JP5306872B2 - 光学部品および光学機器 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明の光学部品および光学機器に用いられるハーフミラーは、透明基板と、該透明基板上に設けられた1層の半光反射層と、上記透明基板と上記半光反射層との間に設けられた1層以上の透光層と、上記半光反射層の上記透明基板が設けられた側と反対側に設けられた1層以上の透光層と、を有し、上記透明基板と上記半光反射層との間に設けられた1層以上の透光層から選択される少なくとも1層が、屈折率が1.5を超える高屈折透光層であり、上記半光反射層の上記透明基板が設けられた側と反対側に設けられた1層以上の透光層の全ての層が、屈折率が1.5以下の低屈折透光層であることを特徴とする。
本実施形態のハーフミラーは、透明基板と、該透明基板上に設けられた1層の半光反射層と、上記透明基板と上記半光反射層との間に設けられた1層以上の透光層と、上記半光反射層の上記透明基板が設けられた側と反対側に設けられた1層以上の透光層と、を有し、上記透明基板と上記半光反射層との間に設けられた1層以上の透光層から選択される少なくとも1層が、屈折率が1.5を超える高屈折透光層であり、上記半光反射層の上記透明基板が設けられた側と反対側に設けられた1層以上の透光層の全ての層が、屈折率が1.5以下の低屈折透光層であることを特徴とする。
本実施形態のハーフミラーの層構成は、上述したように、基板上に、高屈折透光層を含む1層以上の透光層と、1層の半光反射層と、1層以上の低屈折透光層とがこの順に積層されたものであれば特に限定されるものではない。しかしながら、本実施形態のハーフミラーは、下記に示す層構成であることが好ましい。すなわち、半光反射層の透明基板が設けられた側と反対側(以下、「半光反射層の上層側」と略す場合がある)には、1層の低屈折透光層のみが設けられていることが特に好ましい。これにより、半光反射層の上層側に2層以上の低屈折透光層を設けた場合と比べて反射率の入射角依存性をより小さくすることができる。また、透明基板と半光反射層との間に、2層以上の透光層を設ける場合には、低屈折透光層と高屈折透光層とを交互に積層するように設けることが好ましい。これにより、透明基板と半光反射層との間に、低屈折透光層又は高屈折透光層を連続して2層以上積層した場合と比べて反射率の入射角依存性をより小さくすることができる。
Δn(gh)及びΔn(lh)はいずれも、0.12以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましい。Δn(gh)、Δn(lh)を0.12以上とすることで、反射率の入射角依存性をより小さくすることが容易となる。一方、Δn(gh)やΔn(lh)の上限値は特に限定されるものではないが、基板や、高屈折透過層、低屈折透過層を構成する材料の選択を容易とするため、実用上は2.2以下であることが好ましい。なお、ハーフミラーが高屈折透光層を2層以上有する場合、Δn(gh)およびΔn(lh)を算出する上で基準となる高屈折透光層は、最も高い屈折率を有する層が基準となる。同様にハーフミラーが低屈折透光層を2層以上有する場合、Δn(lh)を算出する上で基準となる低屈折透光層は、最も低い屈折率を有する層が基準となる。
透光層は、透明な導電体材料または誘電体材料からなる層である。透明導電体材料としては、公知の透明導電体材料であればいずれも利用できるが、例えば、酸化インジウムスズや酸化亜鉛が挙げられる。また、透明な誘電体材料としては、例えば、光学薄膜分野でよく用いられている公知の物質であればいずれも利用できる。典型的な材料としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム等の金属酸化物、フッ化マグネシウム等のフッ化物、硫化亜鉛等の硫化物が挙げられる。誘電体は広いバンドギャップを持ち直流電圧に対し電気を通さない絶縁体である。この絶縁体に電場を加えた時に絶縁体は分極を起こし、電荷の偏り(電界)が生じる。絶縁体はこのように電気的な誘導作用がある。この誘導作用を誘電率εといい、この大きさは物質により異なる。また、誘電率εと屈折率nの関係はε=n2で表される。また、透光層としては、屈折率が1.5を超える高屈折透光層および屈折率が1.5以下の低屈折透光層の2種類が用いられる。以下、低屈折透光層および高屈折透光層についてより詳細に説明する。
低屈折透光層を構成する材料としては、使用する光の波長域において屈折率が1.5以下のものであれば公知の無機材料や有機材料又は有機・無機複合材料を利用できるが、無機材料を用いることが好ましい。無機材料としては、酸化珪素やこれを主成分とする金属酸化物、フッ化カルシウムやフッ化マグネシウムなどの金属フッ化物などが挙げられ、具体的には、酸化珪素、及び、フッ化マグネシウムから選択される少なくとも1種を用いることが好ましい。また、半光反射層の上層側に設けられる低屈折透光層(2層以上積層する場合は、最表面を形成する層)には、機械的・化学的耐久性が要求される場合が多いため、酸化珪素を用いることが特に好ましい。
高屈折透光層を構成する材料としては、使用する光の波長域において屈折率が1.5を超えるものであれば公知の無機材料や有機材料又は有機・無機複合材料を利用できるが、無機材料を用いることが好ましい。無機材料としては、具体的には、酸化チタン(アナターゼ型、ルチル型)、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化ガドリニウム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化クロム、酸化ランタン等の金属酸化物や、硫化亜鉛等の金属硫化物等から選択される少なくとも1種を用いることが好ましい。
半光反射層としては、上述したようにハーフミラーの反射率がハーフミラーが使用される光の波長範囲において、1%〜99%の範囲内となるように、半光反射層に入射した光の一部を透過し、残りを反射する機能を有するものであればその構成材料は特に限定されない。しかしながら、半光反射層を構成する材料としては、一般的には金属元素や半金属元素又はこれら元素を2種類以上含む合金を用いることができる。ここで、金属元素としては、例えば、アルミニウム、銀、白金、銅、ゲルマニウム、タングステン、チタン、ニッケル、クロム、鉄、パラジウム、ロジウム、金、ニオブ等が挙げられ、半金属元素としては例えばシリコン等を挙げることができる。
基板としては、ハーフミラーとして使用する際に利用する光の波長域に対して透光性を有するものであればよい。なお、基板としては、一般的には市販のソーダライムシリケートガラスや低アルカリガラス、無アルカリガラス、石英などのガラス基板や、各種のセラミックス基板、プラスチック基板が利用できる。
本実施形態のハーフミラーは、基板上に薄膜を形成する公知の成膜方法を利用して透光層、半光反射層を積層することで作製することができる。利用できる成膜方法としては、基板上に積層される各層の材料や膜厚などに応じて適宜選択でき、ディッピング法やスピンコート法、電着法などの液相成膜法や、スパッタリング法や蒸着法などの気相成膜法などが利用できる。しかしながら、膜厚の制御性に優れることや、無機材料の成膜に適していることなどからは気相成膜法を用いることが好ましい。ここで、好適な気相成膜法としては、例えば、ディッピング法、スピンコート法、電着法、スプレー法、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法、抵抗加熱蒸着法、イオンプレーティング法、および、CVD法(Chemical Vapor Deposition法)が挙げられる。そして、ハーフミラーの作製に際しては、これら成膜法を2種類以上組合わせて利用してもよい。
本実施形態のハーフミラーは、ハーフミラー本来の機能に加えて反射率の入射角依存性の抑制も求められる用途に利用することが好適である。具体例を挙げれば、本実施形態のハーフミラーは、当該ハーフミラーを少なくとも備え、ハーフミラーから反射される反射光を感知する反射光感知部が、反射光を感知する際に、透明基板の両表面のうち半光反射層が設けられた側の表面と反射光との成す角度(反射角)が変化する光学部品に用いることができる。この場合、反射光感知部は、反射角が25度〜90度の角度を成す範囲内の位置に、ハーフミラーに対して相対的に移動可能に配置される態様で利用される光学部品(更にはこの光学部品を用いた光学機器)に用いることが特に好ましい。しかしながら、本実施形態の光学部品やこれを用いた光学機器は、これに限定されるものではない。
各実施例のハーフミラーの作製に際して、基板としてはソーダライムシリケートガラスを用いた。また、基板上に成膜した各層(SiO2、TiO2、Al)に関しては、真空蒸着法、抵抗加熱法、電子ビーム法、スパッタ法を適宜用いて成膜した。なお、スパッタ法の場合は、ターゲット材料として、SiO2、酸化チタン等を適宜用いた。これにより、表1の実施例1〜6に示す層構成を有するハーフミラーを得た。
各実施例のハーフミラーサンプルの波長400nm〜700nmの範囲における反射率を分光光度計により測定した。なお、測定に際しては、光源から照射される光の光軸とサンプル表面に対して垂直に伸びる垂直線とが成す角度(入射角)が25度、45度および65度となるように配置して、各々の3水準の入射角における反射率を測定した。この時の反射率Rと最大反射率差ΔRを表1に示す。また、参考として本実施形態のハーフミラーサンプルの反射率測定結果を図8に示す。ここで、図8は、横軸を波長、縦軸を反射率としたときの入射角0、25、45、65の3水準についてのグラフである。
10 基板
20 半光反射層
30、30A、30B、30C 低屈折透光層
40、40A、40B、40C 高屈折透光層
Claims (8)
- 透明基板と、
該透明基板上に設けられた1層の半光反射層と、
上記透明基板と上記半光反射層との間に設けられた1層以上の透光層と、
上記半光反射層の上記透明基板が設けられた側と反対側に設けられた1層以上の透光層と、を有し、
上記透明基板と上記半光反射層との間に設けられた1層以上の透光層から選択される少なくとも1層が、屈折率が1.5を超える高屈折透光層であり、
上記半光反射層の上記透明基板が設けられた側と反対側に設けられた1層以上の透光層の全ての層が、屈折率が1.5以下の低屈折透光層であるハーフミラーを少なくとも備え、
上記ハーフミラーから反射される反射光を感知する反射光感知部が、
上記反射光を感知する際に、上記透明基板の両表面のうち上記半光反射層が設けられた側の表面に対して25度〜90度の角度を成す範囲内の位置に、
上記ハーフミラーに対して相対的に移動可能に配置される態様で利用されることを特徴とする光学部品(車両用ヘッドアップディスプレイを除く)。 - 前記半光反射層の前記透明基板が設けられた側と反対側に、1層の低屈折透光層のみが設けられたことを特徴とする請求項1に記載の光学部品。
- 前記透明基板と前記半光反射層との間に、低屈折透光層と高屈折透光層とが交互に積層するように2層以上の透光層を設けたことを特徴とする請求項1または2に記載の光学部品。
- 前記透明基板の屈折率と前記高屈折透光層の屈折率との差の絶対値Δn(gh)が0.12以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学部品。
- 前記低屈折透光層の屈折率と前記高屈折透光層の屈折率との差の絶対値Δn(lh)が0.12以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学部品。
- 前記半光反射層および前記透光層が、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法、抵抗加熱蒸着法、イオンプレーティング法、および、CVD法から選択される少なくとも1種の成膜法を用いて形成されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学部品。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学部品を備えたことを特徴とする光学機器。
- 前記反射光感知部が、光電変換機能を備えた受光素子、光学式の情報記録媒体、ファインダー光学系、光学エンジンおよびスクリーンから選択されるいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の光学部品。
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