JP5314393B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス素子 Download PDF

Info

Publication number
JP5314393B2
JP5314393B2 JP2008301300A JP2008301300A JP5314393B2 JP 5314393 B2 JP5314393 B2 JP 5314393B2 JP 2008301300 A JP2008301300 A JP 2008301300A JP 2008301300 A JP2008301300 A JP 2008301300A JP 5314393 B2 JP5314393 B2 JP 5314393B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
layer
light
emitting layer
organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008301300A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010129301A (ja
Inventor
慎也 田中
善伸 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2008301300A priority Critical patent/JP5314393B2/ja
Publication of JP2010129301A publication Critical patent/JP2010129301A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5314393B2 publication Critical patent/JP5314393B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子ということがある。)及びその製造方法、照明装置、面状光源及び表示装置に関する。
有機EL素子は一対の電極と該電極間に設けられる発光層を含んで構成される。有機EL素子に電圧を印加すると、陽極から正孔が注入されるとともに、陰極から電子が注入され、これら正孔と電子とが発光層において再結合することによって発光する。
有機EL素子は、例えば表示装置、および照明装置などの光源として用いられ、その特性として高い発光効率が求められている。有機EL素子は、発光層を1層含んで構成されるのが通常であるが、注入する電流に対する発光効率を向上させるために、マルチフォトン型の有機EL素子が提案されている。このマルチフォトン型の有機EL素子は、それぞれが発光層を備える複数の発光ユニットを積層した構成の有機EL素子である(例えば特許文献1参照)。
また表示装置および照明装置などでは、白色光を発光する有機EL素子が用いられることが多く、このような有機EL素子の1つとして、複数の種類の色素を分散させた1層の白色発光層を備える有機EL素子が開示されている(例えば、特許文献2参照)。表示装置および照明装置などでは、一般的に、明るさが変化したとしてもその色味が変化しないものが好ましく、従ってその光源として用いられる有機EL素子にも、印加する電圧の変化に対する色味の変化の少ないものが求められている。
特開2003−272860号公報 特開平07−220871号公報
しかしながら複数の種類の色素を分散させた白色発光層を備える従来の有機EL素子では、印加する電圧に対する色味の変化が大きく、また発光効率が低い。そこで白色光を発光する有機EL素子として、1層の白色発光層を備える構成の有機EL素子とは別に、互いに異なる色で発光する複数の発光層を積層した構成の有機EL素子を本発明者は検討した。
本発明は、前記従来技術が有する課題に鑑みてなされたものであり、その課題は、電極に印加する電圧の変化に対する色味の変化が少なく、かつ発光効率の高い有機エレクトロルミネッセンス素子、該有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた照明装置、面状光源、および照明装置を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明は、下記構成を採用した有機エレクトロルミネッセンス素子、および該有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた照明装置、面状光源、及び表示装置を提供する。
[1]陽極と、陰極と、前記陽極および陰極間に設けられ、かつそれぞれが発光層を含む複数の発光ユニットと、前記発光ユニットに挟持されて配置される電荷発生層とを有し、
前記電荷発生層は、仕事関数が3.0eV以下の金属およびその化合物(A)の1種類以上と、仕事関数が4.0eV以上の化合物(B)の1種類以上とを含み、前記発光ユニットの少なくとも一つは、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、前記陽極寄りに配置された複数の発光層を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
[2]前記電荷発生層が、前記金属およびその化合物(A)を1種類以上含む第1の層と、前記化合物(B)の1種類以上を含む第2の層とを含んで成り、前記第1の層が、第2の層よりも前記陽極寄りに配置されていることを特徴とする上記[1]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[3]前記電荷発生層は、前記金属およびその化合物(A)の1種類以上と、前記化合物(B)の1種類以上とが混合されて成る層であることを特徴とする上記[1]に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[4]波長550nmに対する前記電荷発生層の透過率が、30%以上であることを特徴とする上記[1]から[3]のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[5]前記仕事関数が3.0eV以下の金属が、アルカリ金属、及びアルカリ土類金属から成る群から選択されることを特徴とする上記[1]から[4]のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[6]前記仕事関数4.0eV以上の化合物が遷移金属酸化物であることを特徴とする上記[1]から[5]のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[7]各発光ユニットから放射される光の色が互いに異なることを特徴とする上記[1]から[6]のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[8]前記発光ユニットの少なくとも一つは、赤色の光を発する発光層と、緑色の光を発する発光層と、青色の光を発する発光層とを有し、かつ発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、前記陽極寄りに配置されていることを特徴とする上記[1]から[7]のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[9]前記第1電極と第2電極との間に印加する電圧を変化させたときの、外に取出される光の色度座標における座標値xと座標値yの変化の幅が、それぞれ0.05以下であることを特徴とする上記[1]から[8]のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
[10]上記[1]から[8]のうちのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えることを特徴とする照明装置。
[11]上記[1]から[8]のうちのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えることを特徴とする面状光源。
[12]上記[1]から[8]のうちのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えることを特徴とする表示装置。
本発明による有機EL素子は、マルチフォトン型の有機EL素子を構成するとともに、発光する光のピーク波長に応じて、各発光層を所定の順序で配置することにより、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化が少なく、かつ発光効率の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を実現することができる。
以下、本発明の実施の一形態の有機EL素子について、図面を参照しつつ説明する。なお、理解の容易のため、図面における各部材の縮尺は実際とは異なる場合がある。また、本発明は以下の記述によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。有機EL装置においては、電極のリード線等の部材も存在するが、本発明の説明にあっては直接的に要しないため記載を省略している。層構造等の説明の便宜上、下記例においては基板を下に配置した図と共に説明がなされるが、本実施の形態の有機EL素子及びこれを搭載した有機EL装置が、必ずしもこの配置で製造または使用等がなされるわけではない。
図1は、本発明の実施の一形態の有機EL素子11を示す側面図である。本実施の形態の有機EL素子11は、通常、基板10に設けられる。有機EL素子11は、陽極1と、陰極6と、陽極1および陰極6間に設けられ、かつそれぞれが発光層を含む複数の発光ユニットと、発光ユニットに挟持されて配置される電荷発生層40とを有し、前記発光ユニットの少なくとも一つは、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、前記陽極寄りに配置された複数の発光層を備えるものである。
本実施の形態の有機EL素子は、マルチフォトン型の有機EL素子であり、2個以上の発光ユニットを備える。有機EL素子のとりうる素子構成を以下に示す。
(i)陽極/発光ユニット/電荷発生層/発光ユニット/陰極
(ii)陽極/発光ユニット/(電荷発生層/発光ユニット)x/陰極
ここで記号「/」は、記号「/」を挟む層が隣接して積層されていることを表す。また記号「x」は、2以上の整数を表し、「(電荷発生層/発光ユニット)x」は、電荷発生層と発光ユニットとから成る積層体が、x段積層されていることを表す。なおマルチフォトン型の有機EL素子のうちで発光ユニットが2段積層されて構成される(i)の構成の素子を特にタンデム型の素子という。
本実施の形態における有機EL素子11は、第1の発光ユニット20及び第2の発光ユニット60の2個の発光ユニットと、これら2つの発光ユニット20、60に挟持される電荷発生層40とを備える。有機EL素子は、通常、(i)または(ii)の構成において、陽極が最も基板寄りとなる配置で基板上に設けられる。なお、有機EL素子は、(i)または(ii)の構成において、陰極が最も基板寄りとなる配置で基板上に設けられてもよい。本実施の形態の有機EL素子11は、基板10に、陽極1、第1の発光ユニット20、電荷発生層40、第2の発光ユニット60、陰極6がこの順に積層されて構成される。すなわち本実施の形態の有機EL素子11は(i)の構成の有機EL素子であり、いわゆるタンデム型の有機EL素子を構成する。
<基板>
本実施の形態の有機EL素子に用いられる基板10は、有機EL素子を形成する際に変化しないものであればよく、例えばガラス、プラスチック、シリコン基板、これらを積層したものなどが用いられる。基板としては、市販のものが使用可能である。また公知の方法により基板を製造することもできる。なお所定の電子回路が予め組み込まれた基板を用いてもよく、たとえばTFT(Thin Film Transistor)基板を用いてもよい。
<陽極>
有機EL素子は、発光ユニットから発生した光を外に取出す必要があるので、陽極および陰極のうちの少なくとも一方が透光性を有する電極によって構成される。本実施の形態では、陽極から光を取出す構成の有機EL素子について説明する。
本実施の形態の有機EL素子の陽極1としては、光透光性を示す電極が用いられ、かかる電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物および金属などの薄膜を用いることができ、光透過率の高いものが好適に用いられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、インジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられ、これらの中でもITO、IZO、または酸化スズから成る薄膜が好適に用いられる。陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法などを挙げることができる。また、該陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
なお例えば陽極から光を取出さない構成の有機EL素子の場合などには、光を反射させる材料を用いて陽極を形成してもよく、該材料としては、仕事関数3.0eV以上の金属、金属酸化物、金属硫化物が好ましい。
陽極の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nm〜10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。
<電荷発生層>
電荷発生層40は、陽極と陰極とに電圧を印加したときに、電荷(正孔と電子)を発生し、電荷発生層に対して陽極側に隣接する発光ユニットに電子を注入するとともに、電荷発生層に対して陰極側に隣接する発光ユニットに正孔を注入する層として機能する。陽極および陰極から注入される電荷に加えて、電荷発生層からも当該電荷発生層において発生する電荷が注入されるので、注入した電流に対する発光効率(電流効率)が向上する。
本実施の形態の有機EL素子11においては、電荷発生層40は、第1の発光ユニット20及び第2の発光ユニット60に狭持され、これら第1の発光ユニット20及び第2の発光ユニット60を仕切っている(図1参照)。
本実施の形態における電荷発生層40は、仕事関数が3.0eV以下の金属およびその化合物(A)の1種類以上と、仕事関数が4.0eV以上の化合物(B)の1種類以上とを含む。電荷発生層40は、前記仕事関数が3.0eV以下の金属およびその化合物(A)の1種類以上を単独で用いるよりも、前記仕事関数が4.0eV以上の化合物(B)の1種類以上と組合せて用いることにより、電荷を効率的に発生することができる。
仕事関数が3.0eV以下の金属の化合物(A)とは、金属の仕事関数が3.0eV以下であり、かつ化合物自体の仕事関数が3.0eV以下である化合物をさす。電荷発生層40に仕事関数が前記範囲を満たす材料が含まれていない場合、有効な電荷注入が起こりにくくなり本発明の効果が十分に得られないので好ましくない。
電荷発生層を構成する仕事関数が3.0eV以下の金属は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び希土類金属から成る群から選択することができる。中でもアルカリ金属及びアルカリ土類金属が好ましい。アルカリ金属としては、リチウム(Li)(2.93eV)、ナトリウム(Na)(2.36eV)、カリウム(K)(2.28eV)、ルビジウム(Rb)(2.16eV)、及びセシウム(Cs)(1.95eV)が好ましく、アルカリ土類金属としては、カルシウム(Ca)(2.9eV)及びバリウム(Ba)(2.52eV)が好ましい(カッコ内は仕事関数を示す。)。これらの中では、Liがより好ましい。また、電荷発生層を構成する仕事関数が3.0eV以下の金属の化合物(A)としては、前記の金属の酸化物、ハロゲン化物、フッ化物、ホウ化物、窒化物、炭化物等が挙げられる。
仕事関数が4.0eV以上の化合物(B)としては、仕事関数が4.0eV以上の無機又は有機化合物が選ばれる。仕事関数が4.0eV以上の無機化合物としては、遷移金属酸化物が望ましく、遷移金属酸化物の中でも、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、マンガン(Mn)、テクネチウム(Tc)、レニウム(Re)などの酸化物が好ましく、V25がより好ましい。
仕事関数が4.0eV以上の有機化合物としては、後の工程で用いられる塗布液に溶解しにくく、かつ仕事関数が3.0eV以下の金属およびその化合物(A)から電子を受け取りやすい電子受容性の材料が好ましい。さらに好ましくは、仕事関数が3.0eV以下の金属およびその化合物(A)と電荷移動錯体を形成することが好ましい。このような材料の例として、テトラフルオロ−テトラシアノキノジメタン(4F−TCNQ)が挙げられる。
電荷発生層は、以下の2通りの構造をとり得る。
(I)電荷発生層40が、前記金属およびその化合物(A)を1種類以上含む第1の層4−1と、前記化合物(B)を1種類以上含む第2の層4−2とを含む(積層構造:図1参照)。
(II)電荷発生層が、前記金属およびその化合物(A)の1種類以上と、前記化合物(B)の1種類以上とが混合されて成る層である(混合層)。
前記(I)の積層構造の場合には、図1に示すように、第1の層4−1を、第2の層4−2よりも陽極寄りに配置することが好ましい。
前記混合層を形成する方法としては、共蒸着などの手法により、2種類の材料が混合した層を一度に形成する方法や、第1の層を構成する材料を極めて薄く形成することにより、連続膜になる前の島状の離散的な構造を形成し、この構造の上に第2の層を形成することにより混合層とする方法を挙げることができる。
前記第1の層4−1の厚さは、本発明の効果を十分に得るためには、10nm以下が好ましく、より好ましくは6nm以下である。
前記第2の層4−2の厚さは、2nm以上100nm以下が望ましく、さらに望ましくは4nm以上80nm以下である。
また、本実施の形態の電荷発生層は、さらに第3の層として、透明導電性薄膜を含んでいてもよい。透明導電性薄膜としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)などを用いることができる。
本発明の電荷発生層の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、塗布法などを用いることができる。
本実施の形態の電荷発生層の光透過率は、発光層から放出される光に対して高い透過率を有することが望ましい。十分に光を取り出し、十分な輝度を得るためには、波長550nmでの透過率が30%以上であることが好ましく、さらに好ましくは50%以上である。
<発光ユニット>
次に発光ユニットについて説明する。発光ユニットは、少なくとも発光層を含んで構成される。なお発光ユニットは発光層のみによって構成されていてもよく、また無機層を含んでいてもよい。発光ユニットは、マルチフォトン型ではない発光層を1層備える通常の有機EL素子において、陽極と陰極とに挟持された部分と同様の構成を有する。
発光ユニットは、必要に応じて発光層以外の層を有している場合がある。発光ユニットを構成する層のうちで、発光層を基準にして陽極側に設けられる層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層などを挙げることができる。正孔注入層と正孔輸送層との両方の層が設けられる場合、電荷発生層または陽極に接する層を正孔注入層といい、この正孔注入層を除く層を正孔輸送層という。
正孔注入層は、電荷発生層または陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する層である。正孔輸送層は、陽極、電荷発生層、正孔注入層または陽極により近い正孔輸送層からの正孔注入を改善する機能を有する層である。電子ブロック層は、電子の輸送を堰き止める機能を有する層である。なお正孔注入層、及び/又は正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。
発光ユニットを構成する層のうちで、発光層を基準にして陰極側に設けられる層としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。電子注入層と電子輸送層との両方の層が設けられる場合、陰極に接する層を電子注入層といい、この電子注入層を除く層を電子輸送層という。
電子注入層は、陰極または電荷発生層からの電子注入効率を改善する機能を有する層である。電子輸送層は、陰極、電荷発生層、電子注入層または陰極により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。正孔ブロック層は、正孔の輸送を堰き止める機能を有する層である。なお電子注入層、及び/又は電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。
正孔ブロック層が正孔の輸送を堰き止める機能を有することは、例えばホール電流のみを流す素子を作製し、その電流値の減少で堰き止める効果を確認することが可能である。
発光ユニットのとりうる層構成の具体的な一例を以下に示す。
a)発光層
b)正孔注入層/発光層
c)正孔注入層/発光層/電子注入層
d)正孔注入層/発光層/電子輸送層
e)正孔注入層/発光層/電子輸送層/電子注入層
f)正孔注入層/正孔輸送層/発光層
g)正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層
h)正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層
i)正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層
j)発光層/電子注入層
k)発光層/電子輸送層/電子注入層
なお以上のa)〜k)の構成では、左側が陽極寄りの層であり、右側が陰極寄りの層である。
有機EL素子が有する複数の発光ユニットは、互いに同じ層構成であってもよく、また互いに異なる層構成であってもよい。また本実施の形態の有機EL素子は、複数の発光ユニットを備え、少なくとも1つの発光ユニットが複数の発光層を備えている。以下、複数の発光層が積層されて構成される積層体を発光部という。上記a)〜k)の構成では、発光層を1層のみ有する発光ユニットを示しているが、複数の発光層を有する発光ユニットの場合には、上記a)〜k)の構成において「発光層」を「発光部」に置換すればよい。「発光部」は、複数の発光層のみから構成されてもよく、また電荷発生層以外の所定の層(電荷注入層、電荷輸送層など)を備えていてもよい。図1に示す本実施の形態の第1の発光ユニット20は、b)の構成において「発光層」を「発光部」に置換した構成、すなわち正孔注入層2と第1の発光部30とが積層された構成を有し、第2の発光ユニット60は、前記a)の構成において「発光層」を「発光部」に置換した構成、すなわち第2の発光部50のみから構成されている。
以下、発光ユニットを構成する各層についてさらに詳しく説明する。
<正孔注入層>
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、および酸化アルミニウムなどの酸化物や、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、アモルファスカーボン、ポリアニリン、およびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
正孔注入層の成膜方法としては、例えば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、正孔注入材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。
溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法などの塗布法を挙げることができる。
正孔注入層の膜厚は、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように適宜設定され、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなるので好ましくない。従って正孔注入層の膜厚は、例えば1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。
<正孔輸送層>
正孔輸送層を構成する材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などが例示される。
これらの中で、正孔輸送層に用いる正孔輸送材料として、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体等の高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。
正孔輸送層の成膜の方法に制限はないが、低分子正孔輸送材料では、高分子バインダーとの混合溶液からの成膜による方法が例示される。また、高分子正孔輸送材料では、溶液からの成膜による方法が例示される。
溶液からの成膜に用いる溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はない。該溶媒として、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル系溶媒が例示される。
溶液からの成膜方法としては、溶液からのスピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の印刷法等の塗布法を用いることができる。パターン形成が容易であるという点で、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の印刷法が好ましい。
混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収が強くないものが好適に用いられる。該高分子バインダーとして、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサン等が例示される。
正孔輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該正孔輸送層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。
<発光部>
本発明では、複数の発光ユニットの少なくとも一つは、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、前記陽極寄りに配置された複数の発光層を備える。
図2は、図1に示す有機EL素子における発光部の構成の一例をさらに具体的に示した図である(なお基板10は省略している。)。図2に示す有機EL素子11−1の例では、第1の発光部30は、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、陽極1寄りに配置された3層の発光層3R、3G、3Bが積層されて構成される。具体的には、第1の発光部30は、陽極1側から順に、赤色を発光する発光層(以下、赤色発光層という場合がある)3Rと、緑色を発光する発光層(以下、緑色発光層という場合がある)3Gと、青色を発光する発光層(以下、青色発光層という場合がある)3Bとがこの順で積層されて構成される。
また、第2の発光部50は、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、陽極1寄りに配置された3層の発光層5R、5G、5Bが積層されて構成され、陽極1側から順に、赤色発光層5R、緑色発光層5G、青色発光層5Bとがこの順で積層されて構成される。
第1および第2の発光部30、50において、赤色発光層3R(5R)は、発光層を構成する3つの発光層の中で、発光する光のピーク波長が最も長いので、3つの発光層の中で最も陽極1寄りに配置され、緑色発光層3G(5G)は、3つの発光層の中で、発光する光のピーク波長が真中なので、3つの発光層の真中に配置され、青色発光層3B(5B)は、3つの発光層の中で、発光する光のピーク波長が最も短いので、3つの発光層の中で最も陰極6寄りに配置される。
なお、発光層の発光するピーク波長とは、発光する光を波長領域で見たときに、最も強い光強度となる波長のことである。
前記赤色発光層3R(5R)としては、発光する光のピーク波長が、例えば580nm〜660nmのものが用いられ、好ましくは600〜640nmのものが用いられる。前記緑色発光層3G(5G)としては、発光する光のピーク波長が、例えば500nm〜560nmのものが用いられ、好ましくは520nm〜540nmのものが用いられる。前記青色発光層3B(5B)としては、発光する光のピーク波長が、例えば400nm〜500nmのものが用いられ、好ましくは420nm〜480nmのものが用いられる。
このようなピーク波長で発光する3つの発光層からそれぞれ発光される光を重ね合わせると、白色光となる。よって、発光部が赤色発光層、緑色発光層、および青色発光層の3層で構成される本実施の形態の有機EL素子は、全体として白色光を発する。
また、なお図2では、各発光ユニット20、60がそれぞれ3層の発光層を備えるタンデム型の有機EL素子11−1を示すが、この構造に限らずに、例えば図3〜図6に示すようなタンデム型の有機EL素子がある。
図3に示す有機EL素子11−2は、図2に示す有機EL素子11−1において、第1の発光部30を2層の発光層により構成したタンデム型の素子である。具体的には、図3に示すように、第1の発光部30は、陽極1側から順に、赤色発光層3Rと、青色発光層3Bとの2層がこの順で積層されて構成される。
なお、第2の発光部50の構成は図2の有機EL素子11−1と同様である。
図3に示す有機EL素子11−2において、第1の発光部30の他の積層構成としては、1)陽極1側から順に、緑色発光層3Gと青色発光層3Bとの積層構成と、2)陽極1側から順に、赤色発光層3Rと緑色発光層3Gと積層構成とを挙げることができる。
図4に示す有機EL素子11−3は、図2に示す有機EL素子11−1において、第1および第2の発光部30、50をそれぞれ2層の発光層により構成したタンデム型の素子である。具体的には、図4に示すように、第1の発光部30は、陽極1側から順に、緑色発光層3Gと青色発光層3Bとの2層がこの順で積層されて構成される。
また、第2の発光部50は、陽極1側から順に、赤色発光層5Rと青色発光層5Bとがこの順で積層されて構成される。
図4に示す有機EL素子において、第1の発光部30の他の積層構成としては、前記以外に、1)陽極1側から順に、赤色発光層3Rと緑色発光層3Gとの積層構成と、2)陽極1側から順に、緑色発光層3Gと青色発光層3Bとの積層構成とを挙げることができる。また第2の発光部50の他の積層構成としては、前記以外に、1)陽極1側から順に、赤色発光層5Rと緑色発光層5Gとの積層構成と、2)陽極1側から順に、緑色発光層5Gと青色発光層5Bとの積層構成がある。よって、2層×2層(記号「×」の左側が第1の発光ユニットの発光層の層数を表し、記号「×」の右側が第2の発光ユニットの発光層の積層数を表す。以下同じ。)のマルチフォトン型の有機EL素子としては、3×3の9通りの素子構成がある。
図5に示す有機EL素子11−4は、第1の発光ユニットが1層の発光層を有し、第2の発光ユニットが2層の発光層を有する1層×2層のマルチフォトン型の素子である。具体的には、第1の光ユニット20に含まれる発光層は、赤色発光層3R、緑色発光層3G、青色発光層3Bのいずれか1層から構成され、図5では、第1の発光ユニット20が緑色発光層3Gを含んで構成される例を示している。また、第2の発光部50は、陽極1側から順に、赤色発光層5Rと青色発光層5Bとがこの順で積層されて構成される。
図5に示す1層×2層のマルチフォトン型の有機EL素子において、第2の発光部50の他の積層構成としては、前記以外に、1)陽極1側から順に、赤色発光層5Rと緑色発光層5Gとの積層構成と、2)陽極1側から順に、緑色発光層5Gと青色発光層5Bとの積層構成がある。
よって、1層×2層のマルチフォトン型の有機EL素子としては、3×3の9通りの素子構成がある。なお、白色となる組合せは3通りとなる。
図6に示す有機EL素子11−5は、第1の発光ユニット20が1層の発光層を有し、第2の発光ユニット60が3層の発光層を有する1層×3層のマルチフォトン型の素子である。具体的には、第1の光ユニットに含まれる発光層は、赤色発光層3R、緑色発光層3G、青色発光層3Bのいずれか1層から構成され、図6では、第1の発光ユニット20が緑色発光層3Gを含んで構成される例を示している。また、第2の発光部50は、陽極1側から順に、赤色発光層5Rと緑色発光層5Gと青色発光層5Bとがこの順で積層されて構成される。
よって、1層×3層のマルチフォトン型の有機EL素子としては、3×1の3通りの素子構成がある。
各発光層は、本実施の形態ではそれぞれ塗布法によって形成される。塗布により形成された各発光層は、次に形成される発光層の塗布液が表面上に塗布される前において、塗布される塗布液に対して不溶化される。具体的には、赤色発光層3R(5R)、緑色発光層3G(5G)、青色発光層3B(5B)をこの順に塗布法により成膜する場合、緑色発光層3G(5G)を塗布法によって成膜する前に、赤色発光層3R(5R)を不溶化させ、さらに、青色発光層3B(5B)を塗布法によって成膜する前に、緑色発光層3G(5G)を不溶化させる。
不溶化される発光層を構成する材料の少なくとも一部は、エネルギーを加えることによって架橋する。このような材料を含む塗布液を塗布して成膜した後に、エネルギーとして光または熱を加え、架橋させることによって膜を不溶化することができる。
なお、不溶化される発光層を主に構成する材料が、エネルギーを加えることによって架橋する材料を用いて発光層を形成してもよく、また、不溶化される発光層を構成する材料のうちの、発光層を主に構成する材料を除く残余の材料の少なくとも一部が、エネルギーを加えることによって架橋する材料を用いて発光層を形成してもよい。
後者の場合、塗布液には、発光層を主に構成する材料の他に、エネルギーを加えることによって架橋する架橋剤がさらに加えられる。
なお、発光層を主に構成する材料が、エネルギーを加えることによって架橋するものであれば、塗布液に架橋剤を加える必要がない。
発光層を主に構成する材料は、発光層において質量濃度の最も高い材料であり、発光層を構成する材料のうちで、蛍光、及び/又は燐光を発光する材料(以下、発光材料という場合がある)に相当する。
発光層を主に構成する材料として、エネルギーを加えることによって架橋するものを用いる場合、エネルギーを加えることによって架橋する基(以下、架橋基という)を含む高分子化合物を用いればよい。
前記架橋基としては、ビニル基などを挙げることができる。前記発光層を主に構成する材料として、具体的には、ベンゾシクロブタン(BCB)から少なくとも1つの水素原子を除いた残基を主鎖及び/又は側鎖に含む高分子化合物を用いたものを挙げることができる。
また、前記発光層を主に構成する材料の他に、塗布液に加える架橋剤としては、ビニル基、アセチル基、ブテニル基、アクリル基、アクリルアミド基、メタクリル基、メタクリルアミド基、ビニルエーテル基、ビニルアミノ基、シラノール基、シクロプロピル基、シクロブチル基、エポキシ基、オキセタン基、ジケテン基、エピスルフィド基、ラクトン基、及びラクタム基からなる群から選ばれる重合可能な置換基を有する化合物を挙げることができる。かかる架橋剤用の化合物としては、例えば多官能アクリレートが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)およびトリスペンタエリスリトールオクタアクリレート(TPEA)などがさらに好ましい。
各発光層は、蛍光及び/又は燐光を発光する有機物、若しくは該有機物と、ドーパントとを含んで構成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的で付加される。各発光層を主に構成する発光材料としては、例えば以下のものが挙げられる。
色素系の発光材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびピラゾリンダイマーなどを高分子化したものを挙げることができる。
金属錯体系の発光材料としては、中心金属に、Al、Zn、Beなど、またはTb、Eu、Dyなどの希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを有する金属錯体を高分子化したものを挙げることができ、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体などを高分子化したものを挙げることができる。
高分子系の発光材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、およびポリビニルカルバゾール誘導体などを挙げることができる。
赤色発光層3R(5R)を主に構成する発光材料としては、前述の発光材料のうち、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることが出来る。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
緑色発光層3G(5G)を主に構成する材料としては、前述の発光材料のうち、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、チオフェン環化合物およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
青色発光層3B(5B)を主に構成する材料としては、前述の発光材料のうち、ジスチリルアリーレン誘導体、及び/又はオキサジアゾール誘導体の重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
各発光層を主に構成する発光材料としては、前述の発光材料の他に、例えば発光効率の向上や発光波長を変化させるなどの目的でドーパント材料をさらに含んでいてもよい。このようなドーパント材料としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。
各発光層は、前述した正孔注入層を成膜する方法と同様の方法によって形成することができる。具体的には、正孔注入材料を溶解する溶媒と同様の溶媒に、発光層3R、3G、3Bを構成する材料を溶解した塗布液を、前述した慣用の塗布法によって塗布することで成膜することができる。
図2に示す有機EL素子11−1では、まず、正孔注入層2上に赤色発光層3Rを成膜する。具体的には前述した赤色発光層3Rを構成する材料を溶解した塗布液を、慣用の塗布法によって正孔注入層2の表面上に塗布する。次に、塗布した膜を加熱または光照射することによって、架橋した赤色発光層3Rを得る。このように架橋した赤色発光層3Rは、緑色発光層3Gを形成するために塗布液を塗布したとしても、溶出しない。
次に、緑色発光層3Gを成膜する。具体的には前述した緑色発光層3Gを構成する材料を溶解した塗布液を、慣用の塗布法によって赤色発光層3Rの表面上に塗布する。次に、塗布した膜を加熱または光照射することによって、架橋した緑色発光層3Gを得る。このように架橋した緑色発光層3Gは、青色発光層3Bを形成するために塗布液を塗布したとしても、溶出しない。
次に、青色発光層3Bを成膜する。具体的には前述した青色発光層3Bを構成する材料を溶解した塗布液を、慣用の塗布法によって緑色発光層3Gの表面上に塗布して、乾燥させることによって青色発光層3Bを得る。
このように、塗布液が塗布される発光層を塗布液に対して予め不溶化させることによって、先に形成された発光層の表面に、次に形成される発光層の塗布液を塗布したときに、先に形成されていた発光層が溶解してしまうことを防ぐことができる。これによって、各発光層の膜厚の制御が容易になり、意図した膜厚の発光層を容易に形成することができる。
この第1の発光ユニット20を成膜した後、電荷発生層40を成膜し、その後第2の発光ユニット60を構成する発光層5R、5G、5Bを第1の発光ユニットと同様に成膜する。
発光層を構成する各発光層の層厚は、陽極1側に配置される発光層ほど、層厚が薄い方が好ましい。具体的には、赤色発光層3R(5R)の層厚よりも、緑色発光層3G(5G)の層厚が厚く、緑色発光層3G(5G)の層厚よりも、青色発光層3B(5B)の層厚が厚い方が好ましい。さらに具体的には、赤色発光層3R(5R)の層厚は、5nm〜20nmが好ましく、さらに好ましくは、10nm〜15nmである。また緑色発光層3G(5G)の層厚は、10nm〜30nmが好ましく、さらに好ましくは、15nm〜25nmである。また青色発光層3B(5B)の層厚は、40nm〜70nmが好ましく、さらに好ましくは、50nm〜65nmである。このように、各発光層3R(5R)、3G(5G)、3B(5B)の層厚を設定することによって、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化が少なく、かつ駆動電圧の低い、高効率で発光する有機EL素子を実現することができる。
また、発光部30(50)を構成する各発光層は、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、陽極1寄りに配置されるので、各発光層の層厚を設定することによって、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化の少なく、かつ駆動電圧の低い有機EL素子を実現することができる。
なお、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、最高占有分子軌道(Highest Occupied Molecular Orbital:略称HOMO)および最低非占有分子軌道(Lowest Unoccupied Molecular Orbital:略称LUMO)がそれぞれ低い傾向にある。したがって発光する光のピーク波長が長い発光層ほど陽極1寄りに配置された本実施の形態の有機EL素子では、HOMOおよびLUMOが低い発光層ほど、陽極1寄りに配置される。このように陽極1から離間する発光層ほどHOMOおよびLUMOが順次高くなる配置となるので、発光層間において正孔および電子を効率的に輸送することができ、結果として電極に印加する電圧の変化に対して色味の変化が少なく、かつ駆動電圧の低い有機EL素子を実現することができるものと推測される。確かにマルチフォトン型の有機EL素子を構成することにより、それだけで発光効率を向上することは可能であるが、複数の発光ユニットを単に積層したマルチフォトン型の有機EL素子を構成するのではなく、以上説明したように各発光ユニットに含まれる複数の発光層の積層順を考慮して、所定の積層順で発光層を積層することにより、結果として電極に印加する電圧の変化に対して色味の変化が少なく、かつ発光効率の高いマルチフォトン型の有機EL素子を実現することができる。
このような構成の有機EL素子では、陽極と陰極との間に印加する電圧を変化させたときの、外に取出される光の色度座標における座標値xと座標値yの変化の幅が、それぞれ0.05以下の有機EL素子を実現することができる。ここで、印加する電圧を変化させるときの範囲は、通常、輝度が100cd/m〜10000cd/mとなる範囲であり、少なくとも4000cd/m〜6000cd/mとなる範囲である。
ここで、外に取出される光は、各発光層3R(5R)、3G(5G)、3B(5B)からの光が重ね合わされた光のことであり、本実施の形態における色度座標とは、国際照明委員会(CIE)の定めるCIE1931のことである。
図2に示す実施形態では、第1および第2の発光部30(50)は、3つの発光層3R(5R)、3G(5G)、3B(5B)が積層されて構成され、全体として白色を発光するとしたけれども、本実施の形態の各発光層3R(5R)、3G(5G)、3B(5B)の発光する波長とは異なる波長の光を発する発光層をそれぞれ設けて、例えば白色とは異なる波長の光を発する発光層を構成してもよく、また、発光部30を、4層以上の発光層で構成してもよい。各発光層の発光する光の色は、それぞれの有機EL素子から取出される光の色に応じて、適宜選択される。
なお、有機EL素子から取出される光の色が、白色であっても、白とは異なる色であっても、また発光部の層数が3層であっても、4層以上であったとしても、各発光部において、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど陽極1寄りに配置することによって、電極に印加する電圧の変化に対して、色味の変化が少なく、かつ高効率で発光する有機EL素子を実現することができる。
(混色、白色)
本実施の形態の有機EL素子は、同時に発光する複数の発光ユニットを含むため、各発光ユニットから放射される光の色を互いに異なるようにすることによって、混色により有機EL素子から取出される光の色を、各発光ユニットからそれぞれ発せられる光の色とは別の色とすることが可能である。例えば補色の関係にある2色の組合せや、RGBなど3色の混色、又は4色以上の混色によって、取出される光の色を白色とすることができる。このように各発光ユニットの発光色を互いに異ならせることによって、所期の発光色を取出すことができるので、設計の自由度が向上する。
<電子輸送層>
電子輸送層としては、公知のものが使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が例示される。
これらのうち、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。
電子輸送層の成膜法としては特に制限はないが、低分子電子輸送材料では、粉末からの真空蒸着法、又は溶液若しくは溶融状態からの成膜による方法が、高分子電子輸送材料では溶液又は溶融状態からの成膜による方法がそれぞれ例示される。溶液又は溶融状態からの成膜時には、高分子バインダーを併用してもよい。溶液から電子輸送層を成膜する方法としては、前述の溶液から正孔輸送層を成膜する方法と同様の成膜法があげられる。
電子輸送層の膜厚としては、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。従って、該電子輸送層の膜厚としては、例えば1nmから1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。
<電子注入層>
電子注入層は、電子輸送層と陰極との間、または発光層と陰極との間に設けられる。電子注入層としては、発光層の種類に応じて、アルカリ金属やアルカリ土類金属、或いは前記金属を1種類以上含む合金、或いは前記金属の酸化物、ハロゲン化物及び炭酸化物、或いは前記物質の混合物などが挙げられる。アルカリ金属またはその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウム等が挙げられる。また、アルカリ土類金属またはその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。電子注入層は、2層以上を積層したものであってもよい。具体的には、LiF/Caなどが挙げられる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法等により形成される。電子注入層の膜厚としては、1nm〜1μm程度が好ましい。
<陰極>
本実施の形態の有機EL素子で用いる陰極の材料としては、仕事関数が小さく発光層への電子注入が容易な材料であり、電気伝導度が高く、可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極の材料として金属では、アルカリ金属やアルカリ土類金属、遷移金属や周期表の13族金属を用いることができる。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、又は前記金属のうち2つ以上の合金、又はそれらのうち1つ以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち1つ以上との合金、又はグラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などが挙げられる。また、陰極として透明導電性電極を用いることができ、例えば導電性金属酸化物や導電性有機物などを用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ITOやIZO、導電性有機物としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。なお、陰極を2層以上の積層構造としてもよい。なお、電子注入層が陰極として用いられる場合もある。
陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、例えば10nmから10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。
陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を圧着するラミネート法等が用いられる。
(キャビティ効果)
積層する層の順番や数、及び各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜用いることができるが、キャビティ効果(光の干渉効果)を考慮することが好ましい。具体的には、陽極と陰極とに挟持された構造物の厚さが、発光ユニットから発生する光の波長を前記構造物の平均屈折率で割った値の1/4の整数倍であることが好ましい。このような関係が満足される構成では、光の干渉効果により光取り出し効率が最大となるためである。この関係は厳密に成立しているときに効果が最大となるが、誤差はあっても効果は認められ、おおむね構造物の厚さが、発光波長を平均屈折率で割った値の1/4の整数倍の±20%以内であればよい。さらに実質的に発光している部位と、光を反射する方の反射性電極(本実施の形態では陰極)との距離が、発光波長を平均屈折率で割った値の1/4の整数倍となる場合に光の干渉効果が最大となるので好ましい。有機EL素子が、発光色が異なる複数の発光ユニットからなる場合は、どれか一つの波長に対して前記の関係が成り立つように膜厚を制御することが好ましい。あるいは2つの波長に対して前記層厚の関係が同時に成り立つように層厚を制御してもよい。
本発明の有機EL装置は、前記本発明の有機EL素子が実装された装置であり、具体的には光源装置、表示装置、および照明装置である。
本実施の形態の有機EL素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。また、パターン状の発光を得るためには、前記面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極または陰極のいずれか一方、または両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にOn/OFFできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示素子が得られる。更に、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる発光材料を塗り分ける方法や、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス素子は、パッシブ駆動も可能であるし、TFTなどと組み合わせてアクティブ駆動してもよい。これらの表示素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。
さらに、前記面状の発光素子は、自発光薄型であり、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、あるいは面状の照明用光源として好適に用いることができる。また、フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源や表示装置としても使用できる。
本発明の実施の形態の有機EL素子は、陽極と陰極との間に印加する電圧を変化させたときの、取出される光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下なので、色味の変化が少なく、上述のような面状光源、照明装置、および表示装置に好適に用いられる。
特に、照明装置としては、陽極と陰極との間に印加する電圧を変化させることによって明るさを調整したときに、色味が変化しないものが好ましく、照明装置からの光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下のものが好ましいので、本発明の実施の形態の有機EL素子が照明装置に好適に用いられる。
また、同様に、ドットマトリックス表示装置および液晶表示装置のバックライトとしては、明るさを調整したときに、色味が変化しないものが好ましく、バックライトからの光の色度座標における座標値xと、座標値yとの変化の幅が、それぞれ0.05以下のものが好ましいので、本発明の実施の形態の有機EL素子がバックライトに好適に用いられる。
以下、作製例及び参考例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の例示に限定されるものではない。
作製例1〜2及び参考例1〜4では、2つの発光ユニットを1つの電荷発生層で仕切った構造の有機EL素子を作製した。作製例1〜2では、仕事関数4.0eV以上のV25を用いて電荷発生層を形成し、その効果を確認した。
<作製例1> (ITO/PEDOT/MEH−PPV/Li/V25/MEH−PPV/LiAl)
作製例1における有機EL素子の作製例を、図1を参照しながら説明する。図1に示す有機EL素子11において、陽極1として利用するITO膜を、スパッタ法により150nmの厚みで形成したガラス基板10に、BYTRON製のPEDOT/PSS溶液をスピンコート法により40nmの厚みで製膜し、窒素雰囲気下において200℃で熱処理して正孔注入層2とした。ついで、これに発光材料としてAldrich社製の重量平均分子量が約20万のMEH−PPV(ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチル−ヘキシロキシ)−パラ−フェニレンビニレン)の1重量%トルエン溶液を作製し、これをPEDOT/PSSが製膜された基板上にスピンコートして90nmの膜厚で第1の発光層を製膜した。正孔注入層2と第1の発光層を併せて第1の発光ユニット20とする。
この上に真空蒸着法により、電荷発生層40としてLi(仕事関数:2.93eV)、V25(仕事関数:4eV以上)を順次それぞれ、2nm、20nmの厚みで形成し、第1の層4−1、第2の層4−2とした。ここでLiの蒸着はAl−Li合金(Li含有率0.05%)を用い、Alが飛びはじめる前の数十秒間、先に飛ぶLiのみを蒸着することで行い、その直後にV25の蒸着を行った。
さらに、V25膜上に、MEH−PPVの1重量%トルエン溶液をスピンコートして、90nmの膜厚で第2の発光部(第2の発光ユニット)50を製膜した。さらにこの上に真空蒸着法により陰極6としてAl−Li合金を100nm形成した。以上により2つの発光ユニットを1つの電荷発生層で仕切った構造の有機EL素子を作製した。
得られた素子に直流電圧を印加したところ、発光開始電圧12V、最大輝度80cd/m2であった。
電流効率は0.072cd/Aであり、下記の比較例1の素子(0.037cd/A)に比べて1.95倍に増大した。
<参考例1>
比較のために、作製例1において電荷発生層40と第2の発光ユニット60を設けない以外は作製例1と同様にして、図7に示すように発光ユニットが1つだけのITO/PEDOT/発光層3/陰極(Li/Al)から成る有機EL素子21を作製した。図7中の符号は、図1におけるものと同様である。
参考例1における有機EL素子21に直流電圧を印加したところ、発光開始電圧5.5V、最大輝度52cd/m2であった。電流効率は0.037cd/Aであった。
<参考例2>
電荷発生層として、膜厚30nmのV25の1層のみからなるものを用いたことを除いて、作製例1と同様にして有機EL素子を作製した。得られた素子に40Vの電圧を印加したが、発光しなかった。
<作製例2>(異なる色の発光ユニットの積層からなる混色素子)
作製例1における発光層であるMEH−PPVの代わりに、緑色の光を発光する下記構造式(1)で示す高分子発光材料1(略称F8−TPA−BT)からなる高分子発光層を含む第1の発光ユニット20と、電荷発生層40とを形成した後、PEDOT/PSS層を形成し、引き続いて青色の光を発光する下記構造式(2)で示す高分子発光材料2(略称F8−TPA−PDA)からなる高分子発光層を含む第2の発光ユニット60を製膜した後、作製例1と同様にして陰極を形成して、二つの発光ユニットからの発光波長が異なる発光素子を作製した。
高分子材料1
Figure 0005314393
高分子材料2
Figure 0005314393
<参考例3、4> (作製例2の比較、緑と青の発光層のみからなる単一素子)
作製例2との比較のため、参考例2と同様にITO/PEDOT/発光層/陰極(Li/Al)の構造の発光ユニット1つからなる素子を作製した。ここで参考例3では、発光層に緑色発光層材料F8−TPA−BTを用い、参考例4では、発光層に青色発光材料F8−TPA−PDAを用いた。
比較例3、4の駆動電圧はそれぞれ3.6V、5.4Vであるのに対し、作製例2では8.0Vとなり2つのユニットを積層した素子の予想に近い電圧を示した。また作製例2の素子では2つの層からの混色により、スペクトルが広くなり白がかった緑色の発光が得られた。
<作製例3>
この作製例3では、発光する光のピーク波長が異なる複数の発光層を所定の順序で配置することによる効果を確認するために、1つの発光ユニットを備える有機EL素子ではあるが、発光部を赤、緑、青に発光する3つの発光層から構成し、これら発光層を陽極から陰極に向けて、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層の順に配置した有機EL素子を製造した。
支持基板としては、ガラス基板を用い、このガラス基板上にスパッタリング法によって成膜され、所定の形状にパターニングされたITO膜を陽極として用いた。陽極としては、厚みが150nmのものを用いた。陽極が形成された基板を、アルカリ洗剤および超純水で洗浄し、乾燥させた後に、UV−O3装置(テクノビジョン株式会社製、商品名「モデル312 UV−O3クリーニングシステム」)を用いてUV−O3処理を行った。
次に、ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(HC スタルクヴィテック社製、商品名「BaytronP TP AI4083」)の懸濁液を、孔径が0.2μmのメンブランフィルターで濾過した。濾過して得られた液体を、スピンコートすることによって、陽極上に薄膜を形成した。次に、ホットプレート上において200℃で10分間加熱する処理を行い、膜厚が70nmの正孔注入層を得た。
次に、赤色発光層を前記正孔注入層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、赤色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「PR158」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、正孔注入層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が10nmの赤色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を架橋させて、次に塗布される塗布液に対して赤色発光層を不溶化した。
次に緑色発光層を前記赤色発光層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、緑色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、製品名「Green1300」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を、4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、前記赤色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が15nmの緑色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を架橋させて、次に塗布される塗布液に対して緑色発光層を不溶化した。
次に青色発光層を前記緑色発光層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、青色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「BP361」)を用いて塗布液を調合した。塗布液における青色発光材料の割合を、1.5質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、前記緑色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において130℃で20分間加熱して、膜厚が55nmの青色発光層を得た。なお、各発光層の厚み方向に垂直な平面で切った断面の形状は、2mm×2mmの正方形とした。
次に、上述のようにして青色発光層を成膜した基板を、真空蒸着気に導入して、バリウムを青色発光層上に蒸着させて、膜厚が約5nmのバリウムからなる薄膜を形成し、さらにバリウムからなる薄膜上にアルミニウムを蒸着させて、膜厚が約80nmのアルミニウムからなる薄膜を形成して、バリウムからなる薄膜と、アルミニウムからなる薄膜との積層体によって構成される陰極を形成した。なお、真空度が5×10-5Pa以下に達してから、バリウムおよびアルミニウムの蒸着を開始した。
<参考例5>
参考例5として、白色の波長領域で発光する一層の発光層(以下、白色発光層という場合がある)を備える有機EL素子を作製した。白色発光層以外の製造工程は、前記作製例3の有機EL素子の製造工程と同じなので、重複する説明を省略して、白色発光層の製造工程についてのみ説明する。
まず、溶媒としてキシレンを用い、白色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「WP1330」)を用いて塗布液を調合した。塗布液における発光材料の割合は、1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、正孔注入層が形成された基板上にスピンコートすることによって、正孔注入層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において130℃で20分間加熱して、膜厚が80nmの白色発光層を得た。
<参考例6>
参考例6として、赤色発光層、緑色発光層、および青色発光層の3層の積層順のみが、作製例3の有機EL素子とは異なる有機EL素子を作製した。陽極に最も近い層に、青色発光層を配置し、真中の層に、緑色発光層を配置し、陰極に最も近い層に赤色発光層を配置した。赤色発光層、緑色発光層、および青色発光層以外の製造工程は、作製例2の有機EL素子の製造工程と同じなので、赤色発光層、緑色発光層、および青色発光層の製造工程についてのみ説明する。
まず青色発光層を正孔注入層上に積層した。塗布液の溶媒としてキシレンを用い、青色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「BP361」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を、4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、正孔注入層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において130℃で20分間加熱して、膜厚が55nmの青色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を架橋させて、次に塗布される塗布液に対して青色発光層不溶化した。
次に緑色発光層を前記青色発光層に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、緑色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、製品名「Green1300」)を用い、架橋剤として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、商品名「KAYARAD DPHA」)を用いて塗布液を調合した。発光材料と架橋剤との重量比を、4:1とし、発光材料と架橋剤とを合わせた材料の塗布液における割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、前記青色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が15nmの緑色発光層を得た。このような加熱処理を行うことによって、薄膜を乾燥させて溶媒を除去するとともに、架橋剤を架橋させて、次に塗布される塗布液に対して緑色発光層を不溶化した。
次に赤色発光層を前記緑色発光層上に積層した。まず、溶媒としてキシレンを用い、赤色発光層を主に構成する材料として、発光材料(サメイション社製、商品名「PR158」)を用いて塗布液を調合した。塗布液における発光材料の割合を1.0質量%とした。このようにして得られた塗布液を、スピンコートすることによって、前記緑色発光層上に薄膜を形成した。次に、窒素雰囲気において200℃で20分間加熱して、膜厚が10nmの赤色発光層を得た。
(発光波長の異なった複数の発光層の所定順の配置による効果の評価)
作製例3、参考例5、参考例6の各有機EL素子にそれぞれ電圧を印加して、輝度および色度を測定した。測定では、印加する電圧を段階的に変化させ、印加する電圧毎に輝度および色度を測定した。測定結果を(表1)に示す。
Figure 0005314393
印加する電圧を変えて輝度を100cd/m2〜10000cd/m2まで変化させたときの、作製例3、参考例5、参考例6の各有機EL素子のCIE色度座標における座標値x、yのそれぞれの変化幅を下記(表2)に示す。
Figure 0005314393
(表1)および(表2)に示すように、作製例3の有機EL素子は、印加する電圧を変えて輝度を100cd/m2〜10000cd/m2まで変化させたときの、取出される光の色度座標における座標値xと座標値yの変化の幅が、それぞれ0.016以下であった。
(表1)に示すように、作製例3の有機EL素子は、3層の発光層を設けることによって、1層の発光層のみからなる参考例1の有機EL素子よりも電流効率の最大値が向上した。
また、作製例3の有機EL素子は、3層の発光層を所定の配置にすることによって、参考例6の有機EL素子よりも電流効率の最大値が向上した。
また、(表2)に示すように、作製例3の有機EL素子は、3層の発光層を設けることによって、1層の発光層のみからなる参考例5の有機EL素子よりも、電圧の変化に対する色味の変化が少なかった。また、作製例3の有機EL素子は、3層の発光層を所定の配置にすることによって、参考例6の有機EL素子よりも、電圧の変化に対する色味の変化が少なかった。
本実施の形態における有機EL素子を示す側面図である。 本実施の形態における他の有機EL素子を示す側面図である。 本実施の形態における他の有機EL素子を示す側面図である。 本実施の形態における他の有機EL素子を示す側面図である。 本実施の形態における他の有機EL素子を示す側面図である。 本実施の形態における他の有機EL素子を示す側面図である。 比較例1における有機EL素子を示す側面図である。
符号の説明
1 陽極
2 正孔注入層
3 発光層
20 第1の発光ユニット
30 第1の発光部
40 電荷発生層
4−1 第1の層
4−2 第2の層
50 第2の発光部
60 第2の発光ユニット
6 陰極
10 基板
11、11−1〜11−5 有機EL素子

Claims (12)

  1. 陽極と、陰極と、前記陽極および陰極間に設けられ、かつそれぞれが発光層を含む複数の発光ユニットと、前記発光ユニットに挟持されて配置される電荷発生層とを有し、
    前記電荷発生層は、仕事関数が3.0eV以下の金属およびその化合物(A)の1種類以上と、仕事関数が4.0eV以上の化合物(B)の1種類以上とを含み、
    前記発光ユニットの少なくとも一つは、発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、前記陽極寄りに配置された複数の発光層を備え、かつ陽極側から陰極に向けて、HOMOの絶対値に負号を付した値およびLUMOの絶対値に負号を付した値が順次高くなるように各発光層が配置されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
  2. 前記電荷発生層が、前記金属およびその化合物(A)を1種類以上含む第1の層と、前記化合物(B)の1種類以上を含む第2の層とを含んで成り、前記第1の層が、第2の層よりも前記陽極寄りに配置されていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  3. 前記電荷発生層は、前記金属およびその化合物(A)の1種類以上と、前記化合物(B)の1種類以上とが混合されて成る層であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  4. 波長550nmに対する前記電荷発生層の透過率が、30%以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  5. 前記仕事関数が3.0eV以下の金属が、アルカリ金属、及びアルカリ土類金属から成る群から選択されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  6. 前記仕事関数4.0eV以上の化合物が遷移金属酸化物であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  7. 各発光ユニットから放射される光の色が互いに異なることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  8. 前記発光ユニットの少なくとも一つは、赤色の光を発する発光層と、緑色の光を発する発光層と、青色の光を発する発光層とを有し、かつ発光する光のピーク波長が長い発光層ほど、前記陽極寄りに配置されていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  9. 前記第1電極と第2電極との間に、輝度が100cd/m 〜10000cd/m となる範囲で、印加する電圧を変化させたときの、外に取出される光の色度座標における座標値xと座標値yの変化の幅が、それぞれ0.05以下であることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  10. 請求項1から請求項8のうちのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えることを特徴とする照明装置。
  11. 請求項1から請求項8のうちのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えることを特徴とする面状光源。
  12. 請求項1から請求項8のうちのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えることを特徴とする表示装置。
JP2008301300A 2008-11-26 2008-11-26 有機エレクトロルミネッセンス素子 Expired - Fee Related JP5314393B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008301300A JP5314393B2 (ja) 2008-11-26 2008-11-26 有機エレクトロルミネッセンス素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008301300A JP5314393B2 (ja) 2008-11-26 2008-11-26 有機エレクトロルミネッセンス素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010129301A JP2010129301A (ja) 2010-06-10
JP5314393B2 true JP5314393B2 (ja) 2013-10-16

Family

ID=42329558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008301300A Expired - Fee Related JP5314393B2 (ja) 2008-11-26 2008-11-26 有機エレクトロルミネッセンス素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5314393B2 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012124478A (ja) * 2010-11-19 2012-06-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 照明装置
US8957442B2 (en) 2011-02-11 2015-02-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device and display device
KR102095382B1 (ko) 2011-02-11 2020-03-31 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 장치 및 표시 장치
TWI559587B (zh) * 2011-03-24 2016-11-21 松下電器產業股份有限公司 有機電致發光元件、照明器具、及食品保管裝置
WO2012128117A1 (ja) * 2011-03-24 2012-09-27 パナソニック株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、照明器具、及び食品保管装置
DE112012001414B4 (de) 2011-03-24 2017-07-13 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Organisches Elektrolumineszenz-Element, Beleuchtungskörper und Lebensmittellagervorrichtung
JP6004348B2 (ja) 2011-07-01 2016-10-05 王子ホールディングス株式会社 有機発光ダイオードの製造方法
JP5988216B2 (ja) 2012-12-28 2016-09-07 王子ホールディングス株式会社 有機発光ダイオード、有機発光ダイオード用基板およびその製造方法
JP6247446B2 (ja) * 2013-02-26 2017-12-13 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置の駆動方法
JP2016106347A (ja) * 2013-03-28 2016-06-16 パナソニック株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP6379338B2 (ja) 2014-02-12 2018-08-29 株式会社Joled 有機電界発光素子、表示装置、および有機電界発光素子の製造方法
JP6417821B2 (ja) * 2014-09-25 2018-11-07 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP2018124471A (ja) * 2017-02-02 2018-08-09 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置および表示装置の駆動方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000068057A (ja) * 1998-06-12 2000-03-03 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP3933591B2 (ja) * 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
JP2005100921A (ja) * 2003-08-22 2005-04-14 Sony Corp 有機el素子および表示装置
JP4123106B2 (ja) * 2003-08-22 2008-07-23 ソニー株式会社 有機el素子
EP2271183B1 (en) * 2004-07-23 2015-03-18 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminescent element, display and illuminator
US20080303415A1 (en) * 2004-08-05 2008-12-11 Yoshiyuki Suzuri Organic Electroluminescence Element, Display and Illuminator
JP5303726B2 (ja) * 2006-02-07 2013-10-02 学校法人早稲田大学 有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2007091548A1 (ja) * 2006-02-07 2007-08-16 Sumitomo Chemical Company, Limited 有機エレクトロルミネッセンス素子
KR101223719B1 (ko) * 2006-05-23 2013-01-18 삼성디스플레이 주식회사 백색 유기 발광 소자 및 이의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010129301A (ja) 2010-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5314393B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP5192828B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示素子及びその製造方法
WO2010137633A1 (ja) 発光装置
WO2010029882A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子製造用のインキ、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、および表示装置
WO2010013641A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、発光装置および表示装置
JP4983940B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
JP5320755B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法、面状光源、照明装置ならびに表示装置
JP2009238709A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および装置
WO2010024136A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
WO2009122870A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子および表示装置
JP5249075B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2010153091A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2010146893A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子、及びその製造方法
JP5156612B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
US20110018433A1 (en) Method of producing organic electroluminescence element, organic electroluminescence element, and display device
JP5023033B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
JP2010160946A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
JP2009246127A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
JP6945983B2 (ja) 有機elデバイス、表示素子及び有機elデバイスの製造方法
JP5314395B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP5446472B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP5184938B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
JP2010146895A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2011065288A1 (ja) 発光装置の製造方法
JP2010027539A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110414

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120419

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130118

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130618

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130705

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5314393

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees