。しかし、これらの化合物における耐湿熱性等の特性は十分でない。
[1]式(I)
[2]R1が水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基である[1]に記載の錯化合物。
[3]R2がシアノ基である[1]または[2]に記載の錯化合物。
[4]R3が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基である[1]〜[3]のいずれかに記載の錯化合物。
[5]R4が水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基である[1]〜[4]のいずれかに記載の錯化合物。
[6]R5が式(II)である[1]〜[5]のいずれかに記載の錯化合物。
[7]R5が式(III)である[1]〜[5]のいずれかに記載の錯化合物。
[8]環Aが置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していてもよいテトラゾール環または置換基を有していてもよいベンゾオキサゾール環である[7]に記載の錯化合物。
[9]金属がコバルト、ロジウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウムまたは鉄である[1]〜[8]のいずれかに記載の錯化合物。
[10]金属がコバルトである[1]〜[8]のいずれかに記載の錯化合物。
[11]アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第4級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる1種が、アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオンである[1]〜[10]のいずれかに記載の錯化合物。
[12]アミンが置換基を有していてもよい脂肪族第3アミンである[11]に記載の錯化合物。
[13]アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第4級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる1種が、第4級アンモニウムイオンである[1]〜[10]のいずれかに記載の錯化合物。
[14][1]〜[13]のいずれかに記載の錯化合物を含有する光記録媒体。
アラルキル基としては、例えば、炭素数7〜15のアラルキル基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
アリール基としては、例えば、炭素数6〜14のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基等が挙げられる。
炭素数3〜8のシクロアルカンの具体例としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
炭素数3〜8のシクロアルケンの具体例としては、例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等が挙げられる。
3〜8員の環が縮合した二環または三環性の脂環式炭化水素の具体例としては、例えば、ジヒドロペンタレン、ジヒドロインデン、テトラヒドロナフタレン、ヘキサヒドロフルオレン等が挙げられる。
芳香族複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む5員または6員の単環性芳香族複素環、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む縮環性芳香族複素環等が挙げられ、具体的には、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、シンノリン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、トリアジン環、テトラゾール環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、プリン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、フェナントロリン環等が挙げられる。
脂環式複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む5〜8員の単環性脂環式複素環、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む縮環性脂環式複素環等が挙げられ、具体的には、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ホモピペリジン環、ホモピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロベンゾフラン環、インドリン環、テトラヒドロカルバゾール環、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン環等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基およびアルコキシル基の置換基としては、例えば、同一または異なって1〜5個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアミノ基、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、複素環基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアミノ基、アルコキシル基および複素環基は、それぞれ前記と同義である。アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基およびアルコキシカルボニル基のアルキル部分は、それぞれ前記のアルキル基と同義である。アルコキシアルコキシル基の2つのアルコキシ部分は、それぞれ前記のアルコキシル基と同義である。アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基およびアリールオキシカルボニル基のアリール部分は、それぞれ前記のアリール基と同義である。
アルケニル基の置換基としては、例えば、アルキル基の置換基として前記に挙げた基、置換基を有してもよいアリール基等が挙げられる。ここで、置換基を有してもよいアリール基は、前記と同義である。
環Aがピリミジン環であるときの式(III)で表される基の具体例としては、置換基を有していてもよい2−ピリミジニル基および置換基を有していてもよい4−ピリミジニル基が挙げられる。ここで、2−ピリミジニル基および4−ピリミジニル基の置換基としては、例えば、ピリミジン環の置換基として前記に挙げた基等が挙げられる。
環Aがテトラゾール環であるときの式(III)で表される基の具体例としては、置換基を有していてもよい5−テトラゾリル基が挙げられる。ここで、5−テトラゾリル基の置換基としては、例えば、テトラゾール環の置換基として前記に挙げた基等が挙げられる。
環Aがベンゾオキサゾール環であるときの式(III)で表される基の具体例としては、置換基を有していてもよい2−ベンゾオキサゾリル基が挙げられる。ここで、2−ベンゾオキサゾリル基の置換基としては、例えば、ピリミジン環の置換基として前記に挙げた基等が挙げられる。
R1としては、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアラルキル基がより好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基が更により好ましい。
R2としては、シアノ基が好ましい。
R3としては、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基がより好ましい。
R4としては、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、水素原子がより好ましい。
R5が式(II)であるとき、R6としては、置換基を有していてもよいアリール基が好ましい。
R5が式(III)であるとき、環Aとしては、置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していてもよいテトラゾール環または置換基を有していてもよいベンゾオキサゾール環が好ましく、置換基を有していてもよいテトラゾール環または置換基を有していてもよいベンゾオキサゾール環がより好ましく、さらには、置換基を有していてもよいアリール基を置換基として有するテトラゾール環が好ましい。
化合物(I)としては、上記で示した好ましいR1、R2、R3、R4およびR5の基がそれぞれ組み合わされた化合物が好ましい。
アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第4級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる1種としては、アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、または第4級アンモニウムイオンが好ましく、第4級アンモニウムイオンがより好ましい。
脂肪族第1アミン、脂肪族第2アミンおよび脂肪族第3アミンの置換基としては、例えば、同一または異なって置換数1〜5の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基およびアルコキシカルボニル基は、それぞれ前記と同義である。
脂環式アミンおよび芳香族アミンの置換基のうち、脂環式アミンにおける環および芳香族アミンにおける環の置換基としては、例えば、脂肪族第1アミン、脂肪族第2アミンおよび脂肪族第3アミンの置換基として前記に挙げた基、置換基を有していてもよいアルキル基等が例示される。ここで、置換基を有していてもよいアルキル基は前記と同義である。脂環式アミンおよび芳香族アミンが脂肪族鎖を有するときの該脂肪族鎖の置換基としては、例えば、脂肪族第1アミン、脂肪族第2アミンおよび脂肪族第3アミンの置換基として前記に挙げた基等が例示される。
第4級アンモニウムイオンとしては、例えば、式(X)
式(Y)において、L2は、水素原子であるのが好ましく、L3は、水素原子または2つのL3とそれらが隣接するC=C−C=Cとが一緒になって置換基を有していてもよいベンゼン環を形成することが好ましく、rは、2〜4の整数であるのが好ましい。
式(W)において、L4は、同一または異なって、置換基を有していてもよいアラルキル基であるのが好ましい。
化合物(I)は、例えば、反応式(1)
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、オクタノール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、デカン、テトラデカン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メトキシベンゼン、ジフェニルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等の含硫黄系溶媒、アセトニトリル等が挙げられる。
化合物(IV)のうち、R4が水素原子であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、「Indian Journal of Chemistry, Section B:Organic Chemistry Including Medicinal Chemistry」,1980年,第29B巻,第2号,p.191−193等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
反応後、必要に応じて、化合物(I)を有機合成化学で通常用いられる方法(例えば、各種クロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法等)で精製してもよい。
炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基が挙げられる。
溶媒としては、反応式(1)で使用できる溶媒として挙げたもの等が例示される。
化合物(VI)は、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、「Synthesis」,1999年,第12巻,p.2103−2113等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
反応後、必要に応じて、化合物(Ia)を有機合成化学で通常用いられる方法(例えば、各種クロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法等)で精製してもよい。
化合物(I)とコバルトとアミンの陽イオンとからなる錯化合物は、例えば、化合物(I)と、コバルトの塩または有機コバルト化合物と、アミンとを、溶媒中、酸素の存在下、0〜120℃の温度で、0.5〜30時間反応させることにより製造することができる(以下、この方法を製造法1という)。
コバルトの塩としては、例えば、酢酸コバルト(II)、塩化コバルト(II)、臭化コバルト(II)、ヨウ化コバルト(II)、フッ化コバルト(II)、フッ化コバルト(III)、炭酸コバルト(II)、シアン化コバルト(II)、これらの水和物等が挙げられる。
有機コバルト化合物としては、例えば、トリス(カルボネート)コバルト(III)酸ナトリウム、コバルト(II)アセチルアセトネート水和物、コバルト(III)アセチルアセトネート等が挙げられる。
アミンは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編,「実験化学講座(第20巻) 有機化合物の合成と反応II」,第1版,丸善株式会社,1956年,p.391−582、社団法人日本化学会編,「新実験化学講座(第14巻) 有機化合物の合成と反応III」,第2版,丸善株式会社,1978年,p.1332−1399、社団法人日本化学会編,「新実験化学講座(第20巻) 有機合成II」,第4版,丸善株式会社,1992年,p.299−313、社団法人日本化学会編,「新実験化学講座(第14巻) 有機化合物の合成II」,第5版,丸善株式会社,2005年,p.351−377、Buehler & Pearson編,「Survey of Organic Synthesis(第1巻)」,Wiley-Interscience,1970年,p.411−512、Buehler & Pearson編,「Survey of Organic Synthesis(第2巻)」,Wiley-Interscience,1977年,p.391−459、Saul Patai編,「The Chemistry of the amino group」,John Wiley & Sons,1968年,p.37−69、Barton & Ollis編,「Comprehensive Organic Chemistry The Synthesis and Reactions of Organic Compounds(第2巻)」,Pergamon Press,1979年,p.1−181、Katritzky & Rees編,「Comprehensive Heterocyclic Chemistry」,Pergamon Press,1984年,p.525−528等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
塩基性の窒素原子をm個有するアミンを使用するとき、該アミンの使用量は、コバルトの塩または有機コバルト化合物におけるコバルト原子に対して0.3/m〜20/m倍モル量であるのが好ましい。
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、メチル−tert−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル、これらの混合溶媒等が挙げられる。
反応後、必要に応じて、有機合成化学で通常用いられる方法(例えば、各種カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、溶媒による洗浄等)で得られた錯化合物を精製してもよい。
コバルトの塩または有機コバルト化合物の代わりに、コバルト以外の金属の塩または有機金属化合物であって金属がコバルト以外であるものを用いる以外は、製造法1と同様に操作して、化合物(I)とコバルト以外の金属(例えば、ロジウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウム、鉄等)とアミンの陽イオンとからなる錯化合物を製造することができる(以下、この方法を製造法2という)。
ロジウムの塩としては、例えば、酢酸ロジウム(II)二量体、塩化ロジウム(III)、これらの水和物等が挙げられる。
有機ロジウム化合物としては、例えば、ロジウム(III)アセチルアセトネート、ロジウム(II)ヘキサノネート等が挙げられる。
イリジウムの塩としては、例えば、塩化イリジウム(III)、臭化イリジウム(III)、これらの水和物等が挙げられる。
有機イリジウム化合物としては、例えば、イリジウム(III)アセチルアセトネート等が挙げられる。
アルミニウムの塩としては、例えば、酢酸アルミニウム(III)、塩化アルミニウム(III)、塩化アルミニウム(III)=テトラヒドロフラン錯体、臭化アルミニウム(III)、ヨウ化アルミニウム(III)、水酸化アルミニウム(III)、これらの水和物等が挙げられる。
有機アルミニウム化合物としては、例えば、アルミニウム(III)トリス(アセチルアセトネート)、アルミニウム(III)トリス(エチルアセトアセトネート)、アルミニウム(III)イソプロポキシド、アルミニウム(III)エチルアセトアセトネート=ジイソプロポキシド、アルミニウム(III)イソプロポキシド、アルミニウムsec−ブトキシド、アルミニウムエトキシド等が挙げられる。
ガリウムの塩としては、例えば、塩化ガリウム(III)、臭化ガリウム(III)、ヨウ化ガリウム(III)、これらの水和物等が挙げられる。
有機ガリウム化合物としては、例えば、ガリウム(III)アセチルアセトネート等が挙げられる。
鉄の塩としては、例えば、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、フッ化鉄(II)、フッ化鉄(III)、臭化鉄(II)、臭化鉄(III)、酢酸鉄(II)、これらの水和物等が挙げられる。
有機鉄化合物としては、例えば、鉄(II)アセチルアセトネート、鉄(III)アセチルアセトネート、鉄(III)エトキシド等が挙げられる。
アミンの代わりにアンモニアを用いる以外は、製造法1と同様に操作して、本発明の錯化合物のうち、化合物(I)とコバルトとアンモニウムイオンとからなる錯化合物を製造することができる。
アミンの代わりにアンモニアを用いる以外は、製造法2と同様に操作して、化合物(I)とコバルト以外の金属とアンモニウムイオンとからなる錯化合物を製造することができる。
化合物(I)と金属と第4級アンモニウムイオンとからなる錯化合物は、例えば、化合物(I)と金属とアミンの陽イオンとからなる錯化合物と、対応する第4級アンモニウム塩とを溶媒中、0〜120℃で、0.5〜30時間反応させることにより製造することができる。ここで、化合物(I)と金属とアミンの陽イオンとからなる錯化合物は、製造法1または2に準じて製造することにより得ることができる。
第4級アンモニウム塩における陰イオンとしては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、酢酸イオン等が挙げられる。
第4級アンモニウム塩は、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、Saul Patai編,「The Chemistry of the amino group」,John Wiley & Sons,1968年,p.161−199、Katritzky & Rees編,「Comprehensive Heterocyclic Chemistry」,Pergamon Press,1984年,p.99−164およびp.515−528、「Journal of Materials Chemistry」,2006年,第16巻,p.345−347、「Journal of the American Chemical Society」,2009年,第131巻,p.9931−9933等に記載の方法等に準じて製造することにより得ることができる。
反応後、必要に応じて、有機合成化学で通常用いられる方法(例えば、各種カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、溶媒による洗浄等)で得られた錯化合物を精製してもよい。
表1中、陽イオンは、アミンの陽イオンまたは第4級アンモニウムイオンを表し、モル比は、本発明の錯化合物中における各成分のモル比[化合物(I):金属:陽イオン]を表す。
表1中、A1、A2、およびA3は以下のアミンの陽イオンを表す。式中、Etはエチル基を表し、i−Prはイソプロピル基を表し、Buはブチル基を表す。
本発明の光記録媒体としては、例えば、基板、反射層、記録層、透明保護層およびカバー層を備えているもの等が挙げられ、基板上に、反射層、記録層、透明保護層およびカバー層がこの順に設けられているものが好ましい。本発明の光記録媒体としては、例えば、本発明の錯化合物を含有する記録層を有するもの等が挙げられる。本発明の錯化合物を用いて該記録層を形成するとき、本発明の錯化合物は、単独でまたは2種以上を混合して用いてもよい。
また、記録層は、該記録層の安定性および耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーや記録感度向上剤等を含有してもよい。
一重項酸素クエンチャーとしては、遷移金属キレート化合物(例えば、アセチルアセトネート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等と遷移金属とのキレート化合物等)等が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上を混合して用いてもよい。
記録感度向上剤としては、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものをいい、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトネート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体等の有機金属化合物等が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上を混合して用いてもよい。
記録層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の公知の薄膜形成法で形成することができるが、量産性、コスト面からスピンコート法が好ましい。スピンコート法により記録層を形成する場合、適切な膜厚を得るために、本発明の錯化合物の濃度を0.3〜2.5重量%に調整した溶液を用いることが好ましく、回転数を500〜10000rpmにするのが好ましい。スピンコート法により溶液を塗布した後、加熱、減圧乾燥、溶媒蒸気への曝露等の処理を行ってもよい。
該スタンパーを作製するための原盤は、例えば、以下のようにして作製される。円盤状のガラス基板の表面を平滑になるよう研磨する。その基板上に所望の溝深さに応じて厚さを調整したフォトレジストを塗布する。次いで青紫色レーザー光よりも短い波長のレーザー光または電子ビームを用いてフォトレジストを露光し、現像を行うことにより、案内溝が形成された原盤を作製する。
次いで、この原盤表面にNi等の導電膜を真空製膜し、メッキ工程を経て、案内溝が形成されたNi等の金属からなるスタンパーを作製する。このスタンパーを用いて前記のプラスチックを射出成形することにより、表面上に案内溝が形成された基板を作製する。
該案内溝としては、凹凸の頂点面と底辺面の高低差(溝深さ)が15〜80nmであるのが好ましく、25〜50nmであるのがより好ましい。凸部と凹部の幅の比率としては40%:60%〜60%:40%(凸部:凹部)の範囲であるのが好ましい。
透明保護層の厚さは、5〜50nmであるのが好ましい。保護層の厚さが5nm以上の場合には、記録層に変形を生じさせて形成した記録マークがこの記録マーク間の未記録部分と明確に分離できるためより良好な信号が得られる。また、保護層の厚さが50nm以下の場合には、透明保護層の変形が生じやすいためより良好な信号が得られる。透明保護層はスパッタリング法(例えば、RFスパッタリング法等)等によって記録層の上に形成することができる。透明保護層をスパッタリング法で形成する際に用いるターゲット材としては、例えば、ZnS−SiO2、酸化インジウムスズ(ITO)等が挙げられる。
カバー層の上にハードコートを形成することが好ましい。
レーザー光の具体例としては、例えば、中心波長が405nm、410nm等である青紫色レーザー光、中心波長が515nmである青緑色の高出力半導体レーザー光等が挙げられ、中でも、中心波長が405nmである青紫色の高出力半導体レーザー光が好ましい。
基本発振波長が740〜960nmである連続発振可能な半導体レーザー光、半導体レーザー光によって励起されかつ基本発振波長が740〜960nmである連続発振可能な固体レーザー光等を、第二高調波発生素子(SHG)により波長変換することによって得られる光を用いてもよい。SHGとしては、反射対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、KDP(KH2PO4)、ADP(NH4H2PO4)、BNN(Ba2NaNb5O15)、KN(KNbO3)、LBO(LiB3O5)、化合物半導体等が好ましい。
SHGにより波長変換することによって得られる光(第二高調波)の具体例としては、基本発振波長が860nmである半導体レーザー光を波長変換した430nm光、基本発振波長が860nmである半導体レーザー励起の固体レーザー光を波長変換した430nm光等が挙げられる。
略号の説明を、以下に示す。
TFP:2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール
DMSO:ジメチルスルホキシド
「Journal of the American Chemical Society」,2002年,第124巻,p.9431−9447に記載の方法に準じて、ブチルアミンとシアノ酢酸エチルとアセト酢酸エチルとを反応させることにより1−ブチル−3−シアノ−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジンを得た。1−ブチル−3−シアノ−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジンの製造方法と同様にして、3−シアノ−1−イソブチル−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン、3−シアノ−1−フルフリル−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン、3−シアノ−4−メチル−2,6−ジオキソ−1−(p−トリル)−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン、1−ブチル−3−シアノ−2,6−ジオキソ−4−プロピル−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン、および1−ベンジル−3−シアノ−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジンを得た。3−シアノ−1−エチル−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジンは、市販品(シグマアルドリッチ社製)として入手した。
「Journal of Materials Chemistry」,2006年,第16巻,p.345−347に記載の方法に準じて、1,1’−ビス(2,4−ジニトロフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリドとアニリンとを反応させることにより1,1’−ジフェニル−4,4’−ビピリジニウムジクロリドを得た。1,1’−ジフェニル−4,4’−ビピリジニウムジクロリドの製造方法と同様にして、1,1’−ビス(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリド、1,1’−ビス(3−フルオロフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリド、1,1’−ビス[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−4,4’−ビピリジニウムジクロリド、および1,1’−ビス(4−フルオロフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリドを得た。
合成例1:化合物(I−1)の製造
1−ブチル−3−シアノ−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン1.50g、酢酸1.05g、5−ヒドラジノ−1−フェニル−1H−テトラゾール1.01gおよびエタノール15mlを混合し、70℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却して、反応混合物に水20mlを加え、析出した固体を濾取し、水とエタノールの混合溶媒(体積比1:1)で洗浄後、乾燥することにより化合物(I−1)1.47g(収率65%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.90(3H,t,J=7.3Hz),1.25−1.30(2H,m),1.46−1.51(2H,m),2.35(3H,s),3.83(2H,t,J=7.3Hz),7.56−7.67(5H,m),8.38(1H,s).
3−シアノ−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−1−エチル−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン0.50g、酢酸1.05g、2−ヒドラジノピリミジン0.24gおよびメタノール5mlを混合し、室温で30分間攪拌した。析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−2)0.61g(収率95%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:1.10(3H,t,J=7.1Hz),2.40(3H,s),3.88−3.93(2H,m),6.95(1H,bs),8.36(1H,s),8.54(2H,bs),11.13(1H,bs).
3−シアノ−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−1−エチル−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン0.48g、酢酸3.15g、4−(トリフルオロメチル)ベンゾヒドラジド0.42gおよびメタノール5mlを混合し、室温で30分間攪拌した。析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−3)0.80g(収率99%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:1.09(3H,t,J=7.1Hz),2.43(3H,s),3.88−3.93(2H,m),7.87(2H,d,J=8.3Hz),8.12(2H,d,J=8.3Hz),8.43(1H,s).
3−シアノ−1−イソブチル−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン8.80g、酢酸2.26g、5−ヒドラジノ−1−フェニル−1H−テトラゾール6.61gおよびエタノール90mlを混合し、70℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却して、析出した固体を濾取し、エタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−4)10.18g(収率69%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.83(6H,d,J=6.6Hz),1.96−2.03(1H,m),2.36(3H,s),3.67(2H,d,J=7.3Hz),7.53−7.65(5H,m),8.37(1H,s).
3−シアノ−1−フルフリル−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−4−メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン3.36g、酢酸0.70g、2−ヒドラジノベンゾオキサゾール1.94gおよびメタノール35mlを混合し、50℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却して、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−5)4.41g(収率96%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.45(3H,s),5.09(2H,s),6.23−6.42(2H,m),7.06−7.31(3H,m),7.45−7.61(2H,m),8.41(1H,bs),12.17(1H,bs),13.85(1H,bs).
3−シアノ−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−4−メチル−1−(4−メチルフェニル)−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン4.50g、酢酸1.01g、5−ヒドラジノ−1−フェニル−1H−テトラゾール2.96gおよびメタノール40mlを混合し、50℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却して、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−6)6.09g(収率85%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.35(3H,s),2.41(3H,s),7.05−7.27(4H,m),7.58−7.65(5H,m),8.42(1H,s).
1−ブチル−3−シアノ−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−2,6−ジオキソ−4−プロピル−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン2.50g、酢酸0.57g、5−ヒドラジノ−1−フェニル−1H−テトラゾール1.68gおよびエタノール25mlを混合し、70℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却して、析出した固体を濾取し、エタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−7)3.28g(収率82%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.88−0.98(6H,m),1.23−1.33(2H,m),1.46−1.57(4H,m),2.73(2H,t,J=7.3Hz),3.84(2H,t,J=7.3Hz),7.55−7.69(5H,m),8.45(1H,s).
1−ベンジル−3−シアノ−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン10.00g、酢酸2.24g、5−ヒドラジノ−1−フェニル−1H−テトラゾール6.56gおよびメタノール100mlを混合し、50℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却して、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−8)13.86g(収率87%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.36(3H,s),5.03(2H,s),7.22−7.33(5H,m),7.54−7.65(5H,m),8.40(1H,s).
1−ベンジル−3−シアノ−5−(N,N−ジメチルアミノメチレン)メチル−2,6−ジオキソ−1,2,5,6−テトラヒドロピリジン5.50g、酢酸1.12g、2−ヒドラジノベンゾオキサゾール2.78gおよびメタノール50mlを混合し、50℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却して、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物(I−9)7.38g(収率99%)を得た。
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.46(3H,s),5.10(2H,s),7.05−7.47(9H,m),8.42(1H,s),12.14(1H,bs),13.88(1H,bs).
(実施例1)
合成例1と同様にして得た化合物(I−1)1.50g、ジイソプロピルエチルアミン0.99gおよびエタノール15mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物0.48gを加え、空気雰囲気下、混合物を70℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水10mlを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒(体積比1:2)で洗浄後、乾燥することにより錯化合物(1)1.56g(収率84%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.50−0.52(6H,m),0.74−0.87(4H,m),0.90−1.08(4H,m),1.15−1.29(15H,m),2.65(6H,s),3.07−3.19(2H,m),3.56−3.76(6H,m),7.33−7.41(2H,m),7.55−7.68(4H,m),8.00−8.23(5H,m),9.01(2H,bs).
錯化合物(1)0.30g、1,1’−ビス(3−フルオロフェニル)4,4’−ビピリジニウムジクロリド0.07gおよびエタノール9mlを混合し、70℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、エタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(2)0.29g(収率96%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.46(12H,t,J=7.3Hz),0.79−0.85(8H,m),0.96−1.00(8H,m),2.67(12H,s),3.60−3.73(8H,m),7.34−8.07(26H,m),9.01−9.68(10H,m).
錯化合物(1)0.30g、1,1’−ジフェニル−4,4’−ビピリジニウムジクロリド0.07gおよびエタノール9mlを混合し、70℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、エタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(3)0.29g(収率96%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.45(12H,t,J=7.1Hz),0.77−0.83(8H,m),0.92−1.02(8H,m),2.65(12H,s),3.56−3.72(8H,m),7.33−7.37(4H,m),7.56−8.99(26H,m),9.06−9.20(8H,m),9.71(4H,bs).
FAB−MS[マトリックス:m−ニトロベンジルアルコール]:(+)310,(−)839
錯化合物(1)0.30g、6,7−ジヒドロ−5H−[1,4]ジアゼピノ[1,2,3,4−l,m,n][1,10]フェナントロリンジイウムジブロミド0.06gおよびメタノール9mlを混合し、70℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(4)0.26g(収率93%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.46(12H,t,J=7.3Hz),0.76−0.85(8H,m),0.94−1.01(8H,m),2.67(12H,s),3.19−3.23(2H,m),3.60−3.72(8H,m),5.09(4H,t,J=6.8Hz),7.37(4H,t,J=7.6Hz),7.59(8H,t,J=7.6Hz),8.06(8H,d,J=7.8Hz),8.07−8.69(4H,m),9.01(4H,s),9.53−9.55(2H,m),9.78−9.79(2H,m).
FAB−MS[マトリックス:m−ニトロベンジルアルコール]:(+)222,(−)839
錯化合物(1)0.30g、7,8−ジヒドロ−6H−ジピリド[1,2−a:2’,1’−c][1,4]ジアゼピンジイウムジブロミド0.06gおよびメタノール9mlを混合し、70℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(5)0.24g(収率85%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.46(12H,t,J=7.3Hz),0.75−0.87(8H,m),0.94−1.04(8H,m),2.67(12H,s),2.71−2.79(2H,m),3.58−3.74(8H,m),4.42−4.50(2H,m),5.00−5.03(2H,m),7.37(4H,t,J=7.3Hz),7.59(8H,t,J=7.6Hz),8.06(8H,d,J=7.6Hz),8.48−8.51(4H,m),8.95(2H,t,J=8.1Hz),9.01(4H,s),9.35(2H,d,J=5.6Hz).
FAB−MS[マトリックス:m−ニトロベンジルアルコール]:(+)198,(−)839
化合物(I−2)0.30g、トリエチルアミン0.31gおよびメタノール5mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物0.13gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で1.5時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物にジエチルエーテル20mlを加え、析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(6)0.36g(収率94%)を得た。
吸収極大波長(TFP):385.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.58(6H,t,J=6.8Hz),1.17(9H,t,J=7.3Hz),2.60(6H,s),3.08−3.09(6H,m),3.62−3.70(6H,m),5.93−5.96(2H,m),6.85−6.87(2H,m),7.91−7.95(2H,m),8.83(2H,s).
錯化合物(6)0.30g、1,1’−ビス(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリド0.11gおよびメタノール9mlを混合し、50℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(7)0.31g(収率87%)を得た。
吸収極大波長(TFP):385.5nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.56(12H,t,J=7.1Hz),2.58(12H,s),3.58−3.70(8H,m),5.92−5.95(4H,m),6.84−6.86(4H,m),7.31(2H,d,J=8.5Hz),7.37(2H,t,J=7.3Hz),7.49(4H,t,J=7.3Hz),7.71−7.73(4H,m),7.89−7.93(6H,m),8.10−8.11(2H,m),8.81(4H,s),9.02(4H,d,J=7.1Hz),9.66(4H,d,J=7.1Hz).
化合物(I−3)2.00g、トリエチルアミン1.03gおよびメタノール20mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物0.63gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、反応混合物に水10mlを加え、析出した固体を濾取し、水とメタノールの混合溶媒(体積比1:2)で洗浄後、乾燥することにより錯化合物(8)2.06g(収率86%)を得た。
吸収極大波長(TFP):381.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.47−0.60(6H,m),1.10−1.22(9H,m),2.65−2.80(6H,s),3.01−3.15(6H,m),3.56−3.70(4H,m),7.62−7.73(4H,m),8.01−8.12(4H,m),9.25(2H,s).
錯化合物(8)0.30g、1,1’−ビス(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリド0.09gおよびメタノール9mlを混合し、50℃で1時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(9)0.27g(収率77%)を得た。
吸収極大波長(TFP):385.5nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.55(12H,t,J=6.8Hz),2.73(12H,s),3.57−3.66(8H,m),7.31(2H,d,J=8.5Hz),7.37(2H,t,J=7.6Hz),7.48(4H,t,J=7.6Hz),7.66−7.73(12H,m),7.88−7.90(2H,m),8.04(8H,d,J=8.3Hz),8.10−8.11(2H,m),9.02(4H,d,J=6.8Hz),9.25(4H,s),9.65(4H,d,J=6.8Hz).
錯化合物(8)0.30g、6,7−ジヒドロ−5H−[1,4]ジアゼピノ[1,2,3,4−l,m,n][1,10]フェナントロリンジイウムジブロミド0.06gおよびメタノール9mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(10)0.24g(収率80%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.55(12H,t,J=6.8Hz),2.73(12H,s),3.18−3.22(2H,m),3.36−3.63(8H,m),5.06−5.09(4H,m),7.67(8H,d,J=8.1Hz),8.04(8H,d,J=8.1Hz),8.63−8.67(4H,m),9.25(4H,s),9.53(2H,d,J=8.6Hz),9.77(2H,d,J=4.9Hz).
錯化合物(8)0.30g、7,8−ジヒドロ−6H−ジピリド[1,2−a:2’,1’−c][1,4]ジアゼピンジイウムジブロミド0.06gおよびメタノール9mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(11)0.26g(収率88%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.51−0.59(12H,m),2.71−2.79(14H,m),3.57−3.69(8H,m),4.38−4.41(2H,m),4.93−5.05(2H,m),7.66−7.68(8H,m),8.03−8.05(8H,m),8.44−8.51(4H,m),8.94(2H,s),9.24(4H,s),9.32−9.35(2H,m).
化合物(I−4)10.00g、トリブチルアミン9.45gおよびメタノール80mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物3.17gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(12)12.17g(収率93%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.36−0.47(12H,m),0.89−0.93(9H,m),1.27−1.61(14H,m),2.68(6H,s),2.92−3.12(6H,m),3.48(4H,d,J=6.8Hz),7.35−7.62(6H,m),8.02−8.46(4H,m),8.85(1H,bs),9.02(2H,s).
錯化合物(12)5.00g、1,1’−ジフェニル−4,4’−ビピリジニウムジクロリド1.02gおよびメタノール70mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(13)4.50g(収率93%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.33−0.45(24H,m),1.38−1.45(4H,m),2.66(12H,s),3.46(8H,d,J=7.1Hz),7.34−8.03(30H,m),9.00(4H,s),9.06(4H,d,J=6.4Hz),9.69(4H,d,J=6.4Hz).
錯化合物(12)5.00g、7,8−ジヒドロ−6H−ジピリド[1,2−a:2’,1’−c][1,4]ジアゼピンジイウムジブロミド0.87gおよびメタノール75mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(14)3.92g(収率86%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.35−0.47(24H,m),1.40−1.47(4H,m),2.68(12H,s),2.55−2.82(2H,m),3.48(8H,d,J=6.8Hz),4.42−4.50(2H,m),5.00−5.03(2H,m),7.35−7.62(12H,m),8.02−8.51(12H,m),8.93−9.01(6H,m),9.35−9.36(2H,m).
錯化合物(12)3.00g、2,3,5−トリフェニルテトラゾリウムクロリド1.04gおよびメタノール45mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(15)2.43g(収率69%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.33−0.45(12H,m),1.38−1.45(12H,m),2.66(6H,s),3.46(4H,d,J=7.1Hz),7.34−8.35(25H,m),9.00(2H,s).
錯化合物(12)2.00g、2−[10−(2−イソキノリニウミル)デシル]イソキノリニウムジブロミド0.60gおよびメタノール30mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(16)1.71g(収率84%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.35−0.47(24H,m),1.23−1.29(12H,m),1.40−1.47(4H,m),1.93−2.07(4H,m),2.68(12H,s),3.48(8H,d,J=6.8Hz),4.69(4H,t,J=7.4Hz),7.35−7.61(12H,m),8.01−8.24(10H,m),8.24−8.80(10H,m),9.02(4H,s),10.06(2H,s).
錯化合物(12)2.00g、2−[6−(2−イソキノリニウミル)ヘキシル]イソキノリニウムジブロミド0.54gおよびメタノール30mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(17)1.92g(収率97%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.35−0.46(24H,m),1.38−1.45(8H,m),1.96−2.06(4H,m),2.68(12H,s),3.47(8H,d,J=7.1Hz),4.69(4H,t,J=7.3Hz),7.35−7.61(12H,m),8.01−8.09(10H,m),8.25−8.78(10H,m),9.01(4H,s),10.05(2H,s).
錯化合物(12)1.00g、塩化ベルベリン水和物(東京化成工業社製)0.40gおよびメタノール15mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(18)1.12g(収率98%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.35−0.47(12H,m),1.40−1.47(2H,m),2.68(6H,s),3.19−3.22(2H,m),3.47(4H,d,J=7.1Hz),4.07(3H,s),4.10(3H,s),4.92−4.95(2H,m),6.17(2H,s),7.08(1H,s),7.35−7.61(6H,m),7.79(1H,s),7.97−8.20(6H,m),8.92(1H,s),9.02(2H,s),9.88(1H,s).
錯化合物(12)1.00g、1,1’−ビス[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−4,4’−ビピリジニウムジクロリド0.29gおよびメタノール15mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(19)0.92g(収率84%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.34−0.45(24H,m),1.38−1.45(4H,m),2.66(12H,s),3.46(8H,d,J=6.8Hz),7.34−7.60(12H,m),8.00−8.46(16H,m),9.00(4H,s),9.05−9.20(4H,m),9.69−9.83(4H,m).
錯化合物(12)5.00g、1,1’−ビス(4−フルオロフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリド1.12gおよびメタノール75mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(20)4.22g(収率86%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.34−0.45(24H,m),1.39−1.45(4H,m),2.66(12H,s),3.46(8H,d,J=7.1Hz),7.33−7.37(4H,m),7.56−8.23(24H,m),9.00−9.16(8H,m),9.61−9.75(4H,m).
錯化合物(12)5.00g、1−[4−(1−キノリニウミル)ブチル]キノリニウムジブロミド1.27gおよびメタノール75mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(21)4.78g(収率99%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.33−0.45(24H,m),1.38−1.45(4H,m),2.06−2.15(4H,m),2.66(12H,s),3.46(8H,d,J=6.8Hz),5.05−5.14(4H,m),7.34−7.60(12H,m),8.00−8.64(18H,m),9.00(4H,s),9.26−9.44(4H,m).
錯化合物(12)1.00g、N,N’−ジベンジル−N,N,N’,N’−テトラメチル−1,4−ブタンジアミニウムジブロミド0.25gおよびメタノール15mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(22)0.93g(収率96%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.34−0.45(24H,m),1.39−1.46(4H,m),1.72−1.83(4H,m),2.67(12H,s),2.98(12H,s),3.21−3.31(4H,m),3.46(8H,d,J=7.2Hz),4.51(4H,s),7.34−7.60(22H,m),8.01−8.03(8H,m),9.00(4H,s).
化合物(I−5)1.95g、ジイソプロピルエチルアミン1.29gおよびメタノール15mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物0.62gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(23)1.93g(収率80%)を得た。
吸収極大波長(TFP):392.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:1.20−1.28(15H,m),2.65(6H,s),3.05−3.17(2H,m),3.58−3.64(2H,m),4.72−4.87(4H,m),5.67−5.95(4H,m),6.59−7.09(10H,m),8.15(1H,bs),8.98(2H,s).
錯化合物(23)0.6g、1,1’−ビス(3−フルオロフェニル)−4,4’−ビピリジニウムジクロリド0.14gおよびメタノール6mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(24)0.61g(収率98%)を得た。
吸収極大波長(TFP):392.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.67(12H,s),4.72−4.87(8H,m),5.67−5.95(8H,m),6.59−7.09(20H,m),7.55−8.25(8H,m),8.98(4H,s),9.01−9.28(4H,m),9.63−9.92(4H,m).
化合物(I−6)5.00g、トリブチルアミン4.35gおよびメタノール40mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物1.46gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(25)6.09g(収率95%)を得た。
吸収極大波長(TFP):380.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.89−0.93(9H,m),1.26−1.36(6H,m),1.53−1.61(6H,m),1.92(6H,s),2.61(6H,s),2.95−3.04(6H,m),6.34(2H,bs),6.66(2H,bs),7.00(4H,bs),7.33−7.58(6H,m),7.94−7.96(4H,m),8.61(2H,s),8.85(1H,bs).
錯化合物(25)1.50g、7,8−ジヒドロ−6H−ジピリド[1,2−a:2’,1’−c][1,4]ジアゼピンジイウムジブロミド0.25gおよびメタノール20mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(26)1.32g(収率95%)を得た。
吸収極大波長(TFP):380.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.34(12H,s),2.60(12H,s),2.74−2.77(2H,m),4.40−4.48(2H,m),4.97−5.01(2H,m),6.34(4H,bs),6.66(4H,bs),7.00(8H,bs),7.33−7.58(12H,m),7.93−7.96(8H,m),8.46−8.49(4H,m),8.60(4H,s),8.91−8.95(2H,m),9.33−9.34(2H,m).
化合物(I−7)1.50g、トリブチルアミン1.32gおよびメタノール15mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物0.44gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(27)1.33g(収率69%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.44−1.71(47H,m),2.78−3.12(8H,m),3.59−3.68(4H,m),7.34−7.60(6H,m),8.02−8.04(4H,m),8.98(1H,s).
錯化合物(27)1.00g、6,7−ジヒドロ−5H−[1,4]ジアゼピノ[1,2,3,4−l,m,n][1,10]フェナントロリンジイウムジブロミド0.18gおよびメタノール30mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(28)0.77g(収率83%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.44−0.48(12H,m),0.80−1.12(28H,m),1.61−1.80(8H,m),2.98−3.21(10H,m),3.58−3.69(8H,m),5.08(4H,t,J=6.8Hz),7.34−7.60(12H,m),8.02−8.04(8H,m),8.63−8.67(4H,m),8.98(4H,s),9.52−9.77(4H,m).
化合物(I−8)13.00g、トリブチルアミン11.31gおよびメタノール120mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物3.80gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(29)15.92g(収率96%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:0.89−0.93(9H,m),1.27−1.36(6H,m),1.53−1.61(6H,m),2.66(6H,s),2.93−3.10(6H,m),4.71−4.82(4H,m),6.78−6.84(10H,m),7.37−8.06(10H,m),8.85(1H,bs),8.96(2H,s).
錯化合物(29)2.00g、7,8−ジヒドロ−6H−ジピリド[1,2−a:2’,1’−c][1,4]ジアゼピンジイウムジブロミド0.33gおよびメタノール30mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(30)1.80g(収率98%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.66(12H,s),2.73−2.81(2H,m),4.41−4.49(2H,m),4.71−4.81(8H,m),4.99−5.03(2H,m),6.78−6.85(20H,m),7.36−8.05(20H,m),8.47−9.36(12H,m).
錯化合物(29)1.00g、1,4−ビス(2−フェニルエチル)−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタンジブロミド0.24gおよびメタノール15mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(31)0.95g(収率98%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.65(12H,s),3.06−3.10(4H,m),3.72−3.76(4H,m),3.96(12H,s),4.70−4.80(8H,m),6.77−6.84(20H,m),7.27−8.04(30H,m),8.94(4H,s).
化合物(I−9)2.00g、N,N−ジイソプロピルエチルアミン1.29gおよびメタノール16mlの混合物に酢酸コバルト(II)4水和物0.62gを加え、空気雰囲気下、混合物を50℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(32)2.11g(収率86%)を得た。
吸収極大波長(TFP):379.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:1.21−1.26(15H,m),2.59(6H,s),3.11−3.14(2H,m),3.58−3.63(2H,m),4.63−4.91(4H,m),6.57−7.05(18H,m),8.13(1H,bs),8.91(2H,s).
錯化合物(32)0.60g、7,8−ジヒドロ−6H−ジピリド[1,2−a:2’,1’−c][1,4]ジアゼピンジイウムジブロミド0.12gおよびメタノール9mlを混合し、50℃で3時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥することにより錯化合物(33)0.53g(収率91%)を得た。
吸収極大波長(TFP):392.0nm
1H−NMR(400MHz)δ(DMSO−d6)ppm:2.59(12H,s),2.70−2.82(2H,m),4.40−5.02(12H,m),6.57−7.05(36H,m),8.46−9.35(12H,m).
溶解性試験
20mgの錯化合物(1)〜(33)のそれぞれに980mgのTFPを加え、室温で3分間超音波振動を加えた。20mgの錯化合物(1)〜(33)がTFP 980mgに完全に溶解していることを目視により確認した。
塗膜性試験
20mgの錯化合物(1)〜(33)のそれぞれをTFP 980mgに溶解し、テフロン(登録商標)製フィルター(Whatman社製、孔径0.20μm)で濾過し、錯化合物(1)〜(33)の溶液をそれぞれ得た。基板としてポリカーボネート樹脂製の板(太佑機材社製;直径2インチ、厚さ1mm)を用いて、ミカサ社製1H−SXを用いてスピンコート法(3000rpm、30秒間、溶液の使用量;0.25〜0.30g)にて該溶液を基板上に塗布し、該基板を70℃で30分間オーブン中にて乾燥して、錯化合物の薄膜をそれぞれ得た。得られた錯化合物(1)〜(33)の薄膜にはむらがなく、均質に製膜されていることを目視により確認した。
耐光性試験
基板としてポリカーボネート樹脂製の板の代わりにガラス板(太佑機材社製;2cm×2cm、厚さ2mm)を用いる以外は、塗膜性試験と同様にして、錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)の薄膜をそれぞれ得た。紫外線蛍光燈(スガ試験機社製、SUGA−FS40、ピーク波長313nm、照度分布282〜373nm)を備えたスガ試験機社製デューパネル光コントロールウェザーメーターDPWL−5R型を用いて、該薄膜に15W/m2の光量にて45℃で10時間光照射した。耐光性試験の前後の薄膜において、分光光度計を用いて、紫外可視吸収スペクトルを測定した。耐光性試験前の吸収極大波長における吸光度(Ia 0)に対する耐光性試験後の吸収極大波長における吸光度(Ia)の比(Ia/Ia 0)を表2に示す。ここで、耐光性試験後の吸収極大波長は、耐光性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。比(Ia/Ia 0)が大きいものほど、優れた耐光性を有することを表す。
錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)の薄膜は、それぞれ優れた耐光性を有することがわかる。
耐湿熱性試験
塗膜性試験と同様にして、錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)の薄膜をそれぞれ得た。サタケ化学機械工業社製恒温恒湿槽KHWII−40HPを用いて、該薄膜を温度80℃、相対湿度80%の雰囲気に100時間曝露した。耐湿熱性試験の前後の薄膜において、分光光度計を用いて、紫外可視吸収スペクトルを測定した。耐湿熱性試験前の吸収極大波長における吸光度(Ib)に対する耐湿熱性試験後の吸収極大波長における吸光度(Ib)の比(Ib/Ib 0)、および耐湿熱性試験前後の吸収極大波長の変化[Δλmax(b)]を表3に示す。ここで、耐湿熱性試験後の吸収極大波長は、耐湿熱性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。比(Ib/Ib 0)が1に近いほど、また、Δλmax(b)が小さいほど、優れた耐湿熱性を有することを表す。
錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)の薄膜は、それぞれ優れた耐湿熱性を有することがわかる。
溶液中での保存安定性試験
13mgの錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)のそれぞれを1mlのTFPに溶解し、テフロン(登録商標)製フィルター(Whatman社製、孔径0.20μm)で濾過して、錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)の溶液をそれぞれ得た。得られた溶液のそれぞれを蓋の付いた褐色瓶に移して、25℃で3日間保存した。保存安定性試験前後において、分光光度計を用いて、錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)の溶液を1250倍に希釈したものの紫外可視吸収スペクトルを測定した。保存安定性試験前の吸収極大波長における吸光度(IC 0)に対する保存安定性試験後の吸収極大波長における吸光度(IC)の比(IC/IC 0)、および保存安定性試験前後の吸収極大波長の変化[Δλmax(c)]を表4に示す。ここで、保存安定性試験後の吸収極大波長は、保存安定性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。比(IC/IC 0)が1に近いほど、また、Δλmax(c)が小さいほど、溶液中での優れた保存安定性を有することを表す。
錯化合物(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)は、それぞれ溶液中での優れた保存安定性を有することがわかる。
耐水性試験
塗膜性試験と同様にして、錯化合物(2)、(3)、(13)、(19)、および(20)の薄膜をそれぞれ得た。該薄膜を75℃の水に30分間浸した。耐水性試験の前後の薄膜において、分光光度計を用いて紫外可視吸収スペクトルを測定した。耐水性試験前の吸収極大波長における吸光度(Id 0)に対する耐水性試験後の吸収極大波長における吸光度(Id)の比(Id/Id 0)、および耐水性試験前後の吸収極大波長の変化[Δλmax(d)]を表5に示す。ここで、耐水性試験後の吸収極大波長は、耐水性試験後の吸収スペクトルにおける吸収極大波長を表す。比(Id/Id 0)が1に近いものほど、また、Δλmax(d)が小さいものほど、優れた耐水性を有することを表す。なお、耐水性試験は過酷な条件の試験であり、比(Id/Id 0)が0.5以上であれば、良好な耐水性を有している。
錯化合物(2)、(3)、(13)、(19)、および(20)は、いずれも4級アンモニウムイオンの構造が類似しており、それぞれ優れた耐水性を有することがわかる。
「記録媒体の製造」
基板として、中央に貫通孔を有し、かつ表面にトラックピッチ0.32μmの案内溝を有する外径120mm、厚さ1.1mmのポリカーボネート樹脂製の円盤を用いた。該基板の案内溝が形成された面の上に、スパッタリング法により40〜60nmの厚さのAg合金の反射層を形成した。
20mgの錯化合物(2)を1980mgのTFPに溶解し、テフロン(登録商標)製フィルター(Whatman社製、孔径0.20μm)で濾過して、錯化合物(2)の溶液を得た。該溶液をミカサ社製1H−SXを用いてスピンコート法(1200〜5000rpm、10秒間、溶液の使用量;1ml)により該反射層の上に塗布し、70℃、30分間オーブン中にて該基板を乾燥して、記録層を形成した。次いで、該記録層の上に、ZnS−SiO2(組成比;ZnS/SiO2=80重量%/20重量%)をターゲット材として用いたRFスパッタリング法により、10〜20nmの厚さの透明保護層を形成した。次いで、該透明保護層の上に、リンテック社製カバーフィルム貼付装置(Opteria MODEL300m/ST)を用い、同社製カバーフィルム(D−900)を貼付けることにより、記録媒体(2)を製造した。
錯化合物(2)を用いる代わりに、錯化合物(3)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)を用いる以外は、記録媒体(2)の製造法と同様にして、記録媒体(3)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)をそれぞれ製造した。
記録媒体の記録再生特性評価試験
記録媒体(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)について、記録再生装置(パルステック工業社製、ODU−1000)を用いて、記録用レーザー光の記録パワーが3〜8mWの範囲で、記録パワーにおけるジッタの依存性を測定した[測定条件:波長405nm、開口数NA 0.85、記録速度4.92m/s(1倍速)]。得られた記録パワーにおけるジッタの依存性において、記録パワーが3〜8mWの範囲で最小のジッタをボトムジッタとした。得られたボトムジッタを表6に示す。ボトムジッタが小さいほど優れた記録再生特性を有することを表す。
記録媒体(2)〜(5)、(7)、(9)〜(11)、(13)〜(21)、(24)、(26)、(28)、(30)、(31)、および(33)は、それぞれ優れた記録再生特性を有することがわかる。中でも、記録媒体(2)、(3)、(4)、(5)、(19)、(20)、(21)、(26)、(28)および(31)は、より優れた記録再生特性を有することがわかる。
Claims (14)
- 式(I)
- R1が水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基である請求項1に記載の錯化合物。
- R2がシアノ基である請求項1または2に記載の錯化合物。
- R3が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基である請求項1〜3のいずれかに記載の錯化合物。
- R4が水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基である請求項1〜4のいずれかに記載の錯化合物。
- R5が式(II)である請求項1〜5のいずれかに記載の錯化合物。
- R5が式(III)である請求項1〜5のいずれかに記載の錯化合物。
- 環Aが置換基を有していてもよいピリミジン環、置換基を有していてもよいテトラゾール環または置換基を有していてもよいベンゾオキサゾール環である請求項7に記載の錯化合物。
- 金属がコバルト、ロジウム、イリジウム、アルミニウム、ガリウムまたは鉄である請求項1〜8のいずれかに記載の錯化合物。
- 金属がコバルトである請求項1〜8のいずれかに記載の錯化合物。
- アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第4級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる1種が、アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオンである請求項1〜10のいずれかに記載の錯化合物。
- アミンが置換基を有していてもよい脂肪族第3アミンである請求項11に記載の錯化合物。
- アミンに1つ以上のプロトンが付加することにより生じるイオン、アンモニウムイオンおよび第4級アンモニウムイオンからなる群から選ばれる1種が、第4級アンモニウムイオンである請求項1〜10のいずれかに記載の錯化合物。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の錯化合物を含有する光記録媒体。
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