JP2010003617A - 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 - Google Patents
試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010003617A JP2010003617A JP2008163141A JP2008163141A JP2010003617A JP 2010003617 A JP2010003617 A JP 2010003617A JP 2008163141 A JP2008163141 A JP 2008163141A JP 2008163141 A JP2008163141 A JP 2008163141A JP 2010003617 A JP2010003617 A JP 2010003617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- sample stage
- charged particle
- stage
- particle beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】電子顕微鏡にも共用される、試料台が備えられている試料回転ホールダにあって、試料台の軸心上の試料搭載側先端に球体部を設け、粉体試料を効率よく回転軸中央に装着し、試料回転ホールダ及び試料台それぞれの各回転角で、三次元再構成時の取得画像の位置合わせが正確に行え、三次元再構成像を高精度で得ることができるようにした。
【選択図】図1
Description
まず、金微粒子を使ったマーカ法の場合、試料に付着した金微粒子が試料本来の構造観察の邪魔になるばかりか、またX線分析時には試料由来ではない金の特性X線が検出され易い。そのため、X線分析時には、金(Au)の特性X線のエネルギー(Mα:9.7eV)に近い特性X線のエネルギーを有する試料中の元素(例えば、白金の特性X線エネルギーはMα:9.4eV)の判別がし難くなる。これは、一般的に特性X線を測定するエネルギー分散型X線分析(EDX:Energy dispersive X-ray analysis)装置のエネルギー分解能が130eV〜150eV程度であることに起因する。
図1は、本発明の一実施の形態としての試料台の要部の構成図である。
試料台1は、断面円形の試料台本体10を有し、試料台本体10の軸線方向一端側の試料搭載側は、外径側に対して内径側が試料台本体10の軸方向に突出した環状テーパ面部11と、この環状テーパ面部11の内方の軸側端面部12とを有する形状になっている。そして、軸側端面部12には、球体部13がその中心を試料台本体10の軸線上に位置させて、試料台本体10に対して同軸に装着されている。これにより、球体部13の一部表面部(露出球面部)14は、環状テーパ面部11の内周側よりもさらに試料台本体10の軸線方向に突出するようになっている。
図1及び図2に示した試料台1が、試料台本体10の軸線方向一端側の試料搭載側に、環状テーパ面部11と、軸側端面部12とを形成し、その軸方向端面部12に、別途作製された球体部13を装着した構成であったのに対し、図3に示した試料台1は、試料台本体10の軸線方向一端側の試料搭載側を機械加工又はレーザー加工等によって直接加工し、軸方向端面部12自体を球体部13に形成したものである。
図4は、本発明の一実施の形態としての試料回転ホルダの先端部の構成図である。
図4(a)は、試料回転ホルダの先端部の断面図を、図4(b)は、図4(a)中に記載したb−b矢視方向に試料回転ホルダの先端部を眺めた外観図を示したものである。
図5は、本発明の球体部を装備した試料台の作製に用いるFIB加工装置の構成図である。
FIB加工装置(集束イオンビーム装置)5の鏡体50は、イオン銃51,コンデンサーレンズ52,絞り53,走査電極54,対物レンズ55が備えられて構成されている。
上述のFIB加工装置5を用い、図1(a),(b)に示した試料台1の作製する場合を例に、試料台1の作製方法について説明する。
FIB加工装置5の試料室56に、球体部13をテープ64で固定したFIB用平面試料ホルダ65をセットする。この球体部13の材質は、試料9と異なる任意の材質、又は集束イオンビームを用いた追加工時にもスパッタされにくい材質が選択されている。
図7は、電子顕微鏡の一実施例である透過電子顕微鏡の構成図である。
透過電子顕微鏡7の鏡体70は、電子銃71、コンデンサーレンズ72、対物レンズ73、投射レンズ74が備えられて構成されている。コンデンサーレンズ72と対物レンズ73との間には、走査コイル75が配置されている。
このようにして、透過電子顕微鏡7によって観察された試料の回転投影像シリーズから三次元構造を再構成するTEMトモグラフィー取得手順について説明する。
(1) まず、試料回転ホルダ3の試料台1の球体部13上に試料9を搭載し、この試料回転ホルダ3を透過電子顕微鏡7の試料室76に装填する(ステップS1)。
(2) 次に、試料9に係る回転シリーズ像の取得を行う。
6 イオンビーム(FIB)、 7 電子顕微鏡、 8 電子線、 9 試料、
10 試料台本体、 11 環状テーパ面部、 12 軸側端面部、 13 球体部、
14 露出球面部、 15 球面凹部、 16 開口部、 17 孔、
31 ホルダ軸、 32 試料回転軸、 33 試料台収容室、 34 開放部、
35 試料台搭載面、 36 試料台挿入部、 37,38 傘歯車、
50 鏡体、 51 イオン銃、 52 コンデンサーレンズ、 53 絞り、
54 走査電極、 55 対物レンズ、 56 試料室、 57 二次電子検出器、
58 デポジション銃、 59 マイクロプローブ、 60 走査像表示装置、
61 走査電極制御部、 62 マイクロプローブ制御装置、 63 ホルダ制御部、
64 テープ、 65 FIB用平面試料ホルダ、 66 デポジション膜、
70 鏡体、 71 電子銃、 72 コンデンサーレンズ、 73 対物レンズ、
74 投射レンズ、 75 走査コイル、 76 試料室、
77 試料ホルダ制御部、 78 二次電子検出器、 79 信号増幅器、
80 走査像表示用ディスプレイ、 81 走査電源、 82 電子顕微鏡用CPU、
83 円環状検出器、 84 信号増幅器、 85 明視野STEM像観察用検出器、
86 信号増幅器、 87 回折像観察用TVカメラ、 88 TV制御部、
89 TVモニタ、 90 EDX検出器、 91 EDX制御部、
92 EDXスペクトル及びマップ表示部
Claims (13)
- 荷電粒子線が照射される箇所で、荷電粒子線の照射対象である試料を荷電粒子線の光軸方向に対して可変に保持する試料回転ホルダに回転可能に備えられ、試料が搭載される試料台であって、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の端面が、前記試料台の回転軸線上に中心を有する球体部又は半球体部によって形成されている
ことを特徴とする試料台。 - 請求項1記載の試料台において、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の材質は、エネルギー分散型X線分析時に、電子線照射された前記試料台の試料搭載側から発生するX線(システムピーク)が試料の分析結果に影響を及ぼさない材質によって形成されている
ことを特徴とする試料台。 - 請求項1記載の試料台において、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の材質は、各種イオンビームによるスパッタレートの小さい材質であり、試料台への試料固定後のイオンビームによる追加工時に、前記試料台から試料へのスパッタ物の再付着を抑制した材質によって形成されている
ことを特徴とする試料台。 - 請求項1記載の試料台において、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の球体部又は半球体部の大きさは、荷電粒子線の対象の試料の大きさ又は形状に合わせて設定されている
ことを特徴とする試料台。 - 荷電粒子線が照射される箇所で、荷電粒子線の照射対象である試料を荷電粒子線の光軸方向に対して可変に保持する試料回転ホルダに回転可能に備えられ、試料が搭載される試料台であって、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の端面が、前記試料台の回転軸線上に中心を有する所定の曲率半径を有する球体面によって形成されている
ことを特徴とする試料台。 - 請求項5記載の試料台において、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の材質は、エネルギー分散型X線分析時に、電子線照射された前記試料台の試料搭載側から発生するX線(システムピーク)が試料の分析結果に影響を及ぼさない材質によって形成されている
ことを特徴とする試料台。 - 請求項5記載の試料台において、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の材質は、各種イオンビームによるスパッタレートの小さい材質であり、試料台への試料固定後のイオンビームによる追加工時に、前記試料台から試料へのスパッタ物の再付着を抑制した材質によって形成されている
ことを特徴とする試料台。 - 請求項5記載の試料台において、
前記試料台の回転軸線方向の試料搭載側の球体面の大きさは、荷電粒子線の対象の試料の大きさ又は形状に合わせて設定されている
ことを特徴とする試料台。 - 荷電粒子線が照射される箇所で、荷電粒子線の照射対象である試料を荷電粒子線の光軸方向に対して可変に保持する試料回転ホルダであって、
球体部又は半球体部によって形成された試料搭載側の端面を有する試料台が、当該試料台自身の回転軸線を当該試料回転ホルダの軸線の延設方向と交差させるようにして、回転可能に設けられている
ことを特徴とする試料回転ホルダ。 - 荷電粒子線が照射される箇所で、荷電粒子線の照射対象である試料を荷電粒子線の光軸方向に対して可変に保持する試料回転ホルダであって、
球体面からなる試料搭載側の端面を有する試料台が、当該試料台自身の回転軸線を当該試料回転ホルダの軸線の延設方向と交差させるようにして、回転可能に設けられている
ことを特徴とする試料回転ホルダ。 - 荷電粒子線が照射される箇所で、荷電粒子線の照射対象である試料を荷電粒子線の光軸方向に対して可変に保持する試料回転ホルダに回転可能に備えられ、試料が搭載される試料台の作製方法であって、
回転軸線方向の試料搭載側の端面が自身の回転軸線上に中心を有する球体部又は半球体部によって形成されている前記試料台の作製を、マニュピレータを備えた荷電粒子線装置による集束イオンビームのガスアシストデポジション機能を用い、試料台の回転軸線方向の試料搭載側の端面に当該球体部又は半球体部を形成する
ことを特徴とする試料台の作製方法。 - 荷電粒子線が照射される箇所で、荷電粒子線の照射対象である試料を荷電粒子線の光軸方向に対して可変に保持する試料回転ホルダに回転可能に備えられ、試料が搭載される試料台の作製方法であって、
回転軸線方向の試料搭載側の端面が自身の回転軸線上に中心を有する所定の曲率半径を有する球体面によって形成されている前記試料台の作製を、当該回転軸線方向の試料搭載側の端面を機械加工又はレーザー加工を用い、試料台の回転軸線方向の試料搭載側の端面に当該球体面を形成する
ことを特徴とする試料台の作製方法。 - 試料を回転することにより得られる試料の回転位置に応じた複数の二次元の投影像からなる回転投影像シリーズから三次元構造を再構成するトモグラフィー法に用いた試料分析方法であって、
前記試料の回転位置に応じた複数の二次元の投影像の取得を、回転軸線方向の試料搭載側の端面が自身の回転軸線上に中心を有する所定の曲率半径を有する球体面によって形成されている試料台に搭載して行い、各投影像を共通座標に変換する際に、当該試料台の球体面を位置補正のマーカとして用いる
ことを特徴とする試料分析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008163141A JP5048596B2 (ja) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008163141A JP5048596B2 (ja) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010003617A true JP2010003617A (ja) | 2010-01-07 |
JP5048596B2 JP5048596B2 (ja) | 2012-10-17 |
Family
ID=41585165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008163141A Active JP5048596B2 (ja) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5048596B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011158257A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 像分解能評価用試料,荷電粒子線装置、および試料作成方法 |
JP2012002552A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 電子顕微鏡用試料作製方法 |
JP2012209050A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡および3次元像構築方法 |
WO2013108711A1 (ja) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 |
WO2014195998A1 (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-11 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 |
JP2016062658A (ja) * | 2014-09-14 | 2016-04-25 | サンユー電子株式会社 | 電子顕微鏡画像の立体画像構築システムおよびその立体画像構築方法 |
JP2016103387A (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
CN105973918A (zh) * | 2016-07-08 | 2016-09-28 | 丹东华日理学电气股份有限公司 | 工业ct用3d球检测平台 |
CN109709116A (zh) * | 2018-11-23 | 2019-05-03 | 中国石油天然气股份有限公司 | 一种步进旋转样品台、微观颗粒三维表面成像方法及系统 |
CN111257359A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 浙江大学 | 样品对准转轴轴线的调整方法 |
CN113188720A (zh) * | 2021-03-19 | 2021-07-30 | 南京环科试验设备有限公司 | 一种淋雨试验箱用样品旋转台及其使用方法 |
WO2022028633A1 (en) * | 2020-08-07 | 2022-02-10 | Tescan Brno | Method of operation of a charged particle beam device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10111223A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Hitachi Ltd | 3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法 |
JP2004109097A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Toshiba Corp | 物理解析用研磨冶具及び物理解析方法 |
JP2005221426A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Sii Nanotechnology Inc | 微細試料支持回転ホルダとそのホルダを採用したナノバイオ対応ctシステム |
JP2006172958A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 集束イオンビーム加工装置及びそれに用いる試料台 |
JP2007018944A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子装置用試料台 |
-
2008
- 2008-06-23 JP JP2008163141A patent/JP5048596B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10111223A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Hitachi Ltd | 3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法 |
JP2004109097A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Toshiba Corp | 物理解析用研磨冶具及び物理解析方法 |
JP2005221426A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Sii Nanotechnology Inc | 微細試料支持回転ホルダとそのホルダを採用したナノバイオ対応ctシステム |
JP2006172958A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 集束イオンビーム加工装置及びそれに用いる試料台 |
JP2007018944A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子装置用試料台 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011158257A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 像分解能評価用試料,荷電粒子線装置、および試料作成方法 |
JP2012002552A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 電子顕微鏡用試料作製方法 |
JP2012209050A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡および3次元像構築方法 |
WO2013108711A1 (ja) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 |
JP2013149507A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 |
CN104067369A (zh) * | 2012-01-20 | 2014-09-24 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子束显微镜、带电粒子束显微镜用样品支座以及带电粒子束显微方法 |
US8963102B2 (en) | 2012-01-20 | 2015-02-24 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam microscope, sample holder for charged particle beam microscope, and charged particle beam microscopy |
WO2014195998A1 (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-11 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 |
JP2016062658A (ja) * | 2014-09-14 | 2016-04-25 | サンユー電子株式会社 | 電子顕微鏡画像の立体画像構築システムおよびその立体画像構築方法 |
JP2016103387A (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
CN105973918A (zh) * | 2016-07-08 | 2016-09-28 | 丹东华日理学电气股份有限公司 | 工业ct用3d球检测平台 |
CN109709116A (zh) * | 2018-11-23 | 2019-05-03 | 中国石油天然气股份有限公司 | 一种步进旋转样品台、微观颗粒三维表面成像方法及系统 |
CN109709116B (zh) * | 2018-11-23 | 2021-11-02 | 中国石油天然气股份有限公司 | 一种步进旋转样品台、微观颗粒三维表面成像方法及系统 |
CN111257359A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 浙江大学 | 样品对准转轴轴线的调整方法 |
CN111257359B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-03-02 | 浙江大学 | 样品对准转轴轴线的调整方法 |
WO2022028633A1 (en) * | 2020-08-07 | 2022-02-10 | Tescan Brno | Method of operation of a charged particle beam device |
CN113188720A (zh) * | 2021-03-19 | 2021-07-30 | 南京环科试验设备有限公司 | 一种淋雨试验箱用样品旋转台及其使用方法 |
CN113188720B (zh) * | 2021-03-19 | 2024-04-23 | 南京环科试验设备有限公司 | 一种淋雨试验箱用样品旋转台及其使用方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5048596B2 (ja) | 2012-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5048596B2 (ja) | 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 | |
US7863564B2 (en) | Electric charged particle beam microscope and microscopy | |
US8963102B2 (en) | Charged particle beam microscope, sample holder for charged particle beam microscope, and charged particle beam microscopy | |
JP2008270056A (ja) | 走査型透過電子顕微鏡 | |
EP2402976A1 (en) | Method of electron diffraction tomography | |
JP4654216B2 (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
JP2009152120A (ja) | 電子線トモグラフィ法及び電子線トモグラフィ装置 | |
US7622714B2 (en) | Standard specimen for a charged particle beam apparatus, specimen preparation method thereof, and charged particle beam apparatus | |
US9514913B2 (en) | TEM sample mounting geometry | |
JP3677895B2 (ja) | 3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法 | |
US20190323977A1 (en) | Apparatus for combined stem and eds tomography | |
WO2014195998A1 (ja) | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 | |
JP2004087214A (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
JP4433092B2 (ja) | 三次元構造観察方法 | |
JP2011222426A (ja) | 複合荷電粒子ビーム装置 | |
JP4988175B2 (ja) | 荷電粒子装置用試料台 | |
US20230298855A1 (en) | Method and apparatus for micromachining a sample using a focused ion beam | |
TWI813760B (zh) | 試料加工觀察方法 | |
JP4393352B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP5939627B2 (ja) | 電子顕微鏡用試料、電子顕微鏡画像形成方法及び電子顕微鏡装置 | |
US11837434B2 (en) | Setting position of a particle beam device component | |
US20230260744A1 (en) | Method for producing a sample on an object, computer program product, and material processing device for carrying out the method | |
US9947506B2 (en) | Sample holder and focused ion beam apparatus | |
JP2009070604A (ja) | 3次元構造観察用の試料支持台及び分度器、並びに3次元構造観察方法 | |
JP2006040768A (ja) | 電子顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100525 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120502 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120626 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120719 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150727 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5048596 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |