JP5290358B2 - Film removal device - Google Patents

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Description

本発明はフィルム除去装置に関し、より詳細には、ヒーティングブロックとヒーティングブレードとで構成されたヒーティング部により、基板に残っているマイラーフィルムを除去するフィルム除去装置に関する。   The present invention relates to a film removing apparatus, and more particularly, to a film removing apparatus that removes a mylar film remaining on a substrate by a heating unit including a heating block and a heating blade.

PCB(Print Curcuit Board)の生産工程において露光性向上及び異物に対する汚染予防のために用いられるマイラーフィルム(Mylar Film)は、露光が完了された後には剥離した後、除去しなければならないが、現在適用される自動化設備は生産性及び剥離成功率が低く、活用度が低いため、主に作業者が手作業でフィルムを剥離して現像工程に供給している。   Mylar film (Mylar Film) used to improve exposure and prevent contamination of foreign matters in the production process of PCB (Print Curtain Board) must be removed after the exposure is completed. The applied automation equipment has low productivity and a low peeling success rate, and its utilization is low. Therefore, an operator mainly peels the film manually and supplies it to the development process.

上述のような手作業による人力浪費及び作業者の疲労度増加、筋骨格係疾患の恐れが問題となっている。
現在方式のピーリング(Peeling)設備は、剥離前のマイラーフィルム(Mylar Film)とフォトレジスト(Photo Resist)層に1次外力を加える構造であり、異物発生の原因として作用して製品品質に影響を与えるため、これを克服することができるピーリング(Peeling)技術が必要な実情である。
Problems such as manual labor waste, increased worker fatigue, and musculoskeletal disorders are problems.
Peeling equipment of the current method is a structure that applies primary external force to the Mylar Film and the photoresist (Photo Resist) layer before peeling, which acts as a cause of foreign matter generation and affects product quality. For this reason, a peeling technique that can overcome this problem is necessary.

従来のフィルム除去方式の一つとしては、特許文献1に開示されたものが知られている。この発明は、表面に凹凸が設けられたローレットローラ(knurling roller)によりフィルム端部を引っかけて部分的に剥離部を形成し、ここから基板を搬送ローラによって搬送しながら粘着ローラにより剥離を行う構成である。しかし、最近はプリント配線基板の厚さが減少される傾向にあり、また、粘着ローラの粘着力が不均一であることにより、フィルムを剥離している途中に基板の端部に反りが発生したり、装置内に巻き入れられる事故が発生するという問題がある。   As one of conventional film removal methods, the one disclosed in Patent Document 1 is known. In the present invention, a peeling part is formed by hooking a film edge part by a knurling roller having irregularities on the surface, and peeling is performed by an adhesive roller while the substrate is transported by the transportation roller. It is. However, recently, the thickness of the printed wiring board has been decreasing, and the adhesive force of the adhesive roller is uneven, which causes warping at the edge of the board while peeling the film. Or there is a problem that an accident that is caught in the device occurs.

日本国特許出願公開第2002−211836号Japanese Patent Application Publication No. 2002-211836 韓国特許出願公開第10−2007−0050756号Korean Patent Application Publication No. 10-2007-0050756

従って、本発明は従来のフィルム除去装置に対して指摘されている上述の様々な欠点及び問題点を解決するために導き出されたものであり、ヒーティングブレード(Heating Blade)を利用して、基板に残っているフィルムを容易に除去することができるフィルム除去装置を提供することをその目的とする。   Accordingly, the present invention has been derived in order to solve the above-mentioned various drawbacks and problems pointed out with respect to a conventional film removing apparatus, and uses a heating blade to form a substrate. It is an object of the present invention to provide a film removing apparatus capable of easily removing the film remaining on the film.

本発明の前記目的は、基板を支持する基板支持部、前記基板支持部の上部に配置される固定軸、前記固定軸内で上下移動可能に備えられる移動軸、前記移動軸に結合されたヒーティング部を含み、前記ヒーティング部は、前記移動軸の下部に結合されたヒーティングブロック、及び前記ヒーティングブロックから発生された熱を利用し、前記基板支持部に支持される前記基板の積層部材を加圧するヒーティングブレードを含むフィルム除去装置が提供されることにより達成される。   The object of the present invention is to provide a substrate support portion for supporting a substrate, a fixed shaft disposed above the substrate support portion, a moving shaft that can be moved up and down within the fixed shaft, and a heat coupled to the moving shaft. A heating block coupled to a lower portion of the moving shaft, and a stack of the substrates supported by the substrate support unit using heat generated from the heating block. This is accomplished by providing a film removal apparatus that includes a heating blade that pressurizes the member.

また、前記移動軸の一側に圧力調節装置を備えて、前記移動軸が前記固定軸の内側に上、下移動することができる。   Further, a pressure adjusting device is provided on one side of the moving shaft, and the moving shaft can move up and down inside the fixed shaft.

また、前記圧力調節装置は空圧を利用して前記移動軸を移動させることができる。   In addition, the pressure adjusting device can move the moving shaft using air pressure.

また、前記移動軸の外部にコイルスプリングで構成された弾性部材をさらに含むことができる。   In addition, an elastic member formed of a coil spring can be further included outside the moving shaft.

また、前記ヒーティングブロックは、一定温度を制御することができるヒートコントローラを備えることができる。   The heating block may include a heat controller that can control a constant temperature.

また、前記ヒーティングブロックから発生された熱を利用して前記基板上の積層部材を加圧するヒーティングブレードは、逆三角形の断面形態に形成されることができる。   The heating blade that pressurizes the laminated member on the substrate using heat generated from the heating block may be formed in an inverted triangular cross-sectional shape.

また、前記基板上の積層部材を加圧するヒーティングブレードは、前記基板上の積層部材のうちマイラーフィルムのみを溶かすことができる。   Further, the heating blade that pressurizes the laminated member on the substrate can melt only the mylar film among the laminated members on the substrate.

また、前記基板上の積層部材を加圧するヒーティングブレードは、前記基板上の積層部材を切断することができる。   The heating blade that pressurizes the laminated member on the substrate can cut the laminated member on the substrate.

また、前記ヒーティングブレードは、移送ガイド部のガイド部によって水平移動されながら前記基板の積層部材を水平に加圧することができる。   In addition, the heating blade can horizontally press the laminated member of the substrate while being horizontally moved by the guide portion of the transfer guide portion.

また、前記ヒーティングブレードは、前記基板に回路が形成されていない部分のドライフィルムとマイラーフィルムを加圧することができる。   In addition, the heating blade can press the dry film and mylar film in a portion where no circuit is formed on the substrate.

また、前記積層部材のマイラーフィルムは、ヒーティングブレードによって加圧された後、接着テープを利用して除去することができる。   The mylar film of the laminated member can be removed using an adhesive tape after being pressed by a heating blade.

また、前記積層部材は、前記基板上にドライフィルムとマイラーフィルムが順に積層されることができる。   In the laminated member, a dry film and a mylar film may be sequentially laminated on the substrate.

また、前記基板の下部側には前記ヒーティングブレードと対面する基板支持部が位置し、前記基板支持部上にはローラが設けられることができる。   In addition, a substrate support unit facing the heating blade may be positioned on a lower side of the substrate, and a roller may be provided on the substrate support unit.

本発明は、ヒーティングブロックとヒーティングブレードとで構成されたヒーティング部を備えたフィルム除去装置において、既存のローレット作業による剥離工程時に発生する異物生成現象を防止することができ、ヒーティング部の圧力調節装置を適用することにより、基板への損傷を予防することができる長所がある。   The present invention provides a film removing apparatus including a heating unit composed of a heating block and a heating blade, and can prevent a foreign matter generation phenomenon that occurs during a peeling process by an existing knurling operation. By applying the pressure adjusting device, it is possible to prevent damage to the substrate.

本発明の実施形態によるフィルム除去装置の断面図である。It is sectional drawing of the film removal apparatus by embodiment of this invention. 本発明の実施形態によるフィルム除去装置の断面図である。It is sectional drawing of the film removal apparatus by embodiment of this invention. 本発明の実施形態によるフィルム除去方法を説明するための図面である。1 is a view for explaining a film removal method according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるフィルム除去方法を説明するための図面である。1 is a view for explaining a film removal method according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるフィルム除去方法を説明するための図面である。1 is a view for explaining a film removal method according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態によるフィルム除去方法を説明するための図面である。1 is a view for explaining a film removal method according to an embodiment of the present invention.

本発明によるフィルム除去装置に対する技術的構成を含めた作用効果に関する事項は、本発明の好ましい実施形態が図示された図面を参照した以下の詳細な説明によって明確に理解されるであろう。   The matters concerning the operation and effects including the technical configuration of the film removing apparatus according to the present invention will be clearly understood by the following detailed description with reference to the drawings in which the preferred embodiments of the present invention are illustrated.

しかし、本発明は以下に開示される実施形態により限定されず、相異なる多様な形態に具現されることができる。本実施形態は本発明の開示が完全になるようにし、本発明が属する技術分野にて通常の知識を有した者に発明の範疇を完全に説明するために提供されることができる。   However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, and can be embodied in various different forms. The embodiments can be provided to complete the disclosure of the present invention and to fully explain the scope of the invention to those skilled in the art to which the present invention belongs.

図1及び図2を参照して、本発明の実施形態によるフィルム除去装置に対して詳細に説明する。   With reference to FIGS. 1 and 2, a film removing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

本発明の実施形態によるフィルム除去装置は、基板支持部の上部に配置される固定軸10、前記固定軸内で上下移動可能に備えられる移動軸20、基板100が損傷されないようにする弾性部材30、温度を制御することができるコントローラを備えたヒーティングブロック42とヒーティングブロック42から一定温度が伝導されるヒーティングブレード44とで構成されるヒーティング部40、前記ヒーティング部40のヒーティングブレード44と対面して基板100を支持する基板支持部50で構成される。   A film removing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a fixed shaft 10 disposed on an upper portion of a substrate support, a moving shaft 20 provided to be movable up and down within the fixed shaft, and an elastic member 30 that prevents the substrate 100 from being damaged. A heating unit 40 including a heating block 42 having a controller capable of controlling the temperature, and a heating blade 44 that conducts a constant temperature from the heating block 42, heating of the heating unit 40 The substrate support unit 50 is configured to face the blade 44 and support the substrate 100.

前記固定軸10は固定軸支持部15に連結され、前記固定軸支持部15は支持体60に連結されている。   The fixed shaft 10 is connected to a fixed shaft support portion 15, and the fixed shaft support portion 15 is connected to a support body 60.

前記移動軸20は前記固定軸10の下端側に形成されており、前記移動軸20は前記固定軸10の内径より小さいかまたは同一であり、前記固定軸の内部に移動軸20の上端部が挿入され、上、下に移動することができる。また、前記移動軸20の一側に別に備えられた圧力調節装置(未図示)により、基板100の厚さに応じて前記移動軸20が前記固定軸10の内側に自由に上、下に移動されることができる。   The moving shaft 20 is formed on the lower end side of the fixed shaft 10, the moving shaft 20 is smaller than or equal to the inner diameter of the fixed shaft 10, and the upper end portion of the moving shaft 20 is inside the fixed shaft. Inserted and can move up and down. Further, the moving shaft 20 freely moves up and down inside the fixed shaft 10 according to the thickness of the substrate 100 by a pressure adjusting device (not shown) separately provided on one side of the moving shaft 20. Can be done.

前記圧力調節装置は空気の圧力を調節する装置であり、移動軸20と連結されている。本発明は空圧を利用して移動軸20を固定軸10の内部に上、下に移動しているが、移動軸20の上、下移動方法は空圧に限定されない。   The pressure adjusting device is a device for adjusting the pressure of air, and is connected to the moving shaft 20. In the present invention, the moving shaft 20 is moved up and down inside the fixed shaft 10 using pneumatic pressure, but the moving method of moving up and down the moving shaft 20 is not limited to pneumatic pressure.

また、前記移動軸20と前記固定軸10の間には、前記基板100を損傷させないように弾性部材30が備えられている。前記弾性部材30は移動軸20の外側にコイルスプリング形態で存在することができるが、移動軸20に弾性を加えることができる部分であれば移動軸20の外側に位置しなくてもよい。また、前記弾性部材30は、前記移動軸20に連結された圧力調節装置によって後述するヒーティングブレード44が基板100に接触される時、前記基板100が前記ヒーティングブレード44により損傷されることを防止することができる。   An elastic member 30 is provided between the moving shaft 20 and the fixed shaft 10 so as not to damage the substrate 100. The elastic member 30 may exist in the form of a coil spring outside the moving shaft 20, but may not be located outside the moving shaft 20 as long as it can apply elasticity to the moving shaft 20. In addition, the elastic member 30 is configured to prevent the substrate 100 from being damaged by the heating blade 44 when a heating blade 44 described later is brought into contact with the substrate 100 by a pressure adjusting device connected to the moving shaft 20. Can be prevented.

前記ヒーティング部40は、ヒーティングブロック42とヒーティングブレードとで構成されることができる。   The heating unit 40 may include a heating block 42 and a heating blade.

前記ヒーティングブロック42は前記移動軸20の下端一側に形成されており、一定温度を制御することができるヒートコントローラ(未図示)を別に備え、ヒーティングブロック42に熱を伝達することができる。前記ヒーティングブロック42に伝達される熱の温度は、前記基板100上に存在するドライフィルム102とマイラーフィルム103を溶かすことができる温度である200℃〜400℃であることができる。   The heating block 42 is formed on one side of the lower end of the moving shaft 20, and has a separate heat controller (not shown) that can control a constant temperature, and can transfer heat to the heating block 42. . The temperature of the heat transmitted to the heating block 42 may be 200 ° C. to 400 ° C., which is a temperature at which the dry film 102 and the mylar film 103 existing on the substrate 100 can be melted.

前記ヒーティングブロック42の末端にはヒーティングブレード44が装着されることができ、前記ヒーティングブレード44は前記ヒーティングブロック42から熱の伝達を受けるようになる。前記ヒーティングブレード44は、前記基板100に順に積層されたドライフィルム102とマイラーフィルム103の一定部門を切断したり、またはかくことができるように、ヒーティングブロックの下端に逆三角形の断面形態に形成されることができる。但し、前記ヒーティングブレード44の形状は、前記基板100に存在するドライフィルム102とマイラーフィルム103に線接触されることができる形状であればよく、また、前記ドライフィルム102とマイラーフィルム103に接触される前記ヒーティングブレード44の数は限定しない。   A heating blade 44 may be attached to the end of the heating block 42, and the heating blade 44 receives heat from the heating block 42. The heating blade 44 has an inverted triangular cross-sectional shape at the lower end of the heating block so that a predetermined section of the dry film 102 and the mylar film 103 sequentially stacked on the substrate 100 can be cut or cut. Can be formed. However, the shape of the heating blade 44 may be any shape as long as it can be in line contact with the dry film 102 and the mylar film 103 existing on the substrate 100, and is in contact with the dry film 102 and the mylar film 103. The number of heating blades 44 to be used is not limited.

前記基板支持部50は前記基板100の下端に位置し、基板支持部50によって支持体60に固定される。   The substrate support 50 is located at the lower end of the substrate 100 and is fixed to the support 60 by the substrate support 50.

前記基板支持部50は基板100の下面に位置し、基板100を支持する役割をして、前記基板支持部50の上面にはローラを備えることにより、前記基板100が容易に移動することができるようにする。   The substrate support unit 50 is located on the lower surface of the substrate 100 and plays a role of supporting the substrate 100. By providing a roller on the upper surface of the substrate support unit 50, the substrate 100 can be easily moved. Like that.

前記支持体60は、前記固定軸10を固定している固定軸支持部15と前記基板支持部50を固定することができる。   The support 60 can fix the fixed shaft support 15 that fixes the fixed shaft 10 and the substrate support 50.

また、前記支持体60は移送ガイド部70に形成されているガイド部75によって左右に移動できるため、前記支持体60に固定されている固定軸支持部15と基板支持部50が左右に移動することができる。   Further, since the support body 60 can be moved to the left and right by a guide part 75 formed on the transfer guide part 70, the fixed shaft support part 15 and the substrate support part 50 fixed to the support body 60 move to the left and right. be able to.

前記支持体60は空気圧によって移送ガイド部70に沿って移動することができるが、これに限定されず、電気または流圧などを用いて左右に移動することができる。   The support 60 can be moved along the transfer guide portion 70 by air pressure, but is not limited thereto, and can be moved left and right using electricity or fluid pressure.

前記移送ガイド部70は固定部80に付着されている。   The transfer guide part 70 is attached to the fixed part 80.

前記基板100はコンベアベルト(未図示)によって前記ヒーティング部40と前記基板支持部50との間に移動されることができ、前記ヒーティング部40のヒーティングブレード44によって基板100のドライフィルム102とマイラーフィルム103が切断されたり、またはかかれるようになる。   The substrate 100 may be moved between the heating unit 40 and the substrate support unit 50 by a conveyor belt (not shown), and the dry film 102 of the substrate 100 is heated by a heating blade 44 of the heating unit 40. The mylar film 103 is cut or scratched.

図3から図6を参照して、本発明の実施形態によるフィルム除去装置のフィルム除去方法及び固定順序に対して詳細に説明する。   With reference to FIGS. 3 to 6, the film removal method and the fixing order of the film removal apparatus according to the embodiment of the present invention will be described in detail.

本発明の実施形態によるフィルム除去方法及び固定順序は、図3に示すように、基板100がコンベアベルト(未図示)によって前記移動軸20の下端一側に付着されているヒーティング部40のヒーティングブレード44と基板支持部50との間まで移動される。前記ヒーティングブレード44と基板支持部50との間に移動される前記基板100は、回路が形成されていない基板100の端部であることができる。但し、基板100の端部でなくても回路が形成されていない部分であることができ、これに限定されない。   As shown in FIG. 3, the film removal method and the fixing order according to the embodiment of the present invention include the heating of the heating unit 40 in which the substrate 100 is attached to one side of the lower end of the moving shaft 20 by a conveyor belt (not shown). It is moved between the ting blade 44 and the substrate support 50. The substrate 100 moved between the heating blade 44 and the substrate support part 50 may be an end portion of the substrate 100 where no circuit is formed. However, even if it is not the edge part of the board | substrate 100, it can be a part in which the circuit is not formed, It is not limited to this.

この際、前記ヒーティング部40と前記基板支持部50は、前記基板100が搬入されるように、基板100の厚さより広く開けられていることができる。この際、基板支持部50は固定されており、前記移動軸20が前記固定軸10の内部に移動される。   At this time, the heating unit 40 and the substrate support unit 50 may be opened wider than the thickness of the substrate 100 so that the substrate 100 is carried in. At this time, the substrate support portion 50 is fixed, and the moving shaft 20 is moved into the fixed shaft 10.

また、前記コンベアベルト(未図示)によって基板100が前記ヒーティング部40と基板支持部50との間に進入されることができるが、これに限定されず、使用者の便宜に応じて前記支持体60が前記基板100の進入方向または反対方向に移動して、前記回路が形成されていない基板100まで進入することもできる。前記支持体60は移送ガイド部70に形成されたガイド部75に沿って移動することができる。   In addition, the substrate 100 may be inserted between the heating unit 40 and the substrate support unit 50 by the conveyor belt (not shown), but the present invention is not limited thereto, and the support is performed according to the convenience of the user. It is also possible for the body 60 to move in the direction of entry of the substrate 100 or in the opposite direction to enter the substrate 100 where the circuit is not formed. The support 60 can move along a guide part 75 formed in the transfer guide part 70.

図4に示すように、前記移動軸20によってヒーティングブレード44が前記基板100に接触することができる。この際、移動軸20は、ヒーティングブレード44がドライフィルム102、マイラーフィルム103と線接触されるまで基板100に移動することができ、状況に応じてヒーティングブレード44が基板100の上面まで接近してもよい。前記ヒーティングブレード44が接近する基板100の上面には回路が形成されていないことができる。   As shown in FIG. 4, the heating blade 44 can come into contact with the substrate 100 by the moving shaft 20. At this time, the moving shaft 20 can move to the substrate 100 until the heating blade 44 is in line contact with the dry film 102 and the mylar film 103, and the heating blade 44 approaches the upper surface of the substrate 100 depending on the situation. May be. A circuit may not be formed on the upper surface of the substrate 100 to which the heating blade 44 approaches.

また、この際、前記ヒーティングブレード44は前記ヒーティングブロック42から熱の供給を受けることができる。   At this time, the heating blade 44 can receive heat from the heating block 42.

図5に示すように、前記ヒーティングブレード44を用いて前記基板100に順に積層されているドライフィルム102とマイラーフィルム103を切断することができる。   As shown in FIG. 5, the dry film 102 and the mylar film 103 that are sequentially laminated on the substrate 100 can be cut using the heating blade 44.

また、他の実施形態としては、前記ヒーティングブレード44は、ヒーティングブロックから210℃〜250℃の熱の供給を受けて、前記基板100に順に積層されているドライフィルム102とマイラーフィルム103を加圧するようになる。この際、ドライフィルム102の溶融点は約200℃であり、マイラーフィルム103の溶融点は260℃以上であるため、前記ヒーティングブレード44によって加圧されたドライフィルム102とマイラーフィルム103のうちドライフィルム102のみがヒーティングブレード44によって溶けるようになる。   In another embodiment, the heating blade 44 is supplied with heat of 210 ° C. to 250 ° C. from a heating block, and includes a dry film 102 and a mylar film 103 that are sequentially laminated on the substrate 100. Pressurize. At this time, since the melting point of the dry film 102 is about 200 ° C. and the melting point of the mylar film 103 is 260 ° C. or more, the dry film 102 and the mylar film 103 pressed by the heating blade 44 are dry. Only the film 102 is melted by the heating blade 44.

この際、支持体60が移送ガイド部70のガイド部75に沿って左右に移動されることにより、ヒーティングブレード44が左右に移動し、前記基板100に形成されているドライフィルム102とマイラーフィルム103を切断したり、またはマイラーフィルム103のみを溶かすことができる。   At this time, the support 60 is moved to the left and right along the guide part 75 of the transfer guide part 70, whereby the heating blade 44 is moved to the left and right, and the dry film 102 and the mylar film formed on the substrate 100 are moved. 103 can be cut or only the mylar film 103 can be melted.

また、他の実施形態としては、前記コンベアベルトによって前記基板100が左右に移動され、前記ヒーティングブレード44によってドライフィルム102とマイラーフィルム103を切断したりまたはマイラーフィルム103のみを溶かすことができる。   In another embodiment, the substrate 100 is moved left and right by the conveyor belt, and the dry film 102 and the mylar film 103 can be cut by the heating blade 44 or only the mylar film 103 can be melted.

場合によって、前記ヒーティングブレード44は前記基板100まで接近して前記基板100をかくようにすることもできるが、回路が形成されていないダミー部分であるため関係ない。   In some cases, the heating blade 44 may approach the substrate 100 to cover the substrate 100, but it is not relevant because it is a dummy portion in which no circuit is formed.

図6に示すように、切断されて左右に分離されたドライフィルム102とマイラーフィルム103によりマイラーフィルム103の下面と基板100との間が離隔され、その間に空気が流入される。   As shown in FIG. 6, the lower surface of the mylar film 103 and the substrate 100 are separated by the dry film 102 and the mylar film 103 that have been cut and separated to the left and right, and air flows in between them.

空気が流入されたマイラーフィルム103の上面に接着テープ(未図示)を付着し、一定の角度及び速度でマイラーフィルム103を容易に剥離することができる。   An adhesive tape (not shown) is attached to the upper surface of the mylar film 103 into which air has been introduced, and the mylar film 103 can be easily peeled at a constant angle and speed.

また、他の実施形態として、前記基板100上に存在する積層部材のうちヒーティングブレード44がドライフィルム102のみを溶かすことにより、マイラーフィルム103と基材101の間に空間が離隔されて、容易にマイラーフィルム103を剥離することができる。   In another embodiment, the heating blade 44 melts only the dry film 102 among the laminated members existing on the substrate 100, so that a space is easily separated between the mylar film 103 and the base material 101. The mylar film 103 can be peeled off.

この際、マイラーフィルム103を剥離する方法としては、接着ローラなどを用いることができ、これに限定しない。   At this time, as a method of peeling the mylar film 103, an adhesive roller or the like can be used, and the method is not limited to this.

以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、上述の内容は本発明の好ましい実施形態を示して説明するものに過ぎず、本発明は多様な他の組合、変更及び環境で用いることができる。即ち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、述べた開示内容と均等な範囲及び/または当業界の技術または知識の範囲内で変更または修正が可能である。上述の実施形態は本発明を実施するにおいて最善の状態を説明するためのものであり、本発明のような他の発明を用いるにおいて当業界に公知された他の状態での実施、そして発明の具体的な適用分野及び用途で要求される多様な変更も可能である。従って、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態に本発明を制限しようとする意図ではない。また、添付された請求範囲は他の実施状態も含むと解釈されるべきであろう。   The above detailed description illustrates the invention. Also, the foregoing is merely illustrative of a preferred embodiment of the present invention and the present invention can be used in a variety of other combinations, modifications and environments. That is, changes or modifications can be made within the scope of the inventive concept disclosed in the present specification, the scope equivalent to the disclosed contents, and / or the skill or knowledge of the industry. The embodiments described above are for explaining the best state in carrying out the present invention, in other states known in the art in using other inventions such as the present invention, and for the invention. Various modifications required in specific application fields and applications are possible. Accordingly, the above detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other implementations.

10 固定軸
20 移動軸
30 弾性部材
40ヒーティング部
42 ヒーティングブロック
44 ヒーティングブレード
50 基板支持部
60 支持体
70 移送ガイド部
75 ガイド部
80 固定部
100 基板
101 基材
102 ドライフィルム
103 マイラーフィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Fixed shaft 20 Moving shaft 30 Elastic member 40 Heating part 42 Heating block 44 Heating blade 50 Substrate support part 60 Support body 70 Transfer guide part 75 Guide part 80 Fixed part 100 Substrate 101 Base material 102 Dry film 103 Mylar film

Claims (12)

基板を支持する基板支持部;
前記基板支持部の上部に配置される固定軸;
前記固定軸内で上下移動可能に備えられる移動軸;
前記移動軸に結合されたヒーティング部を含み、
前記ヒーティング部は、
前記移動軸の下部に結合されたヒーティングブロック;及び
前記ヒーティングブロックから発生された熱を利用し、前記基板支持部に支持される前記基板の積層部材を加圧するヒーティングブレードを含み、
前記積層部材は、第1の積層部材と、前記第1の積層部材上にラミネートされた第2の積層部材とを有し、前記第1の積層部材は第1の溶融点を有し、前記第2の積層部材は前記第1の溶融点よりも高い第2の溶融点を有し、
前記第1の積層部材のみを溶解することによって前記基板から前記積層部材を除去するために、前記ヒーティング部は前記第1の溶融点と前記第2の溶融点の間の温度で前記積層部材を加圧する、
フィルム除去装置。
A substrate support for supporting the substrate;
A fixed shaft disposed on top of the substrate support;
A moving shaft provided to be movable up and down within the fixed shaft;
A heating unit coupled to the moving axis;
The heating unit is
Wherein is coupled to a lower portion of the moving shaft the heating block; and utilizing the heat generated from the heating block, saw including a heating blade for pressurizing the laminated member of the substrate supported on the substrate support,
The laminated member has a first laminated member and a second laminated member laminated on the first laminated member, the first laminated member has a first melting point, The second laminated member has a second melting point higher than the first melting point;
In order to remove the laminated member from the substrate by dissolving only the first laminated member, the heating unit is configured to remove the laminated member at a temperature between the first melting point and the second melting point. Pressurize,
Film removal device.
前記移動軸の一側に圧力調節装置を備えて、前記移動軸が前記固定軸の内側に上、下移動する請求項1に記載のフィルム除去装置。   The film removing apparatus according to claim 1, further comprising a pressure adjusting device on one side of the moving shaft, wherein the moving shaft moves up and down inside the fixed shaft. 前記圧力調節装置は空圧を利用して前記移動軸を移動させる請求項2に記載のフィルム除去装置。   The film removing apparatus according to claim 2, wherein the pressure adjusting device moves the moving shaft using air pressure. 前記移動軸の外部にコイルスプリングで構成された弾性部材をさらに含む請求項1に記載のフィルム除去装置。   The film removing apparatus according to claim 1, further comprising an elastic member formed of a coil spring outside the moving shaft. 前記ヒーティングブロックは、一定温度を制御することができるヒートコントローラを備える請求項1に記載のフィルム除去装置。   The film removal apparatus according to claim 1, wherein the heating block includes a heat controller capable of controlling a constant temperature. 前記ヒーティングブロックから発生された熱を利用して前記基板上の積層部材を加圧するヒーティングブレードは、逆三角形の断面形態に形成される請求項1に記載のフィルム除去装置。   The film removing apparatus according to claim 1, wherein the heating blade that pressurizes the laminated member on the substrate using heat generated from the heating block is formed in a cross-sectional shape of an inverted triangle. 前記基板上の積層部材を加圧するヒーティングブレードは、前記基板上の積層部材を切断することができる請求項1に記載のフィルム除去装置。   The film removing apparatus according to claim 1, wherein the heating blade that pressurizes the laminated member on the substrate can cut the laminated member on the substrate. 前記ヒーティングブレードは、移送ガイド部のガイド部によって水平移動されながら前記基板の積層部材を水平に加圧する請求項1に記載のフィルム除去装置。   The film removing apparatus according to claim 1, wherein the heating blade horizontally pressurizes the laminated member of the substrate while being horizontally moved by the guide portion of the transfer guide portion. 前記ヒーティングブレードは、前記基板に回路が形成されていない部分の前記積層部材を加圧する請求項に記載のフィルム除去装置。 The film removing apparatus according to claim 8 , wherein the heating blade pressurizes the laminated member in a portion where a circuit is not formed on the substrate. 前記第2の積層部材は、ヒーティングブレードによって加圧された後、接着テープを利用して除去する請求項に記載のフィルム除去装置。 The film removing apparatus according to claim 9 , wherein the second laminated member is removed by using an adhesive tape after being pressed by a heating blade. 前記第1の積層部材はドライフィルムであり、前記第2の積層部材はマイラーフィルムである、請求項1に記載のフィルム除去装置。 It said first laminated member is a dry film, the second lamination members are Mylar film, the film removing apparatus according to claim 1. 前記基板の下部側には前記ヒーティングブレードと対面する基板支持部が位置し、前記基板支持部上にはローラが設けられた請求項1に記載のフィルム除去装置。   The film removing apparatus according to claim 1, wherein a substrate support portion facing the heating blade is positioned on a lower side of the substrate, and a roller is provided on the substrate support portion.
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