JPH0545265A - 走査電子顕微鏡の性能評価用試料及びその製作方法 - Google Patents

走査電子顕微鏡の性能評価用試料及びその製作方法

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JPH0545265A
JPH0545265A JP22657191A JP22657191A JPH0545265A JP H0545265 A JPH0545265 A JP H0545265A JP 22657191 A JP22657191 A JP 22657191A JP 22657191 A JP22657191 A JP 22657191A JP H0545265 A JPH0545265 A JP H0545265A
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JP
Japan
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specimen
microscope
island
electron microscope
lumps
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP22657191A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Suzuki
俊明 鈴木
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 分解能の測定が簡単に行なえる走査電子顕微
鏡の性能評価用試料およびその製作方法を提供するこ
と。 【構成】 蒸発源5からの金の蒸発粒子の内、被蒸着部
材3の遮蔽部材のエッジQに衝突したものは、被蒸着部
材3の表面(a〜e)に回りこんで吸着する。位置aに
金の蒸発粒子が最も多く飛来し、位置e方向に進むに従
ってその数が減少し、島状塊の成長に差が生じる。この
為、位置aでの島状塊の平均粒径が最も大きくなり、位
置e方向に進むに従ってそれは小さくなる。また、隣り
合う島状塊の間隔は、位置e方向に進むに従って密にな
る。このような島状塊の平均粒径が一定方向に徐々に大
きくなっている試料を電子顕微鏡の試料室にセットし、
電子線を照射する位置を適宜選べば分解能の測定が簡単
にできる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】 本発明は走査電子顕微鏡の性能
評価に使用する試料及びその製作方法に関する。
【0002】
【従来の技術】 走査電子顕微鏡は、細く絞り込まれた
電子線をXとY方向に偏向して試料表面を走査し、各照
射点から放出される信号を検出し、その信号量の違いを
陰極線管上に輝度変調して表示する装置である。
【0003】このような走査電子顕微鏡の分解能の測定
は、次のような標準試料を用いて行なっている。即ち、
基板に例えば金を蒸着させると、基板上に蒸着した金が
各部分で集合して成長し、基板上に無数の島状の塊が形
成される。このような標準試料に加速電圧を高くして細
く絞った電子線を照射して陰極線管上に島状塊の像を表
示し、認識できる隣り合う島状塊の最短距離を測定する
ようにしている。この際、走査電子顕微鏡の分解能は装
置固有の性能差および加速電圧などの観察条件により異
なるので、島状塊間の距離の異なる性能評価用試料を複
数個用意し、全ての試料を用いて分解能の測定を行なっ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】 このような分解能の
測定は、性能評価用試料の交換に時間と手間がかかり非
常に厄介である。
【0005】本発明はこのような点に鑑みて成されたも
ので、分解能の測定が簡単に行なえる走査電子顕微鏡の
性能評価用試料およびその製作方法を提供することを目
的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】 本発明の走査電子顕微
鏡の性能評価用試料は、被蒸着部材に蒸着剤を蒸着させ
る事により形成された島状塊の平均粒径が一定方向に徐
々に大きくなっている。このような試料を製作する本発
明の方法は、被蒸着部材と蒸発源の間に遮蔽部材を配置
し、該遮蔽部材のエッジ部に衝突した蒸発粒子を前記被
蒸着部材表面に吸着させる。
【0007】
【実施例】 以下、本発明を図面を参照して説明する。
【0008】図1において、1は真空排気された真空
室、2は加熱体(例えばタンタルから成る)で、この加
熱体2の上には、段差(遮蔽部材)を有する被蒸着部材
(例えばカーボン)3が載置されている。また、加熱体
2は加熱電源4に接続されている。5は蒸発源で、電源
6に接続されたタングステンフィラメント7,このタン
グステンフィラメント7に引掛けられた金線8から成
る。
【0009】このような構成において、加熱電源4を制
御することにより加熱体2は加熱され、その為、被蒸着
部材3も加熱される。また、電源6を制御することによ
りタングステンフィラメント7に電流が流れ、タングス
テンフィラメント7に引掛けられた金線8が熱せられ
る。この金線8の温度がこの金の融点に達すると、金の
蒸発粒子が放射状に飛び散る。この蒸発粒子の内、前記
被蒸着部材3の遮蔽部材のエッジQに衝突したものは、
被蒸着部材3の表面(a〜e)に回りこんで吸着する。
【0010】図2は上記処理を終えた被蒸着部材3の位
置aからeの走査電子顕微鏡像を示したものである。位
置aでの島状塊の平均粒径が最も大きく、位置e方向に
進むに従ってそれは小さくなっている。また、隣り合う
島状塊の間隔は、位置e方向に進むに従って密になって
いる。これは、位置aに金の蒸発粒子が最も多く飛来
し、位置e方向に進むに従ってその数が減少し、島状塊
の成長に差が生じたためである。
【0011】さて、電子顕微鏡の分解能を測定する場合
は、このようにして作成された性能評価用試料を電子顕
微鏡の試料室にセットする。そして、電子線を照射する
位置を適宜選べば、従来のような試料の交換を行うこと
なく、種々の大きさで分解能の測定ができる。
【0012】また、被蒸着部材に段差を設ける代わり
に、図3に示すように、被蒸着部材9と蒸発源の間に遮
蔽部材である衝立10を設け、被蒸着部材の表面への金
の蒸発粒子の飛来数に差が生じるようにしてもよい。
【0013】
【発明の効果】 本発明の走査電子顕微鏡の性能評価用
試料は、被蒸着部材に蒸着剤を蒸着させる事により形成
された島状塊の平均粒径が一定方向に徐々に大きくなっ
ているので、電子線を照射する位置を適宜選ぶだけで広
い範囲にわたる走査電子顕微鏡の分解能の測定が簡単に
行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を説明するために示したものである。
【図2】 本発明の性能評価用試料の電子顕微鏡像を示
したものである。
【図3】 他の実施例を説明するために示したものであ
る。
【符号の説明】
1…真空室、2…加熱体、3…被蒸着部材、4…加熱電
源、5…蒸発源、6…電源、7…タングステンフィラメ
ント、8…金線、9…被蒸着部材、10…衝立、Q…エ
ッジ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被蒸着部材に蒸着剤を蒸着させる事によ
    り形成された島状塊の平均粒径が一定方向に徐々に大き
    くなっている走査電子顕微鏡の性能評価用試料。
  2. 【請求項2】 被蒸着部材と蒸発源の間に遮蔽部材を配
    置し、該遮蔽部材のエッジ部に衝突した蒸発粒子を前記
    被蒸着部材表面に吸着させる事を特徴とする走査電子顕
    微鏡の性能評価用試料の製作方法。
JP22657191A 1991-08-12 1991-08-12 走査電子顕微鏡の性能評価用試料及びその製作方法 Withdrawn JPH0545265A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6166380A (en) * 1997-05-08 2000-12-26 Hitachi, Ltd. Resolving power evaluation method and specimen for electron microscope
JP2001202911A (ja) * 1999-09-03 2001-07-27 Applied Materials Inc ビームの評価
US7236651B2 (en) 2001-08-24 2007-06-26 Hitachi, Ltd. Image evaluation method and microscope
JP2011158257A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Hitachi High-Technologies Corp 像分解能評価用試料,荷電粒子線装置、および試料作成方法
JP2012002552A (ja) * 2010-06-15 2012-01-05 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 電子顕微鏡用試料作製方法
US8294118B2 (en) 2009-02-03 2012-10-23 Hitachi High-Technologies Corporation Method for adjusting optical axis of charged particle radiation and charged particle radiation device

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6166380A (en) * 1997-05-08 2000-12-26 Hitachi, Ltd. Resolving power evaluation method and specimen for electron microscope
JP2001202911A (ja) * 1999-09-03 2001-07-27 Applied Materials Inc ビームの評価
US7236651B2 (en) 2001-08-24 2007-06-26 Hitachi, Ltd. Image evaluation method and microscope
US7340111B2 (en) 2001-08-24 2008-03-04 Hitachi, Ltd. Image evaluation method and microscope
US7805023B2 (en) 2001-08-24 2010-09-28 Hitachi, Ltd. Image evaluation method and microscope
US8294118B2 (en) 2009-02-03 2012-10-23 Hitachi High-Technologies Corporation Method for adjusting optical axis of charged particle radiation and charged particle radiation device
JP2011158257A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Hitachi High-Technologies Corp 像分解能評価用試料,荷電粒子線装置、および試料作成方法
JP2012002552A (ja) * 2010-06-15 2012-01-05 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 電子顕微鏡用試料作製方法

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Effective date: 19981112