JP5008048B2 - 導電性ナノワイヤーを用いたトランジスタ - Google Patents
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本発明のトランジスタは,基本的にはWO03/076332号公報に開示された方法に従って製造すればよい。本発明においては,たとえば,基板上にソース電極やドレイン電極を形成する。電極を基板上に形成する方法としては,マスク蒸着法,フォトリソグラフィー法,および電子線リソグラフィー法およびこれらの方法を組合せた方法があげられるが,これらに限定されるものではない。
導電性ナノワイヤー(以下,単にナノワイヤーともいう)を製造する方法として,たとえばWO03/076332号公報に開示された電解装置を用いて行うことがあげられる。導電性ナノワイヤーを製造する際には,ナノワイヤーとなる物質(導電性ナノワイヤーを構成する分子など)を溶解させた溶液(電解液)を用いることが好ましい。導電性ナノワイヤーとなる物質を溶解させた電解液に上記電極を用いて電圧を印加する電解法により導電性ナノワイヤーを製造することが好ましい。本発明においては,電極間が微小であり微小な導電性ナノワイヤー(針状結晶や棒状結晶など)を製造することができる。従来の超高真空中での分子蒸着法や分子ビーム法などでは, 導電性ナノワイヤーを製造する際に分子間に例えば水素結合などの相互作用を起こす官能基などを導入しなければならなかった。また,得られたナノワイヤーも閉殻構造をもつ分子の集合体であり,HOMOに2電子が詰まっている結果電荷移動が起こりにくく伝導性・導電性のないナノワイヤー(絶縁体)しか得られなかった。しかしながら,本発明の電解結晶成長法(電解法)では,閉殻分子のHOMOの一部,あるいは全部から電子が抜き取られ,ナノワイヤーの一部,あるいは全部がSOMOとなった状態を作り出すことができる。本発明では,電界中で針状結晶などを成長させることにより,電荷移動相互作用を利用して導電性ナノワイヤーを成長させることができるのである。その結果,本発明では,導電性・伝導性のあるナノワイヤーを得ることができるのである。
置換基群Aは,ハロゲン;ヒドロキシ基;カルボキシル基;シアノ基;ハロゲン,及びヒドロキシ基からなる群を示すか;又は
R1及びR2;又はR3及びR4のいずれか又は両方が,連結して置換基郡Aから選択される置換基を1又は2以上有してもよい飽和又は不飽和の5員環〜8員環を示す。
置換基群Aは,ハロゲン;ヒドロキシ基;カルボキシル基;シアノ基;ハロゲン,及びヒドロキシ基からなる群を示すか;又は
R1, R2及びR3,R4;又はR5, R6及びR7, R8のいずれか又は両方が,連結して置換基郡Aから選択される置換基を1又は2以上有してもよい飽和又は不飽和の5員環〜8員環を示す。
置換基群Aは,ハロゲン;ヒドロキシ基;カルボキシル基;シアノ基;ハロゲン,及びヒドロキシ基からなる群を示す。
導電性ナノワイヤーとしては,針状結晶などの導電性ナノワイヤーがあげられる。本明細書において導電性ナノワイヤーとは,分子が規則的に整列した,幅分子1個分〜1μm,長さ分子2個分以上の針状又は線状物質であって,導電性を有する物質のことを指す。
WO03/076332号公報に開示された電解装置を用いて,電解法に用いる電極を酸化膜付きシリコン基板上に製造した。30×10mmの酸化膜付きシリコン基板を用意し,基板上に白金を蒸着した。フォトレジスト剤S1818(シプレイ・ファーイースト(株)製)を白金を蒸着した基板上にスピンコート塗布した。スピンコーターの回転数は,5000rpmで,90秒間回転塗布を行った。110℃で2分間乾燥して塗膜を形成した。フォトレジスト剤を塗布した基板に電極の形のマスクを通して,水銀灯光源のマスクアライナーを用いて露光した。Microposit Developer MF319(シプレイ・ファーイースト(株)製)を用いて60秒間現像を行った。この際,非露光部分は完全に溶解した。ついで純水を用いて洗浄を行った。その後,ドライエッチング装置(サムコ 株式会社RIE-10NR)を用いてエッチングを行った。その後,剥離液に浸し,マスクを基板から除去した。このようにして,酸化膜付きシリコン基板上に白金電極を形成した。それぞれの電極の幅は,1mm,それぞれの電極の長さは,2.0cm〜2.3cm,電極の間隔は20μmであった。
WO03/076332号公報に開示された電解装置を用いて,電解法に用いる電極を酸化膜付きシリコン基板上に製造した。30×10mmの酸化膜付きシリコン基板を用意し,電子線レジストとしてZEP52A(日本ゼオン(株)製)を,スピンコーターを用いて塗布した。乾燥後,電子線リソグラフィ装置ELS-7700(エリオニクス)で先端部分を露光した。露光後,電子線レジストの現像処理を行った。現像後,スパッタ装置でチタンを5nm蒸着後,金を100nm蒸着した。電子線レジストを剥離後,フォトレジストS1818(シプレイ・ファーイースト(株)製)を塗布,乾燥後,露光,現像し,再度チタンを5nm蒸着後,金を100nm蒸着した。剥離液に浸してフォトレジスト剤を剥離した。このようにして,電極を作成した。
実施例1で製造されたトランジスタについて,その電子特性を測定した。その結果を図7に示す。図7は,実施例1で製造されたトランジスタのトランジスタ特性を示すグラフである。横軸は電圧(Voltage)を示し,縦軸は電流(μA)を示す。図7から,ソース・ドレイン間電圧が-3Vにおいてゲート電圧0Vと5VでのON/OFF比が約80と優れたトランジスタ特性を有することがわかる。
2 ソース電極
3 ドレイン電極
4 導電性ナノワイヤー
5 絶縁層
6 ゲート電極
7 基板
Claims (10)
- ソース電極,ドレイン電極及びゲート電極を具備し,
前記ソース電極及び前記ドレイン電極は,それぞれ対向する突起部を有し,
前記突起部は,先端部に複数のくし状突起部を有するものであって,
前記ソース電極及びドレイン電極の前記複数のくし状突起部が,導電性ナノワイヤーで連結されるトランジスタ。 - 前記ソース電極及びドレイン電極と,ゲート電極との間に,絶縁層を具備する請求項1に記載のトランジスタ。
- 前記ソース電極及びドレイン電極の前記複数のくし状突起部の最も近接した部位の距離が,1nm〜100μmである請求項1に記載のトランジスタ。
- 前記導電性ナノワイヤーの幅が構成分子1個分〜1μmであり,前記導電性ナノワイヤーの長さが1nm〜500μmである請求項1に記載のトランジスタ。
- 前記導電性ナノワイヤーの伝導度が1S・cm−1以上である請求項1に記載のトランジスタ。
- 前記導電性ナノワイヤーが,有機化合物の結晶を含む請求項1に記載のトランジスタ。
- 前記導電性ナノワイヤーが,有機化合物錯体の単結晶,又は有機化合物の単結晶からなる,請求項1に記載のトランジスタ。
- 前記有機化合物の結晶が,テトラチオテトラセン類,dmit錯体類,若しくは,テトラチアフルバレン誘導体,ポルフィリン誘導体,フタロシアニン誘導体,又はこれらの錯体により構成される請求項6に記載のトランジスタ。
- 前記有機化合物の結晶が,Catx[M(Pc)L2]y(Catはカチオン,Mは金属を示し,Lは軸配位子を示し,Pcはフタロシアニンを示し,x,yは0以上の数を示す。)の部分酸化塩結晶である請求項6に記載のトランジスタ。
- 前記Catx[M(Pc)L2]yの部分酸化塩結晶が,テトラフェニルホスホニウム・[Co(Pc)(CN)2]2結晶である請求項9に記載のトランジスタ。
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