JP5321918B2 - 電子顕微鏡用試料作製方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1の実施の形態について、図1〜図5を参照して以下説明する。図1は、針状試料の作製方法を説明する図である。図1(a)〜(e)は、観察したい試料の埋め込まれている基板からTEMトモグラフィー観察用の針状形状の試料を作製する各工程を表す。図1のxyz軸は、作製後の針状試料との関係を説明するために付与したものであり、y軸はTEM内での試料の回転軸と平行な向きで、z軸はTEM内での試料への電子線入射方向と平行な向きである。x軸は、それらに垂直な軸である。
なお、dzとdyは、集束イオンビーム装置の二次イオン像から確認しておく。
2 保護膜(カーボン膜)
3 集束イオンビーム
4 支持部
5 プローブ
6 カーボン膜
7 分離試料
8 試料ステージ
9 カーボン膜
10 マスク
11 観察領域
12 真空部分
31 電極
32 タングステンワイヤー
33 金線
Claims (5)
- 電子顕微鏡用試料の作製方法であって、
試料を集束イオンビームで針状試料に形成加工する際に、前記試料からマスクを、後の前記針状試料への金微粒子の蒸着工程で金微粒子を選択的に遮蔽する位置に、形成加工する形成加工工程と、
前記形成加工工程後、蒸着装置内で、前記マスクにより、金微粒子を付着させる領域と付着させない領域を分離させるよう蒸着する蒸着工程とを備え、
前記金微粒子を付着させない領域が電子顕微鏡の観察領域であることを特徴とする電子顕微鏡用試料作製方法。 - 前記金微粒子を付着させる領域が、針状先端部であることを特徴とする請求項1記載の電子顕微鏡用試料作製方法。
- 請求項1又は2記載の作製方法により作製した電子顕微鏡用試料の電子顕微鏡画像形成方法であって、前記針状試料の針状長手方向に対して垂直に電子線を入射し、針状試料の針状長手方向を回転軸として、透過電子顕微鏡画像の回転像シリーズを撮影し、前記回転像の金微粒子をマーカーとして位置合わせを行い、試料の三次元像を得ることを特徴とする電子顕微鏡画像形成方法。
- 位置合わせのための金微粒子が付着した領域を先端部に有して、金微粒子の付着しない観察領域を中間部に有する針状試料と、マスク部と、前記針状試料と前記マスク部とを繋ぐ台座部とを備える一体構造の透過型の電子顕微鏡用の試料であって、
前記マスク部は、前記観察領域への金微粒子の付着を遮蔽する位置に設けられ、前記針状試料の前記観察領域より針状長手方向高さが低いことを特徴とする電子顕微鏡用試料。 - 前記針状試料の針状長手方向に対して垂直に電子線を入射して、針状試料の針状長手方向を回転軸として、透過電子顕微鏡画像の回転像シリーズを撮影し、前記回転像の金微粒子をマーカーとして位置合わせを行い、試料の三次元像を得ることを特徴とする請求項4記載の電子顕微鏡用試料を用いる電子顕微鏡画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010135634A JP5321918B2 (ja) | 2010-06-15 | 2010-06-15 | 電子顕微鏡用試料作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010135634A JP5321918B2 (ja) | 2010-06-15 | 2010-06-15 | 電子顕微鏡用試料作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012002552A JP2012002552A (ja) | 2012-01-05 |
JP5321918B2 true JP5321918B2 (ja) | 2013-10-23 |
Family
ID=45534729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010135634A Expired - Fee Related JP5321918B2 (ja) | 2010-06-15 | 2010-06-15 | 電子顕微鏡用試料作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5321918B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103308365A (zh) * | 2013-06-27 | 2013-09-18 | 上海华力微电子有限公司 | Tem样品的制备方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5939627B2 (ja) * | 2012-05-11 | 2016-06-22 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 電子顕微鏡用試料、電子顕微鏡画像形成方法及び電子顕微鏡装置 |
CN104155158A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-11-19 | 胜科纳米(苏州)有限公司 | 利用fib切割以实现纳米级样品的三维观测方法 |
CN105628460B (zh) * | 2014-10-30 | 2019-04-26 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 透射电镜样品的形成方法 |
US9627176B2 (en) * | 2015-07-23 | 2017-04-18 | Fei Company | Fiducial formation for TEM/STEM tomography tilt-series acquisition and alignment |
KR101728329B1 (ko) | 2015-11-19 | 2017-05-02 | 현대자동차주식회사 | 터치 입력장치, 이를 포함하는 차량, 및 그 제조방법 |
CN106018022B (zh) * | 2016-05-17 | 2018-09-18 | 上海华力微电子有限公司 | 一种平面tem样品的制备方法 |
CN109839296A (zh) * | 2017-11-28 | 2019-06-04 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种用于原位电学测试的透射电镜样品的制备方法 |
JP7243397B2 (ja) * | 2019-04-03 | 2023-03-22 | 株式会社デンソー | 車両制御装置 |
CN112083022B (zh) * | 2019-06-12 | 2024-05-24 | 苏试宜特(上海)检测技术股份有限公司 | 一种基于平面样品转截面样品的特定微小区域标定方法 |
CN111366428B (zh) * | 2020-03-03 | 2023-06-09 | 上海华力集成电路制造有限公司 | Fib倒切制备tem样品的方法 |
CN113899765A (zh) * | 2021-09-27 | 2022-01-07 | 中国科学院广州地球化学研究所 | 一种基于聚焦离子束加工的电子显微三维重构地质样品制样方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0545265A (ja) * | 1991-08-12 | 1993-02-23 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡の性能評価用試料及びその製作方法 |
JP2774884B2 (ja) * | 1991-08-22 | 1998-07-09 | 株式会社日立製作所 | 試料の分離方法及びこの分離方法で得た分離試料の分析方法 |
JPH06258680A (ja) * | 1993-03-09 | 1994-09-16 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ保持治具 |
JP3677895B2 (ja) * | 1996-10-04 | 2005-08-03 | 株式会社日立製作所 | 3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法 |
JP4922632B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-04-25 | 日本電子株式会社 | イオンビームを用いる断面試料作製方法 |
JP5268324B2 (ja) * | 2007-10-29 | 2013-08-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微装置及び顕微方法 |
JP5309552B2 (ja) * | 2007-12-21 | 2013-10-09 | 富士通株式会社 | 電子線トモグラフィ法及び電子線トモグラフィ装置 |
JP5048596B2 (ja) * | 2008-06-23 | 2012-10-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 |
TWI372859B (en) * | 2008-10-03 | 2012-09-21 | Inotera Memories Inc | Method for manufacturing an electron tomography specimen with fiducial markers and method for constructing 3d image |
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2010
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN103308365A (zh) * | 2013-06-27 | 2013-09-18 | 上海华力微电子有限公司 | Tem样品的制备方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2012002552A (ja) | 2012-01-05 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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