JP2008146978A - 欠陥修正方法及び欠陥修正装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】欠陥修正装置1は、レーザ光を欠陥に照射する際に用いるリペア用対物レンズ3と、リペア用対物レンズ3よりも低倍率の観察用対物レンズ4とを有し、欠陥の抽出や、欠陥の位置を抽出する際には、観察用対物レンズ4の広い視野下で行い、この視野下で修正する位置を自動的に設定する。修正を行う場合には、リペア用対物レンズ3に切り換えてから、光軸nと、修正する位置とが一致するように移動させた後に、レーザ光を照射する。
【選択図】図1
Description
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、大きい欠陥が存在したときでも、その修正を自動で行えるようにすることである。
(第1の実施の形態)
図1に概略構成を示すように、欠陥修正装置1は、例えばフラットパネルディスプレイ用のマザーガラス基板や半導体ウエハなどの修正対象物である基板Wを載置するステージ部を有する。ステージ部としては、本実施の形態では、直交する2軸方向に移動可能なXYステージ2を採用する。XYステージ2の上方には、加工用のレーザ光を通過させて基板W上の欠陥を修正するリペア用対物レンズ3と、基板W上の欠陥をリペア用対物レンズ3よりも高解像度で観察する観察用対物レンズ4とが切り換え自在に装着された対物切換部5が配置されている。対物切換部5としては、リペア用対物レンズ3と観察用対物レンズ4を回転部に同心円状に配置したものや、スライダーに直列に配置したものがある。ここで、観察用対物レンズ4には、リペア用対物レンズ3より視野が大きな低倍率の観察用対物レンズ4aが用いられており、大きい視野で基板Wの外観観察を行えるようになっている。例えば、20倍のレーザリペア用対物レンズ3を用いた場合には、低倍率の観察用対物レンズ4として20倍以下の0.5から10倍程度のものを用いる。また、観察用対物レンズ4は、欠陥を詳細に観察するためにリペア用対物レンズ3より高倍率の50倍を用意する。
なお、判断部11で真の欠陥か疑似欠陥か詳細に確認したい場合には、観察用対物レンズ4を高倍率の対物レンズ4bに切り換え、欠陥を拡大して観察することができる。
また、図5に示すように、低倍率の観察用対物レンズ4の視野下に修正する必要のある欠陥33が複数箇所で抽出された場合、各欠陥33a,33bに対して上記と同様に修正箇所40a,40bの座標とリペア用対物レンズ3の視野領域34a,34bの中心座標に設定することができる。
この実施の形態では、図1に示す修正装置を用い、図6のフローチャートに示すような修正方法を実施することを特徴とする。
図1、及び図6に示すように、低倍率の観察用対物レンズ4aを介して撮像部8で画像データの取り込みを行い(ステップS201)、画像処理部9で欠陥の抽出、及び修正箇所の抽出をし(ステップS201)、判断部で欠陥がリペア用対物レンズの視野領域外にあるか否かを判断する(ステップS201)。これらの処理は、前記の実施の形態と同様である。
また、低倍率の観察用対物レンズ41aにより取り込まれた欠陥61の全体像をモニタに表示し、リペア可能領域を示す枠やマクスポインタを手動で走査して任意の修正箇所を設定することもできる。また、低倍率の観察用対物レンズ4aの視野内に取り込まれ、レーザリペア対物レンズ3の視野内に収まらない複数箇所に点在する修正の必要な各欠陥に対して修正箇所を設定することもできる。
例えば、修正箇所の座標と共通光路nに配置されたレーザリペア用対物レンズとを一致させる構成、及び方法としては、リペア用対物レンズ3、対物切換部5、ビームスプリッタ6、レーザ照射部7、及び撮像部8といった光学系を基板Wに対して移動させても良い。
2 XYステージ(ステージ部)
3 リペア用対物レンズ
4 観察用対物レンズ
8 撮像部
9 画像処理部
11 判断部
12 制御部
40a,40b,62a,62b,62c,62d,62e 中心点
n 光軸
W 基板
Claims (3)
- ステージ部に載置された基板表面の欠陥にレーザ照射部からのレーザ光を照射し、欠陥を修正する欠陥修正装置において、
レーザ光を前記基板に照射させる際にレーザ光を透過させるリペア用対物レンズと、前記欠陥を抽出する際に用い、前記リペア用対物レンズよりも倍率が低い観察用対物レンズと、前記リペア用対物レンズ又は前記観察用対物レンズを介して前記基板の画像を撮像する撮像部と、前記観察用対物レンズを用いて撮像した画像データから欠陥の大きさ、及び位置を抽出する画像処理部と、前記画像処理部で抽出された欠陥に対して、前記リペア用対物レンズの視野領域に合わせて、修正を行う修正箇所を設定する判断部と、前記リペア用対物レンズ又は前記観察用対物レンズの一方を前記撮像部及び前記レーザ照射部の光軸上に切り換えて配置させ、前記ステージ部を駆動させて光軸と修正箇所とを一致させる制御部と、を有することを特徴とする欠陥修正装置。 - ステージ部に載置された基板表面の欠陥にレーザ照射部からのレーザ光を照射し、欠陥を修正する欠陥修正方法において、
レーザ光を前記基板に照射させる際にレーザ光を透過させるリペア用対物レンズよりも倍率の低い観察用対物レンズを用いて画像データを取得し、この画像データを画像処理して欠陥の抽出を行い、前記リペア用対物レンズの視野領域よりも大きい欠陥に対しては、前記観察用対物レンズの視野下で、前記リペア用対物レンズの視野領域の大きさに合わせて、修正を行う修正箇所を複数設定し、光軸上に前記観察用対物レンズの代わりに前記リペア用対物レンズを配置した後に、レーザ光を照射することを特徴とする欠陥修正方法。 - 修正箇所の中心の座標に、前記リペア用対物レンズの光軸を相対移動させることを特徴とする請求項2に記載の欠陥修正方法。
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