JP5322012B2 - 導電性ナノワイヤーの製造方法 - Google Patents
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Description
図1中、1は電解セルを、2は銅線を、3は基板差し込み部を、4は電極を、5は基板を表す。本発明の電解装置は、2本の電極(4)と、電解セル(1)とを有する。また、前記2本の電極に印加する電圧を制御するための図示しない電圧制御装置、及び/または前記2本の電極に供給する電流を制御するための図示しない電流制御装置を有していることも望ましい。本発明の電解装置は、電解セルに分子集合体を構成する分子を含む電解液を保持させ、電解液と前記2本の電極とが接触した状態で前記2本の電極に電圧を印加する(または、電流を供給する)ことにより分子集合体を製造する。
本発明の基板は、少なくとも2本の電極をその上に搭載できるものであることが好ましい。基板の材質としては、ガラス基板や、シリコン基板、プラスチック基板などがあげられるが、フォトリソグラフィーや電子線リソグラフィーの基板として適するものであれば特に限定されるものではない。基板の形状としては、直方体が好ましい。基板の長さとしては、0.1mmから10cmが好ましく、1mmから5cmであればより好ましく、1cmから4cmであればさらに好ましく、2cmから3cmであれば特に好ましい。基板は、不純物を含まないように洗浄された後用いられることが好ましい。
本発明における電極としては、基板上に設けられ、対向する2本の電極を含むものが好ましい。図6(a)、図6(b)に示すように、対向する2本の電極の一部は絶縁物に覆われた絶縁部分を有するものが好ましい。絶縁部分としては、図5a、図5bのように電極の面のうち、互いの電極にもっとも近い面以外の面を絶縁部分とするものがあげられ、電極に突起部分を有する場合は、図7(a)、図7(b)のように突起部分以外の部分を絶縁部分とするものが挙げられる。図5(a)、図5(b)中、4は電極を、5は基板を、15は絶縁層を表す。図7(a)、図7(b)中、4は電極を、5は基板を、15は絶縁層を、16はゲート電極を表す。
基板上に設けられる電極の材質としては、金、白金、銅、グラファイトなど導電性の材質のものがあげられ、これらのうちでは、金、または白金がより好ましいが、上記リソグラフィーに適したものであれば特に限定されるものではない。
電極の形状としては、図3(b)のように2つの電極が対向しているものが好ましく、図3(c)のようにそれぞれの電極の途中に存在し、もう一方の電極方向へ向けた凸部である突起部があるものか、又は図3(a)Aのように前記それぞれの電極の先端にあって、もう一方の電極方向へ電極が曲げられてなる突起部を有する電極が好ましい。このような形状であれば、効果的に導電性ナノワイヤーなどの分子集合体を生成できるからである。図3(a)、図3(b)、図3(c)中、4は電極を、11は間隔を、12は突起部を表す。
電極に印加される電圧は、電極と連結した電圧制御装置により制御されることが好ましい。なお、電解セル中に参照電極があり、電極間の電位差を測定することができ、その測定結果に応じて電極に電極に印加する電圧を制御することができることはより好ましい。電圧制御装置とともに、または電圧制御装置に変えて電極に供給する電流を制御する電流制御装置であってもよい。
本発明においては、電極が基板上に形成されることが好ましい。電極を基板上に形成する方法としては、マスク蒸着法、フォトリソグラフィー法、および電子線リソグラフィー法およびこれらの方法を組合せた方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
マスク蒸着法では、電極となるべき形状をくりぬいたマスクを基板にかぶせ、その上から金属膜を蒸着する。その後にマスクを基板から除去する。このようにして電極部分だけに金属膜が蒸着され、微小電極を作成することができる。
本発明の分子集合体の製造方法においては、上記電解装置を用いて行うことが好ましい。分子集合体を製造する際には、分子集合体となる物質(分子集合体を構成する分子)を溶解させた溶液(電解液)を用いることが好ましい。分子集合体となる物質を溶解させた電解液に上記電極を用いて電圧を印加する電解法により分子集合体を製造することが好ましい。本発明においては、電極間が微小であり微小な分子集合体(針状結晶やナノワイヤー)を製造することができる。従来の超高真空中での分子蒸着法や分子ビーム法などでは、ナノワイヤーなどの分子集合体を製造する際に分子間に例えば水素結合などの相互作用を起こす官能基などを導入しなければならなかった。また、得られた分子集合体も閉殻構造をもつ分子の集合体であり、HOMOに2電子が詰まっている結果電荷移動が起こりにくく伝導性・導電性のない分子集合体(絶縁体)しか得られなかった。しかしながら、本発明の電解結晶成長法(電解法)では、閉殻分子のHOMOの一部、あるいは全部から電子が抜き取られ、分子集合体の一部、あるいは全部がSOMOとなった状態を作り出すことができる。本発明では、電界中で針状結晶・ナノワイヤーを成長させることにより、電荷移動相互作用を利用して針状結晶・ナノワイヤーを成長させることができるのである。その結果、本発明では、導電性・伝導性のある針状結晶・ナノワイヤーを得ることができるのである。
本発明の分子集合体の製造方法によって得られる分子集合体としては、針状結晶や導電性ナノワイヤーが挙げられる。本明細書においてナノワイヤーとは、分子が規則的に整列した、幅分子1個分〜1μm、長さ分子2個分以上の線状物質のことを指す。
針状結晶およびナノワイヤーの直径としては、1nmから1μmが挙げられ、1nm〜200nmであればより好ましい。針状結晶の長さとしては、10nm〜100μmがあげられる。本発明の分子集合体としては、長軸lと短軸sの比(l/s)が、1以上であれば好ましく、2以上であればより好ましい。
分子集合体の伝導度としては、要求される導電性ナノワイヤーなどに応じて制御することが好ましいが、一般的には、1S・cm−1以上超伝導体以下のものが好ましく、10S・cm−1以上超伝導体以下であればより好ましく、100S・cm−1以上超伝導体以下であればより好ましく、500S・cm−1以上超伝導体以下であれば特に好ましいが、伝導度は、1×10100S・cm−1以下であっても、1×1010S・cm−1以下でもよく、その用途に応じて好ましい伝導度が選択される。
分子集合体は基板上に成長することが好ましく、電極上、電極周囲に成長することがより好ましく、電極間、とくにギャップ部間に成長することが特に好ましい。電解セルは成長期間中、静置されていることが好ましい。
本発明は、更に間隔が1nm〜100μmである部分を有する電子回路の、当該間隔を、π電子を含む有機伝導体を含む電解液でつなぐ工程と、前記電子回路に電圧を印加し、前記間隔に発生する導電性分子集合体を用いて、前記間隔を連結工程とを含む機能性電子回路の製造方法を提供する。また、導電性分子集合体による連結部分を有する電子回路の製造方法であって、間隔が1nm〜100μmであり、導電性分子集合体により連結される部分を有する電子回路を、π電子を含む有機伝導体を含む電解液と接触させる工程と、前記間隔に発生する導電性分子集合体を用いて、前記間隔を連結する工程と、を含む電子回路の製造方法を提供する。例えば、図8(a)にあるような間隔部を有する電子回路をあらかじめ製造しておき、回路部分をマスクした後、電解液に浸漬し(図8(b))、電子回路に電圧を印加する。すると、間隔部に導電性分子集合体が発生し、間隔をつなぐ(図8(c))。この際発生する分子集合体を制御することで、電子回路に様々な特性を付与することができる。なお、電解液と電子回路とを接触させる際は、前記間隔部以外の部分(特に電子回路の回路部分)は、電解液と直接接触しないようにマスクしておくことが好ましい。図8(a)、図8(b)、図8(c)中、21は電子回路を、22は間隔を、23は直流・交流電源を、25は電解液を、27は分子集合体を表す。
なお、電子回路の間隔部としては、分子1個から10個程度の間隔の場合も本発明は好適に用いることができる。たとえば、1または2分子のみを回路の接続に用い、連結デバイスとすることができる。このようにすることで、例えば単電子トンネル素子や単電子トランジスタのような分子レベルでの機能性素子を製造することができる。
市販されている試薬瓶を用いて図1で表される電解セルを製造した。図2(b)に表されるように、銅線と電極の上部とを金線で結んだ。図2(b)中、2は銅線を、7は金を、8は銀ペーストを表す。電解液保持部は、試薬瓶の導体部分を用い、基板差し込み部は試薬瓶のキャップ部分を改造して用いた。基板差し込み部にはパテを盛った。
試薬瓶の直径は、23mmであった。
電解結晶法に用いる電極をガラス板上に製造した。
25×10mmのガラスを用意し、マスクをガラスに付着させた。その後、マスキングをしたガラス基板に金を蒸着させた。その後、マスクをガラス基板から除去した。このようにして、ガラス基板上に金電極を形成した。それぞれの電極の幅は、2〜5mm、それぞれの電極の長さは、2.0cm〜2.3cm、電極の間隔は20μmであった。
電解結晶法に用いる電極をガラス板上に製造した。
25×10mmのガラスを用意し、ガラス基板上に白金を蒸着した。電極の概形のマスクをOHPシートに印刷した。フォトレジスト剤を白金を蒸着したガラス基板上にスピンコート塗布した。スピンコーターの回転数は、3000rpmで、60秒間回転塗布を行った。110℃で1分間乾燥して塗膜を形成した。フォトレジスト剤を塗布したガラス基板にマスク通して、水銀灯光源のマスクアライナーを用いて露光した。Microposit
Developer MF319(シプレイ・ファーイースト(株)製)を用いて60秒間現像を行った。この際、非露光部分は完全に溶解した。ついで純水を用いて洗浄を行った。このようにして、電極の概形を作成した。
電解液保持部にTPP・[Co(Pc)(CN)2]5mg、アセトニトリル14mlを加え溶解させたところ、溶け残りのある飽和電解液となった。基板差し込み部に電極基板を挿入しパテを用いて電極基板を定位置に固定した。電極の上部と電解セルの銅線の間に金線を渡し、銀ペーストで固定した。基板保持部を電解液保持部と結合させた後、銅線にデジタルマルチメータを接続した。電極に、2.0Vの電圧を掛け、1日間静置した。この際の溶解液の温度は、23℃であった。
電解期間を100分をとした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ10μm〜20μm、幅1μm〜5μmの板状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図10に示す。
電圧を1.0Vとして1日間電圧を印加した後、さらに1.5Vの電圧を1日間印加した以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ6μm〜10μm、幅2μm〜5μmのブロック状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図11に示す。
電解期間を193分とした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ10μm〜50μm、幅500nm〜8μmの柱状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図12に示す。
印加電圧を2.5V、電解期間を193分とした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ10μm〜50μm、幅500nm〜8μmの柱状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図13に示す。
印加電圧を2.5V、電解期間を33分とした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。このようにして得られた分子集合体は、長さ10μm〜50μm、幅100nm〜200nmの針状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図14に示す。
印加電圧を2.5V、電解期間を26分とした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。このようにして得られた分子集合体は、長さ2μm〜10μm、幅200nm〜300nmの湾曲したワイヤー状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図15に示す。
印加電圧を2.5V、電解期間を26分とした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。このようにして得られた分子集合体は、長さ10μm〜30μm、幅100nm〜300nmの針状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図16に示す。
印加電圧を2.5V、電解期間を4分とした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。
基板として、電子線リソグラフィーによって作製したナノ間隔電極を用い(図3a、図4c)、印加電圧を2.5V、電解期間を339分とした以外は実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。このようにして得られた分子集合体は、長さ1μm〜10μm、幅500nm〜3μmのブロック状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図18に示す。
交流電流(振幅3.0V、周波数2.0Hz、方形波)、電解期間を10秒とした以外は、実施例1−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ30μm〜50μm、幅500nm〜1μmの針状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図19に示す。
交流電流(振幅2.5V、周波数0.1Hz、正弦波)、電解期間4分の後、交流電流(振幅5.0V、周波数0.1Hz、正弦波)、電解期間18分とした以外は、実施例3−1と同様にして分子集合体を得た。このようにして得られた分子集合体は、長さ1μm〜3μm、幅200nm〜800nmのブロック状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図20に示す。
交流電流(振幅5.0V、周波数0.5Hz、正弦波)、電解期間20分とした以外は、実施例3−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ500nm〜10μm、幅50nm〜1μmの針状束であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図21に示す。
交流電流(振幅5.0V、周波数0.2Hz、正弦波)、電解期間23分とした以外は、実施例3−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ1μm〜3μm、幅100nm〜500nmの針状束であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図22に示す。
交流電流(振幅5.0V、周波数0.1Hz、方形波)、電解期間5分とした以外は、実施例3−1と同様にして分子集合体を得た。
このようにして得られた分子集合体は、長さ10μm〜20μm、幅1μm〜2μmの針状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図23に示す。
基板差し込み部に電極基板を挿入しパテを用いて電極基板を定位置に固定した。電極の上部と電解セルの銅線の間に金線を渡し、銀ペーストで固定した(図2(b))。パスツールピペットを用いて基板上にTPP・[Co(Pc)(CN)2]のアセトニトリル飽和溶液を1滴、両電極を覆うように載せた。基板保持部を電解液保持部と結合させた後、銅線にデジタルマルチメータを接続した。電極に交流電流(振幅3.0V、周波数2.0Hz、方形波)を流し、10秒間静置した。この際の溶解液の温度は、23℃であった。
このようにして得られた分子集合体は、長さ10μm〜50μm、幅は200nm〜1μmの針状であった。この際得られた、分子集合体のSEM写真を図24に示す。
Claims (1)
- 基板上に設けられた対向する2本の電極と、有機伝導体分子を含む電解液と前記基板とを保持する電解セルと、前記2本の電極により連結され、前記2本の電極に印加する電圧を制御するための電圧制御装置と、を有する電解装置を用いた分子集合体の製造方法であって、
前記2本の電極は、
電子線リソグラフィー法により前記基板上に形成されたものであり、
それぞれの電極の途中に存在し、もう一方の電極方向へ向けた凸部である突起部か、又は前記それぞれの電極の先端にあって、もう一方の電極方向へ電極が曲げられてなる突起部を有し、
前記2本の対向する電極の突起部のうちそれぞれの先端部は、互いに平行に対向するか、またはもう一方の突起部に近接するに従って先細状となっており、
前記有機伝導体分子を含む電解液は、テトラフェニルホスホニウム・ジシアノコバルト(III)フタロシアニンを含む電解液であり、
前記電解液と前記2本の電極とが接触した状態で、電圧を前記2本の電極に印加することにより、前記基板上に前記テトラフェニルホスホニウム・ジシアノコバルト(III)フタロシアニンを構成分子として含み,長さ1μm以上10μm以下,幅500nm以上3μm以下の分子集合体を製造する工程を含み、
前記電極は、電子回路を構成する電極であり、
前記2本の電極の先端部同士の間を前記分子集合体で連結する工程を含み、
これにより2本の電極間を前記テトラフェニルホスホニウム・ジシアノコバルト(III)フタロシアニンを構成分子として含む分子集合体により連結した電子回路を得ることができる、
分子集合体の製造方法。
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