JP4951323B2 - 欠陥修正方法及び欠陥修正装置 - Google Patents
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Description
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、大きい欠陥が存在したときでも、その修正を自動で行えるようにすることである。
(第1の実施の形態)
図1に概略構成を示すように、欠陥修正装置1は、例えばフラットパネルディスプレイ用のマザーガラス基板や半導体ウエハなどの修正対象物である基板Wを載置するステージ部を有する。ステージ部としては、本実施の形態では、直交する2軸方向に移動可能なXYステージ2を採用する。XYステージ2の上方には、加工用のレーザ光を通過させて基板W上の欠陥を修正するリペア用対物レンズ3と、基板W上の欠陥をリペア用対物レンズ3よりも高解像度で観察する観察用対物レンズ4とが切り換え自在に装着された対物切換部5が配置されている。対物切換部5としては、リペア用対物レンズ3と観察用対物レンズ4を回転部に同心円状に配置したものや、スライダーに直列に配置したものがある。ここで、観察用対物レンズ4には、リペア用対物レンズ3より視野が大きな低倍率の観察用対物レンズ4aが用いられており、大きい視野で基板Wの外観観察を行えるようになっている。例えば、20倍のレーザリペア用対物レンズ3を用いた場合には、低倍率の観察用対物レンズ4として20倍以下の0.5から10倍程度のものを用いる。また、観察用対物レンズ4は、欠陥を詳細に観察するためにリペア用対物レンズ3より高倍率の50倍を用意する。
なお、判断部11で真の欠陥か疑似欠陥か詳細に確認したい場合には、観察用対物レンズ4を高倍率の対物レンズ4bに切り換え、欠陥を拡大して観察することができる。
また、図5に示すように、低倍率の観察用対物レンズ4の視野下に修正する必要のある欠陥33が複数箇所で抽出された場合、各欠陥33a,33bに対して上記と同様に修正箇所40a,40bの座標とリペア用対物レンズ3の視野領域34a,34bの中心座標に設定することができる。
この実施の形態では、図1に示す修正装置を用い、図6のフローチャートに示すような修正方法を実施することを特徴とする。
図1、及び図6に示すように、低倍率の観察用対物レンズ4aを介して撮像部8で画像データの取り込みを行い(ステップS201)、画像処理部9で欠陥の抽出、及び修正箇所の抽出をし(ステップS201)、判断部で欠陥がリペア用対物レンズの視野領域外にあるか否かを判断する(ステップS201)。これらの処理は、前記の実施の形態と同様である。
また、低倍率の観察用対物レンズ41aにより取り込まれた欠陥61の全体像をモニタに表示し、リペア可能領域を示す枠やマクスポインタを手動で走査して任意の修正箇所を設定することもできる。また、低倍率の観察用対物レンズ4aの視野内に取り込まれ、レーザリペア対物レンズ3の視野内に収まらない複数箇所に点在する修正の必要な各欠陥に対して修正箇所を設定することもできる。
例えば、修正箇所の座標と共通光路nに配置されたレーザリペア用対物レンズとを一致させる構成、及び方法としては、リペア用対物レンズ3、対物切換部5、ビームスプリッタ6、レーザ照射部7、及び撮像部8といった光学系を基板Wに対して移動させても良い。
2 XYステージ(ステージ部)
3 リペア用対物レンズ
4 観察用対物レンズ
8 撮像部
9 画像処理部
11 判断部
12 制御部
40a,40b,62a,62b,62c,62d,62e 中心点
n 光軸
W 基板
Claims (2)
- ステージ部に載置された修正対象物の欠陥にレーザ照射部からのレーザ光を照射し、前記欠陥を修正する欠陥修正装置において、
前記レーザ光を前記修正対象物に照射させる際に前記レーザ光を透過させるリペア用対物レンズと、
前記欠陥を抽出する際に用い、前記リペア用対物レンズよりも倍率が低い観察用対物レンズと、
前記リペア用対物レンズ又は前記観察用対物レンズの一方を前記レーザ照射部の光軸上に切り換え可能に配置する対物切換部と、
前記リペア用対物レンズ又は前記観察用対物レンズを介して前記修正対象物の画像を撮像する撮像部と、
前記観察用対物レンズを用いて撮像した画像データから、前記欠陥を特定する欠陥情報を抽出する画像処理部と、
前記画像処理部で抽出された前記欠陥情報に基づいて前記欠陥を分割するか否かを判断し、分割すると判断したときに、前記欠陥を複数の領域に分割して前記複数の領域ごとに前記レーザ光を照射する修正箇所座標を設定する判断部と、
前記リペア用対物レンズを前記光軸上に配置し、前記修正箇所座標を前記光軸上に位置させて前記レーザ照射部にレーザ光を照射させる制御部と、
を有することを特徴とする欠陥修正装置。 - ステージ部に載置された修正対象物の欠陥にレーザ照射部からのレーザ光を照射し、前記欠陥を修正する欠陥修正方法において、
前記レーザ光を前記修正対象物に照射させる際に前記レーザ光を透過させるリペア用対物レンズよりも倍率の低い観察用対物レンズを用いて前記修正対象物の画像データを取得し、
前記画像データを画像処理して前記欠陥を特定する欠陥情報を抽出し、
前記画像処理部で抽出された前記欠陥情報に基づいて前記欠陥を分割するか否かを判断し、分割すると判断したときに、前記欠陥を複数の領域に分割して前記複数の領域ごとに前記レーザ光を照射する修正箇所座標を設定し、
前記リペア用対物レンズを前記レーザ照射部の光軸上に配置し、前記修正箇所座標を前記光軸上に位置させて前記レーザ照射部にレーザ光を照射させることを特徴とする欠陥修正方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006331769A JP4951323B2 (ja) | 2006-12-08 | 2006-12-08 | 欠陥修正方法及び欠陥修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006331769A JP4951323B2 (ja) | 2006-12-08 | 2006-12-08 | 欠陥修正方法及び欠陥修正装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2008146978A JP2008146978A (ja) | 2008-06-26 |
JP4951323B2 true JP4951323B2 (ja) | 2012-06-13 |
Family
ID=39606909
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006331769A Expired - Fee Related JP4951323B2 (ja) | 2006-12-08 | 2006-12-08 | 欠陥修正方法及び欠陥修正装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4951323B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102189331B (zh) * | 2010-03-05 | 2015-09-30 | 奥林巴斯株式会社 | 缺陷修正装置以及缺陷跟踪方法 |
JP5730528B2 (ja) * | 2010-03-05 | 2015-06-10 | オリンパス株式会社 | 欠陥修正装置および欠陥追跡方法 |
JP5495875B2 (ja) * | 2010-03-18 | 2014-05-21 | オリンパス株式会社 | レーザ加工方法、及び、レーザ加工装置 |
CN105892108A (zh) * | 2016-04-22 | 2016-08-24 | 深圳市卓茂科技有限公司 | 半自动液晶屏修复机 |
KR102077935B1 (ko) * | 2018-08-14 | 2020-02-14 | 주식회사 코윈디에스티 | 표시장치 패널에 대한 레이저 리페어 및 검사 방법과 이에 적합한 리페어 및 검사 장치 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3644997B2 (ja) * | 1995-03-06 | 2005-05-11 | オリンパス株式会社 | レーザ加工装置 |
JP2001340984A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-11 | Toshiba Corp | レーザリペア装置 |
JP2001343907A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Toshiba Corp | レーザリペア装置および表示セルの製造方法 |
WO2006100780A1 (ja) * | 2005-03-24 | 2006-09-28 | Olympus Corporation | リペア方法及びその装置 |
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2006
- 2006-12-08 JP JP2006331769A patent/JP4951323B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008146978A (ja) | 2008-06-26 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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