JPWO2009031612A1 - 観察装置および観察方法、並びに検査装置および検査方法 - Google Patents
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Abstract
Description
より生じる散乱光を利用して異物等を検出する構成のものや、ラインセンサにより被検物の画像を帯状に形成して異物等を検出する構成のもの等がある。
Claims (28)
- 被検物における第1の範囲および前記第1の範囲に対して所定方向にずれた第2の範囲を撮像する撮像部と、
前記第1の範囲の画像と前記第2の範囲の画像との前記所定方向に対応する部分の信号の差分を得る差分処理部と、
前記差分処理部による処理結果を表示する表示部とを有することを特徴とする観察装置。 - 前記差分処理部は、前記第1の範囲の画像を構成する複数の部分と前記第2の範囲の画像を構成する複数の部分とを前記所定方向に対応させてそれぞれの差分を得ることを特徴とする請求項1に記載の観察装置。
- 前記被検物を前記撮像部に対して前記所定方向へ相対移動させる相対移動部をさらに有し、
前記撮像部は、前記被検物を前記相対移動に応じて前記所定方向へ連続的に撮像することを特徴とする請求項1もしくは請求項2に記載の観察装置。 - 前記相対移動部は、略円盤状に形成された前記被検物の回転対称軸を回転軸として、前記撮像部に対する前記被検物の外周端部の相対回転方向が前記所定方向となるように前記被検物を回転駆動し、
前記撮像部は、前記回転軸と直交する方向または平行な方向の少なくとも一つの方向から前記被検物の外周端部または該外周端部近傍の該外周端部に連なる部分を連続的に撮像することを特徴とする請求項3に記載の観察装置。 - 前記撮像部が前記被検物の全周にわたって前記撮像することを特徴とする請求項4に記載の観察装置。
- 前記撮像部が前記被検物の周の一部にわたって前記撮像することを特徴とする請求項4に記載の観察装置。
- 前記差分処理部により得られた前記差分の値と、前記差分が得られる画像に対応した前記被検物における位置との関係を示すヒストグラムを作成するヒストグラム作成部を有することを特徴とする請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の観察装置。
- 前記ヒストグラムに基づいて前記差分が得られる画像を表示可能であることを特徴とする請求項7に記載の観察装置。
- 前記撮像部は、前記被検物を前記撮像するためのラインセンサを備え、
前記ラインセンサが前記被検物に対して前記所定方向へ相対移動しながら前記被検物を連続的に撮像することを特徴とする請求項1から請求項8のうちいずれか一項に記載の観察装置。 - 前記ラインセンサが、前記被検物の端部もしくは端部近傍の明視野像を撮像することを特徴とする請求項9に記載の観察装置。
- 前記被検物に対する前記ラインセンサの相対移動範囲を設定する撮像位置設定部を有することを特徴とする請求項9もしくは請求項10に記載の観察装置。
- 前記撮像部は、前記被検物の二次元像を撮像するための二次元撮像器を備え、
前記表示部は、前記差分処理部による前記処理結果に基づいて前記二次元撮像器の撮像範囲を設定することを特徴とする請求項9から請求項11のうちいずれか一項に記載の観察装置。 - 被検物における第1の範囲および前記第1の範囲に対して所定方向にずれた第2の範囲を撮像する撮像部と、
前記第1の範囲の画像と前記第2の範囲の画像との前記所定方向に対応する部分の信号の差分を得る差分処理部と、
前記差分処理部による処理結果に基づいて前記被検物を検査する検査部とを有することを特徴とする検査装置。 - 前記差分処理部は、前記第1の範囲の画像を構成する複数の部分と前記第2の範囲の画像を構成する複数の部分とを前記所定方向に対応させてそれぞれの差分を得ることを特徴とする請求項13に記載の検査装置。
- 前記差分処理部による処理結果を表示する表示部をさらに有することを特徴とする請求項13もしくは請求項14に記載の検査装置。
- 前記差分処理部により得られた前記差分の値と、前記差分が得られる画像に対応した前記被検物における位置との関係を示すヒストグラムを作成するヒストグラム作成部を有することを特徴とする請求項13から請求項15のうちいずれか一項に記載の検査装置。
- 前記検査部は、前記差分処理部により得られた前記差分の値が所定の閾値より大きい場合に、前記欠陥が有ると判定するとともに、前記ヒストグラム作成部により作成された前記ヒストグラムから前記欠陥の位置を特定することを特徴とする請求項16に記載の検査装置。
- 前記撮像部は、前記被検物を前記撮像するためのラインセンサを備え、
前記ラインセンサが前記被検物に対して前記所定方向へ相対移動しながら前記被検物を連続的に撮像することを特徴とする請求項13から請求項17のうちいずれか一項に記載の検査装置。 - 前記撮像部は、前記被検物の二次元像を撮像するための二次元撮像器を備え、
前記表示部は、前記検査部による前記検査の結果に基づいて前記二次元撮像器の撮像範囲を設定することを特徴とする請求項18に記載の検査装置。 - 前記二次元撮像器により撮像された前記欠陥が映る二次元画像を記録する記録部を有し、
前記検査部は、前記記録部に記録された前記二次元画像に基づいて分類される前記欠陥の種類に応じて、前記差分処理部により得られた前記差分の値から前記欠陥の種類を判別することを特徴とする請求項19に記載の検査装置。 - 前記検査部は、前記差分処理部により得られた前記差分から色情報を抽出し、抽出した前記色情報から所定の干渉色の有無を検査することで、前記被検物に形成された薄膜起因による前記欠陥の有無を検査することを特徴とする請求項20に記載の検査装置。
- 被検物における第1の範囲および前記第1の範囲に対して所定方向にずれた第2の範囲を撮像する撮像処理と、
前記第1の範囲の画像と前記第2の範囲の画像との前記所定方向に対応する部分の信号の差分を得る差分処理と、
前記差分処理による処理結果を表示する表示処理とを有することを特徴とする観察方法。 - 前記差分処理において、前記第1の範囲の画像を構成する複数の部分と前記第2の範囲の画像を構成する複数の部分とを前記所定方向に対応させてそれぞれの差分を得ることを特徴とする請求項22に記載の観察方法。
- 被検物における第1の範囲および前記第1の範囲に対して所定方向にずれた第2の範囲を撮像する撮像処理と、
前記第1の範囲の画像と前記第2の範囲の画像との前記所定方向に対応する部分の信号の差分を得る差分処理と、
前記差分処理による処理結果に基づいて前記被検物を検査する検査処理とを有することを特徴とする検査方法。 - 前記差分処理において、前記第1の範囲の画像を構成する複数の部分と前記第2の範囲の画像を構成する複数の部分とを前記所定方向に対応させてそれぞれの差分を得ることを特徴とする請求項24に記載の検査方法。
- 前記検査処理において、前記差分処理により得られた前記差分の値が所定の閾値より大きい場合に、前記欠陥が有ると判定することを特徴とする請求項24もしくは請求項25に記載の検査方法。
- 前記撮像処理を行うための撮像部は、前記被検物を撮像するための二次元イメージセンサおよびラインセンサを備え、前記ラインセンサにより撮像した前記被検物の画像に対する前記差分処理の処理結果に基づいて前記検査処理が行われるように構成されており、
前記二次元イメージセンサにより撮像した前記被検物の画像に対する前記差分処理で得られる前記差分の値と、前記二次元イメージセンサにより撮像した前記被検物の前記画像で視認可能な前記被検物の欠陥との相関を求めて、前記二次元イメージセンサに対応した前記閾値を設定する閾値設定処理と、
前記ラインセンサにより撮像した前記被検物の画像に対する前記差分処理で得られる前記差分の値に基づいて、前記閾値設定処理で設定した前記閾値の補正を行い、前記ラインセンサに対応した前記閾値を設定する閾値補正処理とをさらに有することを特徴とする請求項26に記載の検査方法。 - 予め設定された演算処理が可能な回路基板を用いて前記検査処理を行うことを特徴とする請求項27に記載の検査方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007230374 | 2007-09-05 | ||
JP2007230374 | 2007-09-05 | ||
PCT/JP2008/065969 WO2009031612A1 (ja) | 2007-09-05 | 2008-09-04 | 観察装置および観察方法、並びに検査装置および検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009031612A1 true JPWO2009031612A1 (ja) | 2010-12-16 |
Family
ID=40428925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009531272A Ceased JPWO2009031612A1 (ja) | 2007-09-05 | 2008-09-04 | 観察装置および観察方法、並びに検査装置および検査方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110064297A1 (ja) |
JP (1) | JPWO2009031612A1 (ja) |
KR (1) | KR20100067659A (ja) |
CN (1) | CN101796399A (ja) |
TW (1) | TW200916764A (ja) |
WO (1) | WO2009031612A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102645435A (zh) * | 2012-04-19 | 2012-08-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 基板的检测方法和装置 |
CN102890089B (zh) * | 2012-09-17 | 2015-07-29 | 上海华力微电子有限公司 | 晶圆缺陷扫描方法及晶圆缺陷扫描机台 |
CN103954625B (zh) * | 2014-02-13 | 2017-01-25 | 同济大学 | 一种面向激光薄膜内部缺陷的溯源性损伤阈值测量方法 |
KR101620426B1 (ko) | 2014-10-15 | 2016-05-12 | 주식회사 알에프디 | 반도체 제조용 감시장치 |
CN104730217B (zh) * | 2015-04-16 | 2016-09-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种玻璃基板的缺陷分布显示方法及显示装置 |
US11645744B2 (en) * | 2016-12-06 | 2023-05-09 | Mitsubishi Electric Corporation | Inspection device and inspection method |
JP7132042B2 (ja) * | 2018-09-10 | 2022-09-06 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP7330027B2 (ja) * | 2019-09-13 | 2023-08-21 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、および、基板処理方法 |
US11828713B1 (en) | 2022-06-30 | 2023-11-28 | Camtek Ltd | Semiconductor inspection tool system and method for wafer edge inspection |
CN115791807B (zh) * | 2023-01-09 | 2023-05-30 | 苏州高视半导体技术有限公司 | 用于检测晶圆缺陷的装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02210249A (ja) * | 1989-02-10 | 1990-08-21 | Hitachi Ltd | 外観検査方法および装置 |
JPH02298842A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-11 | Nippon Steel Corp | 欠陥検出方法 |
JPH1151622A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-02-26 | Hitachi Ltd | 異物検査方法および装置 |
JP2003243465A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-29 | Honda Electron Co Ltd | ウエーハ用検査装置 |
JP2005308464A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 |
JP2006047040A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Honda Motor Co Ltd | 表面状態判定装置およびプログラム |
JP2006170809A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 |
JP2006252563A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | 画像内の欠陥を検出する方法 |
JP2006329630A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6661912B1 (en) * | 1998-08-03 | 2003-12-09 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Inspecting method and apparatus for repeated micro-miniature patterns |
JP2000260699A (ja) * | 1999-03-09 | 2000-09-22 | Canon Inc | 位置検出装置及び該位置検出装置を用いた半導体露光装置 |
US20060029257A1 (en) * | 2004-08-03 | 2006-02-09 | Honda Motor Co., Ltd. | Apparatus for determining a surface condition of an object |
-
2008
- 2008-09-04 TW TW097133871A patent/TW200916764A/zh unknown
- 2008-09-04 KR KR1020107007171A patent/KR20100067659A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-09-04 CN CN200880105814A patent/CN101796399A/zh active Pending
- 2008-09-04 WO PCT/JP2008/065969 patent/WO2009031612A1/ja active Application Filing
- 2008-09-04 JP JP2009531272A patent/JPWO2009031612A1/ja not_active Ceased
-
2010
- 2010-03-05 US US12/718,355 patent/US20110064297A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02210249A (ja) * | 1989-02-10 | 1990-08-21 | Hitachi Ltd | 外観検査方法および装置 |
JPH02298842A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-11 | Nippon Steel Corp | 欠陥検出方法 |
JPH1151622A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-02-26 | Hitachi Ltd | 異物検査方法および装置 |
JP2003243465A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-29 | Honda Electron Co Ltd | ウエーハ用検査装置 |
JP2005308464A (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 |
JP2006047040A (ja) * | 2004-08-03 | 2006-02-16 | Honda Motor Co Ltd | 表面状態判定装置およびプログラム |
JP2006170809A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 |
JP2006252563A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | 画像内の欠陥を検出する方法 |
JP2006329630A (ja) * | 2005-05-23 | 2006-12-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100067659A (ko) | 2010-06-21 |
TW200916764A (en) | 2009-04-16 |
WO2009031612A1 (ja) | 2009-03-12 |
CN101796399A (zh) | 2010-08-04 |
US20110064297A1 (en) | 2011-03-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110901 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130115 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
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