JP5316924B2 - 観察装置および観察方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 38
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 84
- 238000013144 data compression Methods 0.000 claims abstract description 27
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 20
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 87
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
10 ウェハ(被検物)
20 ウェハ支持部(回転保持部) 30 撮像部
40 画像処理部
43 データ圧縮部 44 画像連結部
45 ヒストグラム作成部
50 制御部 51 インターフェース部(画像表示部)
A ヒストグラム B 連結画像
C 部分画像 D 角度位置情報画像
Claims (9)
- 被検物を部分的に撮像可能な撮像部を備え、前記撮像部の撮像領域を前記被検物に対して相対移動させながら前記被検物の部分を複数撮像して得られた、前記複数の前記撮像領域における前記被検物の部分画像を用いて前記被検物の表面観察を行う観察装置であって、
前記複数の前記部分画像をそれぞれ、前記撮像領域を変えずにデータ圧縮する処理をしてから前記相対移動に対応する方向へ並べるように互いに連結して、前記被検物の部分を前記相対移動方向へ連続的に視認できる連結画像にする画像連結部と、
前記画像連結部により連結された前記連結画像を表示する画像表示部と、
前記画像表示部で表示される前記連結画像において所望の領域を選択する操作が行われる操作部と、
前記選択された所望の領域に対応する前記データ圧縮する処理を行う前の前記部分画像を前記画像表示部において前記連結画像と並べて拡大して表示させる選択表示制御部とを有することを特徴とする観察装置。 - 前記画像表示部は前記連結画像を部分的に表示するように構成され、
前記画像表示部に前記連結画像の表示部分を前記相対移動方向へスクロールさせる制御を行うスクロール制御部を有することを特徴とする請求項1に記載の観察装置。 - 前記画像表示部で表示された前記連結画像に対応する前記被検物の位置情報を求め、前記位置情報を前記連結画像と関連させて前記画像表示部に表示させる位置表示制御部を有することを特徴とする請求項1もしくは請求項2に記載の観察装置。
- 前記撮像部が一次元イメージセンサを有していることを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の観察装置。
- 前記連結画像における前記相対移動方向に対する輝度変化を示すヒストグラムを作成し、前記ヒストグラムを前記連結画像と同期させて前記画像表示部に表示させるヒストグラム作成部を有することを特徴とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の観察装置。
- 被検物を部分的に撮像可能な撮像部を備え、前記撮像部の撮像領域を前記被検物に対して相対移動させながら前記被検物の部分を複数撮像して得られた、前記複数の前記撮像領域における前記被検物の部分画像を用いて前記被検物の表面観察を行う観察装置であって、
前記複数の前記部分画像をそれぞれ、前記撮像領域を変えずにデータ圧縮する処理をしてから前記相対移動に対応する方向へ並べるように互いに連結して、前記被検物の部分を前記相対移動方向へ連続的に視認できる連結画像にする画像連結部と、
前記画像連結部により連結された前記連結画像を表示する画像表示部と、
前記画像表示部で表示される前記連結画像において所望の領域を選択する操作が行われる操作部と、
前記選択された領域に対応する前記部分画像を前記画像表示部に拡大して表示させる選択表示制御部と、
前記連結画像における前記相対移動方向に対する輝度変化を示すヒストグラムを作成し、前記ヒストグラムを前記連結画像と同期させて前記画像表示部に表示させるヒストグラム作成部と、
前記操作部を用いて、前記画像表示部で表示される前記ヒストグラムの所望の領域を選択する操作が行われると、前記ヒストグラムの前記選択された領域に対応する前記部分画像を前記画像表示部に表示させる第2の選択表示制御部を有することを特徴とする観察装置。 - 前記画像表示部で表示される前記部分画像は、前記連結画像において前記部分画像に該当する部分よりも高い解像度を有することを特徴とする請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の観察装置。
- 前記被検物を回転可能に保持する回転保持部を有しており、
前記回転保持部は、略円盤状に形成された前記被検物の回転対称軸を回転軸として、前記撮像部の前記撮像領域に対する前記被検物の外周端部の相対回転方向が前記相対移動方向となるように前記被検物を回転駆動し、
前記撮像部は、前記回転軸と直交する方向から前記被検物の外周端部または外周端部近傍を連続的に複数撮像し、
前記画像連結部は、前記連続的に複数撮像して得られた前記被検物の外周端部または外周端部近傍に関する前記複数の前記部分画像をそれぞれ前記連結して、前記被検物の外周端部または外周端部近傍を前記相対回転方向へ連続的に視認できる連結画像にすることを特徴とする請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載の観察装置。 - 被検物を部分的に撮像可能な撮像部により、前記撮像部の撮像領域を前記被検物に対して相対移動させながら前記被検物の部分を複数撮像して得られた、前記複数の前記撮像領域における前記被検物の部分画像を用いて前記被検物の表面観察を行う観察方法であって、
前記複数の前記部分画像をそれぞれ、前記撮像領域を変えずにデータ圧縮する処理をしてから前記相対移動に対応する方向へ並べるように互いに連結して、前記被検物の部分を前記相対移動方向へ連続的に視認できる連結画像にする画像連結処理と、
前記画像連結処理で連結した前記連結画像を表示する画像表示処理と、
操作部を用いて、前記画像表示処理で表示する前記連結画像において所望の領域を選択する操作が行われると、前記選択された所望の領域に対応する前記データ圧縮する処理を行う前の前記部分画像を前記連結画像と並べて拡大して表示する選択表示処理とを有することを特徴とする観察方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007230376A JP5316924B2 (ja) | 2007-09-05 | 2007-09-05 | 観察装置および観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007230376A JP5316924B2 (ja) | 2007-09-05 | 2007-09-05 | 観察装置および観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009063366A JP2009063366A (ja) | 2009-03-26 |
JP5316924B2 true JP5316924B2 (ja) | 2013-10-16 |
Family
ID=40558073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007230376A Active JP5316924B2 (ja) | 2007-09-05 | 2007-09-05 | 観察装置および観察方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5316924B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6150392B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2017-06-21 | コマツNtc株式会社 | ウエハ側面検査装置 |
JP6927790B2 (ja) * | 2017-07-31 | 2021-09-01 | レーザーテック株式会社 | 検査方法及び検査装置 |
JP2022051056A (ja) * | 2020-09-18 | 2022-03-31 | 日本電気硝子株式会社 | 検査結果表示装置、製造システム、検査結果表示方法、製造方法、及びプログラム |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09133636A (ja) * | 1995-09-07 | 1997-05-20 | Toshiba Corp | 照明装置及びこれを適用した欠陥検査装置 |
US7616804B2 (en) * | 2006-07-11 | 2009-11-10 | Rudolph Technologies, Inc. | Wafer edge inspection and metrology |
-
2007
- 2007-09-05 JP JP2007230376A patent/JP5316924B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009063366A (ja) | 2009-03-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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