JP5292326B2 - 標準試料作成方法、および標準試料 - Google Patents
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基板の表面は必要に応じてあらかじめ清浄化する(ステップ1)。清浄の方法としては煮沸または真空中での加熱等がある。
疎水性が高く、試料表面が非常に平滑であると、溶液中の分散したい金属微粒子が基板上を滑るなどして試料に被着しない可能性があり均一な分散を実現しづらくなる。対策の一つとして、図2(a)のように、イオンビームあるいはプラズマ照射3により金属微粒子を載せる基板表面にあらかじめ数mmの広域にナノメートルオーダーの微細凹凸4を設ける方法がある(ステップ2)。凹凸は均一であるほうが粒子の均一な分散が実現されやすい。
もう一つの対策は、基板との被着性を上げるために紫外線照射やポリカチオン処理5によって親水化処理を施す方法である。
親水化処理を施す理由は、金属微粒子を滴下しても、滴下した液体が表面張力によって凝集し、中の金属微粒子も凝集してしまうことになり、金属微粒子の均一な分散が実現できないためである。親水化処理を施すことにより、滴下した液体が凝集せず基板上に均一に分散する。
更に親水性を高めるためにポリカチオン処理を行ってもよい。ポリカチオン処理とは試料の表面がプラスに帯電するように、プラスの荷電をもつ物質(ポリカチオン)の被膜6を試料表面に作成するものである。
図2(c)にあるように作成した基板上にコロイド金属またはイオン液体中の金属微粒子を滴下する。滴下する溶液中の金属微粒子の分散は、濃度が高い場合には、滴下後粒子同士が凝集してしまう可能性がある。凝集すると客観的評価手法による評価結果のばらつきにつながる。粒子間の空隙が一定とならない場合には、コロイド金属またはイオン液体の濃度調整を行い希釈したものを滴下する。濃度は、粒子間の空隙と、電子顕微鏡等で観察したときに分解能評価を行うための一画像中に必要な粒子数とのバランスを見て決める。
金属微粒子や金属粒子を載せた基板の表面は、コロイド,イオン液体,ポリカチオン剤,溶媒等の有機物8で覆われている。SEM観察ではこれらの有機物が観察の障害になり、像分解能を劣化させる原因となる。このため、図2(d)のようにプラズマやイオンビームや紫外線照射9を実施し、有機物を除去し、試料の清浄性を確保しなければならない。
2 HOPGやSi等の平滑かつ導電性のある基板
3 イオンビームまたはプラズマ照射
4 微細凹凸
5 紫外線照射やポリカチオン処理
6 ポリカチオン被膜
7 ピペッター
8 有機物
9 プラズマやイオンビームや紫外線照射
10 金属微粒子
11 蒸着またはスパッタ法
12 蒸着源
13,17 試料
14 蒸着源と試料との距離
15,16 荷電粒子線
18 二次荷電粒子
19 検出器
20 制御装置
21 X−Y−Zステージ
22 画像表示装置
Claims (11)
- 荷電粒子線装置の標準試料作成方法であって、
平滑かつ導電性がある基板表面に、金属微粒子の粒径よりも小さい微細な凹凸を形成するステップと、
前記基板に、標準粒子として利用するための粒径が既知の金属微粒子を、コロイド金属として又はイオン液体に分散させた状態で滴下するステップと、
前記基板に滴下した溶液を除去するステップと、
前記基板表面の有機物を除去するステップと、
を有することを特徴とする標準試料作成方法。 - 請求項1の標準試料作成方法において、
前記基板表面に微細な凹凸を形成するステップは、前記基板にイオンビーム又はプラズマ照射をすることによることを特徴とする標準試料作成方法。 - 請求項1の標準試料作成方法において、
前記基板表面の有機物を除去するステップは、前記基板にプラズマ又はイオンビーム又は紫外線照射を行うことによることを特徴とする標準試料作成方法。 - 請求項1の標準試料作成方法において、
前記金属微粒子を滴下するステップの前に、
前記基板表面に親水化処理を施すステップを有することを特徴とする標準試料作成方法。 - 請求項1の標準試料作成方法において、
前記金属微粒子を滴下するステップの前に、
前記基板表面にポリカチオン処理を施すステップを有することを特徴とする標準試料作成方法。 - 請求項1の標準試料作成方法において、
コロイド金属又はイオン液体中の金属微粒子の濃度調整を行い、粒子間の空隙が一定となるようにすることを特徴とする標準試料作成方法。 - 請求項1の標準試料作成方法において、
前記基板と前記金属微粒子の原子番号が異なることを特徴とする標準試料作成方法。 - 請求項1の標準試料作成方法において、
前記金属微粒子を滴下するステップにおける金属微粒子は、異なる粒径の金属微粒子が含まれることを特徴とする標準試料作成方法。 - 平滑かつ導電性がある基板表面に、金属微粒子の粒径よりも小さい微細な凹凸を形成し、
前記基板に、標準粒子として利用するための粒径が既知の金属微粒子を、コロイド金属として又はイオン液体に分散させた状態で滴下し、
前記基板に滴下した溶液を除去した後に前記基板表面の有機物を除去することにより作成された、
粒径が一定で、粒子間の空隙が一定で、基板が平滑で、試料表面が清浄な標準試料。 - 請求項9の標準試料において、
前記基板と前記金属微粒子の原子番号が異なることを特徴とする標準試料。 - 請求項9の標準試料において、
前記金属微粒子は、異なる粒径の金属微粒子が含まれることを特徴とする標準試料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010017595A JP5292326B2 (ja) | 2010-01-29 | 2010-01-29 | 標準試料作成方法、および標準試料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010017595A JP5292326B2 (ja) | 2010-01-29 | 2010-01-29 | 標準試料作成方法、および標準試料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011158257A JP2011158257A (ja) | 2011-08-18 |
JP5292326B2 true JP5292326B2 (ja) | 2013-09-18 |
Family
ID=44590345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010017595A Expired - Fee Related JP5292326B2 (ja) | 2010-01-29 | 2010-01-29 | 標準試料作成方法、および標準試料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5292326B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013257148A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Hitachi High-Technologies Corp | コーティング装置、及びコーティング装置の前処理装置 |
JP6004470B2 (ja) * | 2012-09-03 | 2016-10-05 | 国立大学法人大阪大学 | 試料の固定化方法 |
JP6357583B2 (ja) * | 2015-04-24 | 2018-07-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオン液体を用いた試料の観察方法及び標本の生産方法 |
GB201513167D0 (en) | 2015-07-27 | 2015-09-09 | Thermo Fisher Scient Bremen | Elemental analysis of organic samples |
JP6613841B2 (ja) * | 2015-11-20 | 2019-12-04 | 日本製鉄株式会社 | 粒子分析方法及び粒子分析装置 |
CN115558100B (zh) * | 2022-09-30 | 2023-12-22 | 桂林理工大学 | 一种改性透射电镜载网及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6383755U (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-01 | ||
JPH0545265A (ja) * | 1991-08-12 | 1993-02-23 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡の性能評価用試料及びその製作方法 |
JP3015883B1 (ja) * | 1998-10-26 | 2000-03-06 | 東京大学長 | 超微粒子構造の作製方法 |
JP4263416B2 (ja) * | 2001-08-24 | 2009-05-13 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子顕微鏡評価システム |
US7606403B2 (en) * | 2002-10-17 | 2009-10-20 | Intel Corporation | Model-based fusion of scanning probe microscopic images for detection and identification of molecular structures |
JP3735614B2 (ja) * | 2003-03-19 | 2006-01-18 | 株式会社東芝 | 透過電子顕微鏡観測用下地試料、透過電子顕微鏡測定方法、および透過電子顕微鏡装置 |
JP2005187915A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Kyoto Univ | 金属ナノ粒子の固定化方法及び金属ナノ粒子固定化基板 |
JP4739859B2 (ja) * | 2005-08-18 | 2011-08-03 | 学校法人同志社 | 微粒子集合体配列基板およびその製造方法、並びに当該基板を用いた微量物質の分析方法 |
JP4491616B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2010-06-30 | 国立大学法人九州大学 | ラマン分光分析に用いる分析用基板及び分析用基板組合体 |
JP5309552B2 (ja) * | 2007-12-21 | 2013-10-09 | 富士通株式会社 | 電子線トモグラフィ法及び電子線トモグラフィ装置 |
JP5048596B2 (ja) * | 2008-06-23 | 2012-10-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料台,試料回転ホルダ,試料台作製方法,及び試料分析方法 |
JP2010025656A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Jeol Ltd | イオン液体を用いた試料の処理方法及び処理システム |
-
2010
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011158257A (ja) | 2011-08-18 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Written amendment |
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A977 | Report on retrieval |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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