JP4778788B2 - Fine pattern sheet creating apparatus and fine pattern sheet creating method - Google Patents

Fine pattern sheet creating apparatus and fine pattern sheet creating method Download PDF

Info

Publication number
JP4778788B2
JP4778788B2 JP2005377910A JP2005377910A JP4778788B2 JP 4778788 B2 JP4778788 B2 JP 4778788B2 JP 2005377910 A JP2005377910 A JP 2005377910A JP 2005377910 A JP2005377910 A JP 2005377910A JP 4778788 B2 JP4778788 B2 JP 4778788B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine pattern
base material
mold
pattern sheet
molding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005377910A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007176039A (en
Inventor
幸生 飯村
光典 小久保
聡 福山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
Priority to JP2005377910A priority Critical patent/JP4778788B2/en
Publication of JP2007176039A publication Critical patent/JP2007176039A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4778788B2 publication Critical patent/JP4778788B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Description

本発明は、微細パターンシート作成装置に係り、特に、型に設けられている微細なパターンを基材に転写することによって、微細なパターンが転写されたシートを作成するものに関する。   The present invention relates to an apparatus for creating a fine pattern sheet, and more particularly to an apparatus for producing a sheet having a fine pattern transferred by transferring a fine pattern provided on a mold to a substrate.

図１３は、従来の微細パターンシート作成装置２００の概略構成を示す図である。   FIG. 13 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional fine pattern sheet creating apparatus 200.

従来の微細パターンシート作成装置２００（たとえば、非特許文献１参照）は、側面に微細なパターンが形成されているローラ２０２に、シート状の基材２０４を巻き掛けローラ２０２を回転しつつ基材２０４を一定方向に送りながら、基材２０４に前記パターンを転写するものである。   A conventional fine pattern sheet creating apparatus 200 (see, for example, Non-Patent Document 1) is configured such that a sheet-like base material 204 is wound around a roller 202 having a fine pattern formed on its side surface while the roller 202 is rotated. The pattern is transferred to the base material 204 while feeding 204 in a certain direction.

より詳しく説明すると、基材２０４の一方の面（ローラ２０２に接触する側の面）には、紫外線硬化樹脂２０６が薄く設けられており、基材２０４がローラ２０２に接触する部位で、紫外線硬化樹脂２０６がローラ２０２のパターンに倣い、さらに、紫外線照射装置２０８から基材２０４に紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂２０６が硬化し、基材２０４への前記パターンの転写がなされるようになっている。   More specifically, the UV curable resin 206 is thinly provided on one surface of the base material 204 (the surface on the side in contact with the roller 202). The resin 206 follows the pattern of the roller 202, and further, the ultraviolet ray irradiating device 208 irradiates the substrate 204 with ultraviolet rays, whereby the ultraviolet curable resin 206 is cured and the pattern is transferred to the substrate 204. It has become.

なお、転写がされた基材２０４は、所定の形状に切断された後、たとえば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のフィルタとして使用される。
次世代高速高精度Ｓａｗｙｅｒ型平面モータの開発、［平成１７年１２月２０日検索］、インターネット＜ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：//ｗｗｗ．ｍｅｘｔ．ｇｏ．ｊｐ/ｂ＿ｍｅｎｕ/ｈｏｕｄｏｕ/１６/１２/０４１２１５０１/ｆｕｒｏｋｕ/０２８/００１．ｐｄｆ：ｈｔｔｐ：//ｗｗｗ．ｍｅｘｔ．ｇｏ．ｊｐ/ｂ＿ｍｅｎｕ/ｈｏｕｄｏｕ/１６/１２/０４１２１５０１／ｐｄｆ／０２６＿０２．ｐｄｆ The transferred base material 204 is cut into a predetermined shape and then used as a filter for a liquid crystal display (LCD), for example.
Development of next-generation high-speed and high-precision Sawyer type planar motor, [Searched on December 20, 2005], Internet <URL: http: // www. mext. go. jp / b_menu / hoodou / 16/12/04121501 / furoku / 028/001. pdf: http: // www. mext. go. jp / b_menu / hoodou / 16/12/04121501 / pdf / 026_02. pdf

ところで、従来の微細パターンシート作成装置２００では、基材２０４への転写がローラ２０２により連続的になされるので、基材２０４へのパターンの転写を効率良く行なうことができるが、この一方で、ローラ２０２から基材２０４（紫外線硬化樹脂２０６）が離れる際、図１４（転写のアスペクト比を示す図）に示すように紫外線硬化樹脂２０６のアスペクト比（パターンの高さＨ／パターンの幅Ｗ）が大きいと、紫外線硬化樹脂２０６に形成されたパターンが崩れるおそれがあるという問題がある。   By the way, in the conventional fine pattern sheet producing apparatus 200, since the transfer to the base material 204 is continuously performed by the roller 202, the pattern can be efficiently transferred to the base material 204. When the substrate 204 (ultraviolet curable resin 206) is separated from the roller 202, the aspect ratio (pattern height H / pattern width W) of the ultraviolet curable resin 206 is shown in FIG. Is large, there is a problem that the pattern formed on the ultraviolet curable resin 206 may be broken.

すなわち、従来の微細パターンシート作成装置２００では、ローラ２０２から基材２０４が離れる部位では、ローラ２０２の側面に倣って円弧状に湾曲していた基材２０４（紫外線硬化樹脂２０６）が直線状になるので、ローラ２０２のパターンの凹部（図示せず）に入り込んでいた紫外線硬化樹脂２０６の凸部（図示せず）が、前記凹部から抜け出る際に前記凹部と干渉する等して、前記凸部の形状が崩れるおそれがあるという問題がある。   That is, in the conventional fine pattern sheet creating apparatus 200, at the part where the base material 204 is separated from the roller 202, the base material 204 (ultraviolet curable resin 206) that has been curved in an arc shape along the side surface of the roller 202 is linear. Therefore, the convex portion (not shown) of the UV curable resin 206 that has entered the concave portion (not shown) of the pattern of the roller 202 interferes with the concave portion when the convex portion (not shown) exits from the concave portion. There is a problem in that there is a possibility that the shape of the material may collapse.

なお、前記問題は、紫外線硬化樹脂以外の材料（たとえば、熱硬化性樹脂）にパターンを転写する場合にも同様に発生する問題である。   In addition, the said problem is a problem which generate | occur | produces similarly when transferring a pattern to materials (for example, thermosetting resin) other than ultraviolet curable resin.

本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、型のパターンの転写を効率良く行なうことが出来ると共に、型から転写されたパターンのアスペクト比が大きくても、前記転写されたパターンが崩れにくい、微細シートパターン作成装置および微細シートパターン作成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and can efficiently transfer a pattern of a mold, and the transferred pattern can be transferred even if the aspect ratio of the pattern transferred from the mold is large. An object of the present invention is to provide a fine sheet pattern creating apparatus and a fine sheet pattern creating method that are not easily broken.

請求項１に記載の発明は、所定の幅を備えた長いシート状の基材を、この長手方向に搬送することが可能な搬送手段と、前記基材の一方の面に、被成形物を設ける被成形物設置手段と、前記被成形物設置手段の下流側で前記基材の一方の面側に設けられ、微細なパターンが形成されている平面状の転写面を備えていると共に前記基材の厚さ方向に移動自在な型と、前記基材に設けられている被形成物に転写を行なうために、前記型と協働して前記基材を挟み込むことが可能なベースユニットと、前記型と前記ベースユニットとで前記基材を挟み込んでいるときに、前記被成形物を硬化すべく前記被成形物にエネルギーを供給するエネルギー供給手段とを有する微細パターンシート作成装置である。   According to the first aspect of the present invention, there is provided a conveying means capable of conveying a long sheet-like base material having a predetermined width in the longitudinal direction, and a molding object on one surface of the base material. A molding object installation means to be provided; a flat transfer surface provided on one surface side of the base material on the downstream side of the molding object installation means and having a fine pattern formed thereon; and A mold that is movable in the thickness direction of the material, and a base unit that can sandwich the substrate in cooperation with the mold in order to perform transfer to an object provided on the substrate. An apparatus for creating a fine pattern sheet, comprising: energy supply means for supplying energy to the molding object so as to cure the molding object when the substrate is sandwiched between the mold and the base unit.

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の微細パターンシート作成装置において、前記型と前記ベースユニットとで前記基材を挟み込んでいるときに前記基材を挟む更なる力を前記型の一端部から他端部に向かって移動して加えることが可能な加圧手段を有する微細パターンシート作成装置である。   The invention according to claim 2 is the fine pattern sheet creating apparatus according to claim 1, wherein when the base material is sandwiched between the mold and the base unit, a further force for sandwiching the base material is applied to the mold. It is the fine pattern sheet | seat production apparatus which has a pressurizing means which can move and apply toward one end part from the other end part.

請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の微細パターンシート作成装置において、前記型のパターンが転写されて硬化した被成形物を備えた前記基材を所定の形状に切断するために、前記型と前記エネルギー供給手段との下流側に設けられた切断手段を有する微細パターンシート作成装置である。   According to a third aspect of the present invention, in the fine pattern sheet producing apparatus according to the first or second aspect, the base material provided with the molding to which the pattern of the mold is transferred and cured is formed into a predetermined shape. In order to cut | disconnect, it is a fine pattern sheet | seat production apparatus which has the cutting means provided in the downstream of the said type | mold and the said energy supply means.

請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の微細パターンシート作成装置において、前記型のパターンが転写されて硬化した被成形物を備えた基材であって、前記切断手段で切断された基材を、所定の場所に搬送する切断基材搬送手段を有する微細パターンシート作成装置である。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the fine pattern sheet producing apparatus according to the third aspect, wherein the fine pattern sheet creating apparatus is a base material having a molding to which the pattern of the mold is transferred and cured, and is cut by the cutting means. It is a fine pattern sheet production apparatus which has the cutting base material conveyance means which conveys the obtained base material to a predetermined place.

請求項５に記載の発明は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、前記被成形物設置手段と前記型との間に、前記基材のバッファ領域が設けられている微細パターンシート作成装置である。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the fine pattern sheet creating apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the buffer for the base material is provided between the molding object setting means and the mold. It is a fine pattern sheet producing apparatus provided with a region.

請求項６に記載の発明は、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、前記被成形物設置手段は、ミスト状の前記被成形物を前記基材に供給し、前記基材に前記被成形物を設ける手段である微細パターンシート作成装置である。   The invention according to claim 6 is the fine pattern sheet creating apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the molding object setting means uses the mist-shaped molding object as the base material. And a fine pattern sheet creating apparatus which is a means for providing the molded article on the substrate.

請求項７に記載の発明は、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、前記転写面の微細なパターンを前記被成形物に転写する際に、前記型に貼り付いている前記基材を、前記型から剥がすための離型手段を有する微細パターンシート作成装置である。   The invention according to claim 7 is the fine pattern sheet creating apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the fine pattern on the transfer surface is transferred to the molding object. It is a fine pattern sheet production apparatus which has a mold release means for peeling off the base material stuck on a type from the type.

請求項８に記載の発明は、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、前記被成形物は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化樹脂または熱によって硬化する熱硬化性樹脂である微細パターンシート作成装置である。   The invention according to claim 8 is the fine pattern sheet producing apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the molding is cured by an ultraviolet curable resin or heat cured by irradiation with ultraviolet rays. It is the fine pattern sheet production apparatus which is a thermosetting resin to do.

請求項９に記載の発明は、所定の幅を備えた長いシート状の基材を長手方向に間欠的に搬送しつつ、型に設けられている微細なパターンを前記基材に薄く設けられた被成形物に転写して微細パターンシートを作成する微細パターンシート作成方法において、前記基材の一方の面に、被成形物を設ける工程と、前記被成形物設置工程で設けられた被成形物と前記基材とを、微細なパターンが形成されている平面状の転写面を備えている型と、ベースユニットとで挟み込む工程と、前記型と前記ベースユニットとで前記基材を挟み込んでいるときに、前記被成形物を硬化すべく前記被成形物にエネルギーを供給する工程とを有することを特徴とする微細パターンシート作成方法である。   According to the ninth aspect of the present invention, a fine pattern provided in a mold is thinly provided on the base material while intermittently conveying a long sheet-like base material having a predetermined width in the longitudinal direction. In the fine pattern sheet creating method for creating a fine pattern sheet by transferring to a molded object, a process of providing the molded object on one surface of the substrate, and a molded object provided in the molded object installation step And the base material are sandwiched between a mold having a flat transfer surface on which a fine pattern is formed and a base unit, and the base material is sandwiched between the mold and the base unit. And a step of supplying energy to the molding to cure the molding.

請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の微細パターンシート作成方法において、前記被成形物は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化樹脂または熱によって硬化する熱硬化性樹脂である微細パターンシート作成方法である。   A tenth aspect of the present invention is the fine pattern sheet producing method according to the ninth aspect, wherein the molding is a fine pattern that is an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation of ultraviolet rays or a thermosetting resin that is cured by heat. This is a sheet creation method.

本発明によれば、型のパターンの転写を効率良く行なうことが出来ると共に、型から転写されたパターンのアスペクト比が大きくても、前記転写されたパターンが崩れにくい、微細シートパターン作成装置を提供することができるという効果を奏する。   According to the present invention, there is provided a fine sheet pattern creating apparatus that can efficiently transfer a pattern of a mold and that the transferred pattern is not easily broken even if the aspect ratio of the pattern transferred from the mold is large. There is an effect that can be done.

図１は、本発明の実施形態に係る微細パターンシート作成装置１の概略構成を示す図であり、図２は図１におけるＩＩ矢視を示す図である。   FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a fine pattern sheet creating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing an arrow II in FIG.

本件明細書では、説明の便宜のため、水平方向の一方向をＸ軸方向とし、水平方向の他の一方向であって前記Ｘ軸方向に直角な方向をＹ軸方向とし、上下方向（鉛直方向）をＺ軸方向とする。   In this specification, for convenience of explanation, one direction in the horizontal direction is the X-axis direction, another direction in the horizontal direction that is perpendicular to the X-axis direction is the Y-axis direction, and the vertical direction (vertical Direction) is the Z-axis direction.

微細パターンシート作成装置１は、微細パターンシート（微細なパターンが転写されたシート状の基材３；より詳しくは、シート状の基材３の厚さ方向の一方の面に薄く設けられた紫外線硬化樹脂９等の被成形物に、型１１に設けられた平面状の転写面１３に形成されている微細なパターンが転写され、前記被成形物が硬化して前記基材３と一体になっているシート状のもの）を作成する装置である。微細パターンシート作成装置１で作成された微細パターンシートは、たとえば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のフィルタとして使用される。   The fine pattern sheet creating apparatus 1 includes a fine pattern sheet (a sheet-like base material 3 onto which a fine pattern is transferred; more specifically, an ultraviolet ray thinly provided on one surface in the thickness direction of the sheet-like base material 3. A fine pattern formed on a planar transfer surface 13 provided on the mold 11 is transferred to a molded object such as a cured resin 9, and the molded object is cured and integrated with the base material 3. This is an apparatus for creating a sheet-like material. The fine pattern sheet produced by the fine pattern sheet producing apparatus 1 is used as a filter of a liquid crystal display (LCD), for example.

また、微細パターンシート作成装置１は、所定の幅を備えた長いシート状の基材３を、この幅方向（Ｙ軸方向）および長手方向（Ｘ軸方向）で平面状に伸びた状態で、Ｘ軸方向に間欠的に搬送することが可能な搬送手段５を備えている。なお、基材３の搬送方向の上流側では、基材３はロール状に巻かれている。   In addition, the fine pattern sheet creating apparatus 1 has a long sheet-like base material 3 having a predetermined width extended in a planar shape in the width direction (Y-axis direction) and the longitudinal direction (X-axis direction). Conveying means 5 capable of intermittently conveying in the X-axis direction is provided. In addition, in the upstream of the conveyance direction of the base material 3, the base material 3 is wound in roll shape.

搬送手段５による基材３の搬送方向の上流側には、被成形物設置手段７が設けられている。この被成形物設置手段７は、前記基材３の厚さ方向（Ｚ軸方向）の一方の面（たとえば上面）に、被成形物の例である紫外線硬化樹脂（紫外線が照射されることにより硬化する樹脂）９を薄く設けるためのものである。   On the upstream side in the conveyance direction of the base material 3 by the conveyance means 5, a molding object setting means 7 is provided. This molding object setting means 7 is formed by irradiating one surface (for example, the upper surface) in the thickness direction (Z-axis direction) of the base material 3 with an ultraviolet curable resin (ultraviolet light) as an example of the molding object. This is for providing a thin resin 9 to be cured.

搬送手段５の搬送方向における被成形物設置手段７の下流側で基材３厚さ方向の一方の面（基材３の上面）側には、型１１が設けられている。この型１１は、微細なパターンが形成されている平面状の転写面１３を下方に備えていると共に、転写位置と離反位置との間を基材３厚さ方向で移動できるようになっている。なお、各図では、転写面１３のパターンの凹凸を強調（拡大）して描いてあるが、実際の凹凸は描いたものよりもずっと小さく、したがって肉眼では、転写面１３は平面状に見える。   A mold 11 is provided on the one side in the thickness direction of the base material 3 (upper surface of the base material 3) on the downstream side of the molding object setting means 7 in the transport direction of the transport means 5. The mold 11 is provided with a flat transfer surface 13 on which a fine pattern is formed below, and can move between a transfer position and a separation position in the thickness direction of the substrate 3. . In each drawing, the unevenness of the pattern on the transfer surface 13 is drawn with an emphasis (enlargement), but the actual unevenness is much smaller than what is drawn, and therefore the transfer surface 13 looks flat to the naked eye.

転写面１３は基材３の一方の面と対向し前記一方の面とほぼ平行になっている。前記転写位置は、図４（ｃ）や図５（ｄ）で示すように、転写面１３に設けられている微細なパターンを基材３の一方の面に設けられている紫外線硬化樹脂９に転写するための位置、すなわち、転写面１３が基材３の一方の面に設けられている紫外線硬化樹脂９に所定の圧力で接触している位置である。また、前記離反位置は、図１や図４（ａ）等で示すように、型１１が基材３から上方に離れている位置である。   The transfer surface 13 faces one surface of the substrate 3 and is substantially parallel to the one surface. As shown in FIG. 4C and FIG. 5D, the transfer position is obtained by applying a fine pattern provided on the transfer surface 13 to the ultraviolet curable resin 9 provided on one surface of the substrate 3. A position for transferring, that is, a position where the transfer surface 13 is in contact with the ultraviolet curable resin 9 provided on one surface of the substrate 3 with a predetermined pressure. Moreover, the said separation | separation position is a position where the type | mold 11 has left | separated upwards from the base material 3, as shown in FIG.1 and FIG.4 (a).

また、被成形物設置手段７の下流側であって基材３の他方の面（基材３の下面）側で型１１と対向する位置には、ベースユニット１５が設けられている。このベースユニット１５は、基材３に設けられている紫外線硬化樹脂９に転写を行なうために、型１１と協働して基材３を挟み込むものである。   A base unit 15 is provided at a position on the other side of the base material 3 (the lower surface of the base material 3) on the downstream side of the molding object setting means 7 and facing the mold 11. The base unit 15 sandwiches the base material 3 in cooperation with the mold 11 in order to perform transfer to the ultraviolet curable resin 9 provided on the base material 3.

ベースユニット１５は、基材３の厚さ方向の他方の面に対向して前記他方の面にほぼ平行な平面１７を備えていると共に、基材３に設けられている紫外線硬化樹脂９に転写を行なうべく、平面１７と型１１の転写面１３とで基材３を所定の圧力で挟み込むことが可能なように、基材３の厚さ方向（Ｚ軸方向）に移動自在になっている。すなわち、ベースユニット１５も、型１１のように、転写位置（図４（ｃ）、図５（ｄ）参照）と離反位置（図１、図４（ａ）等を参照）の間を移動するようになっている。   The base unit 15 includes a flat surface 17 facing the other surface in the thickness direction of the substrate 3 and substantially parallel to the other surface, and is transferred to the ultraviolet curable resin 9 provided on the substrate 3. Therefore, the base plate 3 is movable in the thickness direction (Z-axis direction) so that the base plate 3 can be sandwiched between the flat surface 17 and the transfer surface 13 of the mold 11 with a predetermined pressure. . That is, the base unit 15 also moves between the transfer position (see FIGS. 4C and 5D) and the separation position (see FIGS. 1, 4A, etc.) like the mold 11. It is like that.

また、搬送手段５の搬送方向における被成形物設置手段７の下流側で基材３の厚さ方向の他方の面側には、紫外線照射手段（紫外線ランプ）１９が設けられている。この紫外線照射手段１９は、型１１とベースユニット１５とで基材３を挟み込んでいるときに、紫外線硬化樹脂９を硬化すべく紫外線硬化樹脂９に紫外線を照射するものである。   Further, an ultraviolet irradiation means (ultraviolet lamp) 19 is provided on the other surface side in the thickness direction of the substrate 3 on the downstream side of the molding object setting means 7 in the conveyance direction of the conveyance means 5. The ultraviolet irradiating means 19 irradiates the ultraviolet curable resin 9 with ultraviolet rays so as to cure the ultraviolet curable resin 9 when the substrate 3 is sandwiched between the mold 11 and the base unit 15.

搬送手段５の搬送方向における型１１、ベースユニット１５、紫外線照射手段１９の下流側には、切断手段２１が設けられている。この切断手段２１は、たとえば、レーザ光ＬＢを用いて、型１１のパターンが転写されて硬化した紫外線硬化樹脂９を備えた基材３（硬化した紫外線硬化樹脂９を含む場合もある）を所定の形状に切断することができるようになっている。   A cutting means 21 is provided on the downstream side of the mold 11, the base unit 15, and the ultraviolet irradiation means 19 in the conveying direction of the conveying means 5. For example, the cutting means 21 uses a laser beam LB to predetermine a base material 3 (which may include a cured ultraviolet curable resin 9) provided with an ultraviolet curable resin 9 to which the pattern of the mold 11 has been transferred and cured. It can be cut into shapes.

また、搬送手段５の搬送方向の下流側には、型１１のパターンが転写されて硬化した紫外線硬化樹脂９を備えた基材３であって切断手段２１で切断された基材３を、所定の場所に搬送する切断基材搬送手段（たとえば、搬送ロボット）２３が設けられている。   Further, on the downstream side of the conveying means 5 in the conveying direction, the base material 3 provided with the ultraviolet curable resin 9 to which the pattern of the mold 11 has been transferred and cured, and the base material 3 cut by the cutting means 21 is provided in a predetermined manner. A cutting base material transporting means (for example, a transport robot) 23 for transporting to the place is provided.

なお、微細パターンシート作成装置１では、基材３のベースユニット１５側からのみ紫外線を照射しているが、これに代えてまたは加えて、基材３の型１１側から紫外線を照射してもよい。この場合、型１１は紫外線が透過可能な材料で構成されているものとする。   In the fine pattern sheet creating apparatus 1, the ultraviolet rays are irradiated only from the base unit 15 side of the base material 3, but instead of or in addition, the ultraviolet rays are irradiated from the mold 11 side of the base material 3. Good. In this case, the mold 11 is made of a material that can transmit ultraviolet rays.

前述した微細パターンシート作成装置１は、基材３に紫外線硬化樹脂を設けることが可能なように構成されているが、紫外線硬化樹脂に代えて熱硬化性樹脂を用いるように構成してもよい。この場合、紫外線照射手段に代えて、ヒータ、赤外線ランプ、熱風発生装置、スチーム発生装置等を設け、熱硬化性樹脂を硬化させるようにする。さらには、紫外線硬化樹脂や熱硬化性樹脂に代えて、外部からエネルギーを受けて硬化する樹脂等の被成形物を基材３に設け、この部材にエネルギー供給手段からエネルギーを供給し、前記被成形物を硬化するようにしてもよい。   The fine pattern sheet creating apparatus 1 described above is configured to be able to provide the substrate 3 with an ultraviolet curable resin, but may be configured to use a thermosetting resin instead of the ultraviolet curable resin. . In this case, instead of the ultraviolet irradiation means, a heater, an infrared lamp, a hot air generator, a steam generator, etc. are provided to cure the thermosetting resin. Further, instead of an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin, a base material 3 is provided with a molding material such as a resin that is cured by receiving energy from the outside, and energy is supplied to the member from an energy supply means. The molded product may be cured.

微細パターンシート作成装置１についてさらに詳しく説明する。   The fine pattern sheet creating apparatus 1 will be described in more detail.

ロール状の基材３は、微細パターンシート作成装置１のベース部材（図示せず）に設置され、回転することにより、基材３を延出可能なようになっている。   The roll-shaped base material 3 is installed on a base member (not shown) of the fine pattern sheet creating apparatus 1 and can be extended by rotating.

また、搬送手段５は、たとえば、互いが離反して前記ベース部材に回転自在に設けられている２つの回転部材（たとえば同形状のスプロケット）２５、２７に巻き掛けられている第１の環状の部材（たとえば、チェーン）２９と、同様に構成された２つの回転部材３３、３５と、各回転部材３３、３５に巻き掛けられている第２の環状の部材３７とを備えて構成されている。第１の環状の部材２９には、この長手方向で所定の間隔をあけて複数の保持部３１が設けられており、第２の環状の部材３７にも、この長手方向で所定の間隔をあけて複数の保持部３１が設けられている。   In addition, the conveying means 5 is, for example, a first annular member wound around two rotating members (for example, sprockets having the same shape) 25 and 27 that are separated from each other and rotatably provided on the base member. A member (for example, a chain) 29, two rotating members 33, 35 configured similarly, and a second annular member 37 wound around each rotating member 33, 35 are configured. . The first annular member 29 is provided with a plurality of holding portions 31 with a predetermined interval in the longitudinal direction, and the second annular member 37 is also spaced with a predetermined interval in the longitudinal direction. A plurality of holding portions 31 are provided.

各回転部材２５、２７と第１の環状の部材２９とは、基材３の幅方向（Ｙ軸方向）の一端部側で基材３から離れて設けられており、各回転部材３３、３５と第２の環状の部材３７とは、基材３の幅方向の他端部側で基材３から離れて設けられている。   The rotary members 25 and 27 and the first annular member 29 are provided away from the base material 3 on one end side in the width direction (Y-axis direction) of the base material 3, and the rotary members 33 and 35 are provided. The second annular member 37 is provided away from the base material 3 on the other end side in the width direction of the base material 3.

そして、前記各保持部３１のうちの所定の保持部３１で基材３の幅方向の両端部を保持しつつ、各回転部材２５、２７、３３、３５を回転することにより、基材３を搬送するようになっている。   Then, by rotating the rotating members 25, 27, 33, and 35 while holding the both ends in the width direction of the base material 3 with the predetermined holding parts 31 among the holding parts 31, the base material 3 is It is designed to be transported.

さらに説明すると、各回転部材２５、３７の間で直線状に延びている第１の環状の部材２９の一方（たとえば、図１の上方）の直線状の部位は、基材３の幅方向の一端部の近傍で基材３の幅方向の一端部に対して平行に延伸している。同様にして、各回転部材３３、３５の間で直線状に延びている第２の環状の部材３７の一方の直線状の部位は、基材３の幅方向の他端部の近傍で基材３の幅方向の他端部に対して平行に延伸している。   More specifically, one of the first annular members 29 extending linearly between the rotary members 25 and 37 (for example, the upper portion in FIG. 1) has a linear portion in the width direction of the substrate 3. In the vicinity of the one end portion, the base member 3 extends parallel to one end portion in the width direction. Similarly, one linear portion of the second annular member 37 extending linearly between the rotating members 33 and 35 is a base material in the vicinity of the other end portion in the width direction of the base material 3. 3 extends in parallel to the other end in the width direction.

また、各回転部材２５、２７、３３、３５は、サーボモータ等のアクチュエータやギヤ等の動力伝達部材
により同期して回転するようになっている。各回転部材２５、２７、３３、３５の回転中心軸は、基材３のたとえば下方でＹ軸方向に延伸している。したがって、各環状の部材２９、３７は、基材３の幅方向に対して直交する平面（Ｘ、Ｚ平面）内に設置され回動するようになっている。 The rotating members 25, 27, 33, and 35 are rotated in synchronization by an actuator such as a servo motor and a power transmission member such as a gear. The rotation center axis of each rotary member 25, 27, 33, 35 extends in the Y-axis direction, for example, below the substrate 3. Accordingly, each of the annular members 29 and 37 is installed and rotated in a plane (X, Z plane) orthogonal to the width direction of the base material 3.

さらに、第１の環状の部材２９と第２の環状の部材３７とには、同数の保持部３１がほぼ同間隔で設けられており、第１の環状の部材２９に設けられている各保持部３１と第２の環状の部材３７に設けられている各保持部３１とは互いが対向した位置に設けられている。したがって、たとえば、第１の環状の部材２９に設けられている１つの保持部３１の保持位置（基材３を保持した位置）とこの１つの保持部３１に対向して第２の環状の部材３７に設けられている１つの保持部３１の保持位置（基材３を保持した位置）とは、基材３の長手方向（Ｘ軸方向）においてほぼ同じ位置に存在している。また、各環状の部材２９、３７の前記一方の直線状部位における各保持部３１の設置間隔（Ｘ軸方向での設置間隔）は、型１１やベースユニット１５の長さ（Ｘ軸方向の長さ）よりも長くなっているが、より細かいピッチで保持部３１を設けてもよい。   Further, the first annular member 29 and the second annular member 37 are provided with the same number of holding portions 31 at substantially the same interval, and the respective holding portions provided on the first annular member 29 are provided. The part 31 and each holding part 31 provided on the second annular member 37 are provided at positions facing each other. Therefore, for example, the holding position (position where the base material 3 is held) of one holding portion 31 provided on the first annular member 29 and the second annular member facing the one holding portion 31. The holding position (position where the base material 3 is held) of one holding portion 31 provided in 37 exists at substantially the same position in the longitudinal direction (X-axis direction) of the base material 3. Further, the installation interval (installation interval in the X-axis direction) of each holding portion 31 in the one linear portion of each annular member 29, 37 is the length of the mold 11 or the base unit 15 (the length in the X-axis direction). However, the holding portions 31 may be provided at a finer pitch.

また、前述した搬送手段５では、第１の環状の部材２９を２つの回転部材２５、２７に巻き掛けているが、少少なくとも２つの回転部材に、第１の環状の部材２９が巻き掛けられている構成でもよい。たとえば、図１に破線で示すように、４つの回転部材２５Ａ、２５Ｂ、２７Ａ、２７Ｂに第１の環状の部材２９を巻き掛けてもよい。この場合、第２の環状の部材３７も第１の環状の部材２９と同様に少なくとも２つの回転部材（たとえば、４つの回転部材３３Ａ、３３Ｂ、３５Ａ、３５Ｂ）に巻き掛けられるものとする。   Further, in the transport means 5 described above, the first annular member 29 is wound around the two rotating members 25 and 27. However, the first annular member 29 is wound around at least two rotating members. The structure which is may be sufficient. For example, the first annular member 29 may be wound around the four rotating members 25A, 25B, 27A, and 27B as indicated by broken lines in FIG. In this case, the second annular member 37 is also wound around at least two rotating members (for example, four rotating members 33A, 33B, 35A, and 35B) similarly to the first annular member 29.

また、保持部３１を設ける部材として、必ずしも環状の部材を採用する必要はなく、たとえば、Ｘ軸方向に延びて設けた部材に各保持部３１を設け、この保持部３１が設けられている部材を、リンク機構等を用いてＸ軸方向に移動し（間欠的に移動すると共に往復運動するように移動し）基材３を搬送するようにしてもよい。   In addition, it is not always necessary to adopt an annular member as a member for providing the holding portion 31. For example, each holding portion 31 is provided on a member provided extending in the X-axis direction, and the member provided with the holding portion 31 is provided. May be moved in the X-axis direction by using a link mechanism or the like (moving intermittently and reciprocatingly) to transport the base material 3.

次に、保持部３１についてさらに説明する。   Next, the holding unit 31 will be further described.

図３は、保持部３１の概略構成を示す図であり、図１におけるＩＩＩ―ＩＩＩ矢視図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating a schematic configuration of the holding unit 31, and is a view taken along arrows III-III in FIG.

保持部３１は、たとえば、基材３の幅方向の端部を、下側部材４１と上側部材４３とで挟持するクリップ３９で構成されている。なお、下側部材４１や上側部材４３は、各環状の部材２９、３７が移動する際、前記ベース部材（図示せず）に設けられたカムにより、基材３を搬送等すべく基材３を挟持し、または、搬送等のために挟持していた基材３を開放するようになっている。   The holding part 31 is configured by, for example, a clip 39 that sandwiches an end in the width direction of the base material 3 between the lower member 41 and the upper member 43. The lower member 41 and the upper member 43 are configured so that the base member 3 is conveyed by a cam provided on the base member (not shown) when the annular members 29 and 37 are moved. Or the base material 3 that has been clamped for conveyance or the like is opened.

また、クリップ３９で基材３を挟持した際、第１の環状の部材２９に設けられているクリップ３９が、たとえば、図示しないバネ等の弾性体を用いて基材３をこの幅方向（図３（ｂ）の矢印の方向）に引っ張るようになっている。さらに、基材３がロール状になっている部位では、搬送手段５の搬送方向とは逆方向の力を基材３に加えている。したがって、搬送手段５で搬送している基材３には、この長手方向および幅方向で適宜の引っ張り力が加わっており、基材３がたるまないようになっている。   In addition, when the base material 3 is sandwiched between the clips 39, the clip 39 provided on the first annular member 29 uses, for example, an elastic body such as a spring (not shown) to place the base material 3 in the width direction (see FIG. 3 (b) (in the direction of the arrow). Furthermore, in the site | part where the base material 3 is roll shape, the force of the reverse direction to the conveyance direction of the conveyance means 5 is applied to the base material 3. FIG. Therefore, an appropriate tensile force is applied to the base material 3 being transported by the transport means 5 in the longitudinal direction and the width direction, so that the base material 3 does not sag.

被成形物設置手段７は、たとえば、コータユニットを構成しているノズル４５を用いて、紫外線硬化樹脂９を基材３に塗布して薄く設けることができるようになっている。ノズル４５は、基材３の上方でＹ軸方向（図１の紙面に直角な方向）に細長く延びたスリット状の吐出口であって紫外線硬化樹脂９を吐出するための吐出口を下方に備えている。   The molding object setting means 7 can be thinly provided by applying the ultraviolet curable resin 9 to the base 3 using, for example, a nozzle 45 constituting a coater unit. The nozzle 45 is a slit-like discharge port that is elongated in the Y-axis direction (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1) above the base material 3 and has a discharge port for discharging the ultraviolet curable resin 9 below. ing.

そして、ノズル４５から間欠的に紫外線硬化樹脂９を吐出するようになっている。すなわち、搬送手段５で基材３の移動を停止しているときには、紫外線硬化樹脂９の吐出を停止し、搬送手段５で基材３を移動しているときに、所定時間にわたってノズル４５から適宜の量の紫外線硬化樹脂９を吐出して、紫外線硬化樹脂９を基材３に塗布する（薄く設ける）ようになっている。なお、基材３の搬送を停止しておいてノズル４５を移動し紫外線硬化樹脂９を基材３に塗布するようにしてもよい。   Then, the ultraviolet curable resin 9 is intermittently discharged from the nozzle 45. That is, when the movement of the base material 3 is stopped by the transport means 5, the discharge of the ultraviolet curable resin 9 is stopped, and when the base material 3 is moved by the transport means 5, the nozzle 45 appropriately moves over a predetermined time. The amount of the ultraviolet curable resin 9 is discharged, and the ultraviolet curable resin 9 is applied to the substrate 3 (thinly provided). The conveyance of the base material 3 may be stopped and the nozzle 45 may be moved to apply the ultraviolet curable resin 9 to the base material 3.

型１１は、たとえば、石英ガラスまたはサファイヤで所定の厚さを備えた矩形な板状に形成され、下面に転写面１３を備えている。また、型１１は、図示しない移動テーブルに、一体的に設けられもしくはジンバル機構等を介して支持されている。前記移動テーブルは、前記ベース部材（図示せず）に、リニアガイド等のガイド部材を介して支持されていると共に、サーボモータやリニアモータのアクチュエータによりＺ軸方向に移動自在になっている。また、前記アクチュエータの駆動力を適宜制御することにより、ベースユニット１５と協動して所定の圧力で基材３を挟み込むことができるようになっている。   The mold 11 is formed in a rectangular plate shape having a predetermined thickness, for example, of quartz glass or sapphire, and has a transfer surface 13 on the lower surface. The mold 11 is integrally provided on a moving table (not shown) or supported through a gimbal mechanism or the like. The moving table is supported on the base member (not shown) via a guide member such as a linear guide, and is movable in the Z-axis direction by a servo motor or an actuator of the linear motor. Further, by appropriately controlling the driving force of the actuator, the base material 3 can be sandwiched with a predetermined pressure in cooperation with the base unit 15.

また、ベースユニット１５の上部には、所定の厚さを備え矩形な板状に形成され上端に平面１７を備えた石英ガラスまたはサファイヤ等で構成された部材４７が設けられている。この部材４７の上面（平面１７）を除く側面部と下側とは、光を遮断する金属等で構成された筐体４９で覆われている。また、部材４７の下方であって筐体４９の内部には、紫外線ランプ１９が設けられている。したがって、型１１とベースユニット１５とで基材３を挟み込んだときには、紫外線ランプ１９の紫外線が外部にほとんど漏れず、紫外線硬化樹脂９に効率良く紫外線を照射することができる。   A member 47 made of quartz glass or sapphire having a predetermined thickness and a rectangular plate shape with a flat surface 17 at the upper end is provided on the upper portion of the base unit 15. The side surface portion and the lower side except for the upper surface (plane 17) of the member 47 are covered with a casing 49 made of metal or the like that blocks light. An ultraviolet lamp 19 is provided below the member 47 and inside the housing 49. Therefore, when the substrate 3 is sandwiched between the mold 11 and the base unit 15, the ultraviolet rays of the ultraviolet lamp 19 hardly leak to the outside, and the ultraviolet curable resin 9 can be efficiently irradiated with the ultraviolet rays.

切断手段２１は、レーザ光ＬＢを出射可能なノズル５１を備えており、このノズル５１は、前記ベース部材（図示せず）に、リニアガイド等のガイド部材を介して支持されていると共に、サーボモータやリニアモータ等のアクチュエータによりＸ軸方向およびＹ軸方向に移動自在になっている。そして、図２に二点鎖線Ｌ１で示すように、転写がされた基材３（微細パターンシート）をたとえば矩形な形状で切り出すことが可能なようになっている。   The cutting means 21 includes a nozzle 51 capable of emitting a laser beam LB. The nozzle 51 is supported on the base member (not shown) via a guide member such as a linear guide, and servo. The actuator is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction by an actuator such as a motor or a linear motor. Then, as shown by a two-dot chain line L1 in FIG. 2, the transferred base material 3 (fine pattern sheet) can be cut out in a rectangular shape, for example.

次に、微細パターンシート作成装置１の動作について説明する。   Next, the operation of the fine pattern sheet creating apparatus 1 will be described.

図４、図５は、微細パターンシート作成装置１の動作を示す図である。   4 and 5 are diagrams illustrating the operation of the fine pattern sheet creating apparatus 1.

なお、基材３の先端部を、図４、図５において符号３Ａで表す。   In addition, the front-end | tip part of the base material 3 is represented by the code | symbol 3A in FIG. 4, FIG.

まず、図４（ａ）に示すように、保持部３１Ａ、３１Ｂで基材３が保持されており、基材３の先端部３Ａが型１１の直前に位置しているものとする。この状態で、図示しない制御装置の制御の下、各環状の部材２９、３７を所定の速度で、各保持部３１の設置間隔の１ピッチ分だけ移動しつつノズル４５から所定の時間だけ紫外線硬化樹脂９を吐出すると、図４（ｂ）に示すように、基材３の先端部３Ａが、型１１の下流に位置し紫外線硬化樹脂９が設けられた基材３の部位が型１１の真下に位置するようになる。なお、前記１ピッチの移動中に、新な保持部３１Ｃも、基材３を保持するようになる。   First, as shown in FIG. 4A, the base material 3 is held by the holding portions 31 </ b> A and 31 </ b> B, and the tip portion 3 </ b> A of the base material 3 is positioned immediately before the mold 11. In this state, under the control of a control device (not shown), each annular member 29, 37 is UV cured from the nozzle 45 for a predetermined time while moving at a predetermined speed by one pitch of the installation interval of each holding portion 31. When the resin 9 is discharged, as shown in FIG. 4B, the tip 3A of the base 3 is located downstream of the mold 11 and the portion of the base 3 on which the ultraviolet curable resin 9 is provided is directly below the mold 11. Will come to be located. Note that the new holding portion 31C also holds the base material 3 during the movement of the one pitch.

続いて、図４（ｃ）に示すように、型１１とベースユニット１５とで、紫外線硬化樹脂９が設けられた基材３を所定の圧力で挟み込んで、転写面１３の微細なパターンに紫外線硬化樹脂９を倣わせると共に、紫外線ランプ１９から紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂９を硬化させて転写を行なう。転写終了後、紫外線ランプ１９の発光を停止し、図４（ｄ）に示すように、型１１とベースユニット１５とによる基材の挟み込みを解除し、型１１を基材３から離す。なお、前記転写の際には、搬送手段５による基材３の移動は停止している。   Subsequently, as shown in FIG. 4C, the substrate 11 provided with the ultraviolet curable resin 9 is sandwiched between the mold 11 and the base unit 15 with a predetermined pressure, and ultraviolet rays are applied to the fine pattern on the transfer surface 13. The cured resin 9 is copied, and ultraviolet rays are irradiated from the ultraviolet lamp 19 to cure the ultraviolet curable resin 9 and perform transfer. After completion of the transfer, the light emission of the ultraviolet lamp 19 is stopped, and as shown in FIG. 4D, the substrate 11 is released from the mold 11 and the base unit 15, and the mold 11 is separated from the substrate 3. During the transfer, the movement of the base material 3 by the conveying means 5 is stopped.

次に、各環状の部材２９、３７を所定の速度で、各保持部３１の設置間隔の１ピッチ分だけ移動しつつノズル４５から所定の時間だけ紫外線硬化樹脂を吐出すると、図５（ｅ）に示すように、基材３の先端部３Ａが、切断手段２１の下流に位置し紫外線硬化樹脂（転写前の紫外線硬化樹脂）９が設けられた基材３の部位が型１１に真下に位置し、転写が終了した紫外線硬化樹脂９が設けられている基材３の部位が、切断手段２１が設けられている箇所に位置するようになる。なお、前記１ピッチの移動中に、新な保持部３１Ｄも、基材３を保持するようになる。   Next, when each of the annular members 29 and 37 is moved at a predetermined speed by one pitch corresponding to the installation interval of the holding portions 31, the ultraviolet curable resin is discharged from the nozzle 45 for a predetermined time. 3A, the tip 3A of the substrate 3 is located downstream of the cutting means 21, and the portion of the substrate 3 provided with the ultraviolet curable resin (ultraviolet curable resin before transfer) 9 is positioned directly below the mold 11. Then, the portion of the base material 3 on which the ultraviolet curable resin 9 that has been transferred is provided is positioned at the location where the cutting means 21 is provided. Note that the new holding portion 31D also holds the base material 3 during the movement of the one pitch.

続いて、前述したように、型１１等で転写を行なうと共に、切断手段２１で転写が終了した紫外線硬化樹脂９が設けられている基材３の部位を所定の形状に切断し（図５（ｆ）参照）、この切断したものを、切断基材搬送手段２３で、所定の場所（図示せず）に搬送し、型１１とベースユニットとによる基材の挟み込みを解除し、型１１を基材３から離す（図５（ｇ）参照）。この後、搬送手段５で基材３の搬送を行なう等の動作を繰り返すと共に保持部３１Ａによる基材３の挟み込みを解除し、転写がされ基材３から切り離された微細パターンシートを作成する。   Subsequently, as described above, the transfer is performed with the mold 11 or the like, and the portion of the base material 3 provided with the ultraviolet curable resin 9 that has been transferred by the cutting means 21 is cut into a predetermined shape (FIG. 5 ( f)), the cut material is transported to a predetermined place (not shown) by the cut base material transport means 23, the base material is not sandwiched between the base 11 and the base 11 and the base 11 is used as a base. Separated from the material 3 (see FIG. 5G). Thereafter, the operation such as carrying the substrate 3 by the carrying means 5 is repeated and the holding of the substrate 3 by the holding portion 31A is released, and a fine pattern sheet which is transferred and separated from the substrate 3 is created.

微細パターンシート作成装置１によれば、所定の幅を備えた長いシート状の基材３を、前記長手方向に搬送し、型１１の転写面１３のパターンを基材３（紫外線硬化樹脂）に転写するので、ほぼ連続的に転写を行なうことができ、したがって、型１１からの転写および微細パターンシートの作成を効率良く行なうことが出来る。また、従来の微細パターンシート作成装置２００とは異なり、型１１の転写面１３が平面状に形成されているので、基材３に転写されたパターンのアスペクト比が大きくても、型１１からの基材３の引き剥がしを行なう際に、前記転写されたパターンが崩れにくくなっている。   According to the fine pattern sheet creating apparatus 1, a long sheet-like base material 3 having a predetermined width is conveyed in the longitudinal direction, and the pattern of the transfer surface 13 of the mold 11 is applied to the base material 3 (ultraviolet curable resin). Since the transfer is performed, the transfer can be performed almost continuously. Therefore, the transfer from the mold 11 and the creation of the fine pattern sheet can be efficiently performed. Further, unlike the conventional fine pattern sheet creating apparatus 200, the transfer surface 13 of the mold 11 is formed in a flat shape, so that even if the aspect ratio of the pattern transferred to the base material 3 is large, the transfer from the mold 11 When the substrate 3 is peeled off, the transferred pattern is not easily broken.

また、微細パターンシート作成装置１によれば、転写が平面状の転写面１３で行なわれるので、パターンが転写された後の基材３や被成形物（紫外線硬化樹脂９）に曲がりくせが発生することを防止することができる。   Further, according to the fine pattern sheet creating apparatus 1, since the transfer is performed on the flat transfer surface 13, the substrate 3 and the object to be molded (ultraviolet curable resin 9) after the pattern is transferred are bent. Can be prevented.

さらに、微細パターンシート作成装置１によれば、切断手段２１で切断された基材３（微細パターンシート）を、所定の場所に搬送する切断基材搬送手段２３を有するので、生成された微細パターンシートの処理が容易になり、微細パターンシートの生産効率を一層上げることができる。   Furthermore, according to the fine pattern sheet creating apparatus 1, since the substrate 3 (fine pattern sheet) cut by the cutting means 21 is provided to the predetermined place, the generated fine pattern is generated. Sheet processing is facilitated, and the production efficiency of the fine pattern sheet can be further increased.

ところで、微細パターンシート作成装置１に、加圧手段５３を設けてもよい。   Incidentally, the pressurizing means 53 may be provided in the fine pattern sheet creating apparatus 1.

加圧手段５３は、型１１とベースユニット１５とで基材３を挟み込んでいるときにであって紫外線を紫外線硬化樹脂９に照射する前に、基材３を挟む更なる力を型１１の一端部から他端部に向かって移動して加えることが可能なものである。   The pressurizing means 53 applies a further force to sandwich the base material 3 when the base material 3 is sandwiched between the mold 11 and the base unit 15 and before the ultraviolet curable resin 9 is irradiated with ultraviolet rays. It can be added by moving from one end to the other end.

具体的には、図６に示すように、型１１の転写面１３とは反対側に設けられている平面（型１１の上面）と転がり接触をなす円柱形状のローラ（弾性体や流体圧シリンダ等で構成された付勢手段で下方に付勢されたローラ）５５で、型１１をベースユニット１５側に押しつつ、ローラ５５を型１１の一端部から他端部に向かって移動して、更なる力を加えることができるようになっている。つまり、直線状の力に作用点（作用線；型１１の平面とローラ５５との接触部位）が型１１の一端部から他端部に向かって移動して加圧を行なうようになっている。   Specifically, as shown in FIG. 6, a cylindrical roller (an elastic body or a fluid pressure cylinder) that makes rolling contact with a flat surface (the upper surface of the mold 11) provided on the side opposite to the transfer surface 13 of the mold 11. The roller 55 is moved from one end of the mold 11 toward the other end while the mold 11 is pushed to the base unit 15 side with a roller 55 biased downward by a biasing means constituted by More power can be applied. In other words, the point of action (line of action; the contact area between the flat surface of the mold 11 and the roller 55) is moved from one end of the mold 11 toward the other end to apply pressure to the linear force. .

加圧手段５３を設けたことにより、基材３を挟む更なる力を型１１の一端部から他端部に向かって移動して加えることができるので、紫外線硬化樹脂９内に存在している微小な気泡等を外部に排出することができると共に、型１１のパターンに紫外線硬化樹脂９が一層なじんで倣うことになり、一層正確な形態の転写を行なうことができる。   Since the pressurizing means 53 is provided, a further force sandwiching the base material 3 can be applied by moving from one end portion of the mold 11 to the other end portion. Fine bubbles and the like can be discharged to the outside, and the ultraviolet curable resin 9 follows the pattern of the mold 11 more closely, so that more accurate transfer can be performed.

また、微細パターンシート作成装置１の被成形物設置手段７において、ミスト状の紫外線硬化樹脂を基材３に供給し、基材３に紫外線硬化樹脂を設けるようにしてもよい。   Further, in the molding object setting means 7 of the fine pattern sheet creating apparatus 1, a mist-shaped ultraviolet curable resin may be supplied to the base material 3 and the base material 3 may be provided with the ultraviolet curable resin.

なお、前述した微細パターンシート作成装置１では、転写後に型１１とベースユニット１５と移動して、基材３から型１１等を離しているが、この際、転写により型１１に基材３が貼り付いて剥がれにくい場合がある。そこで、微細パターンシート作成装置１に、次に示すシート離型装置５７を設けてもよい。   In the fine pattern sheet creating apparatus 1 described above, the mold 11 and the base unit 15 are moved after the transfer to separate the mold 11 and the like from the base material 3. At this time, the base material 3 is transferred to the mold 11 by the transfer. It may be difficult to stick and peel off. Therefore, the following sheet release device 57 may be provided in the fine pattern sheet creating apparatus 1.

シート離型装置５７は、型１１に設けられた平面状の転写面１３に形成されている微細なパターンをシート状の基材３の厚さ方向の一方の面に薄く設けられた紫外線硬化樹脂９に転写した（紫外線硬化樹脂９が前記パターンに倣うように転写面１３で前記紫外線硬化樹脂９を押圧すると共に前記紫外線硬化樹脂９を硬化した）ことにより、前記紫外線硬化樹脂９を介して型１１の転写面１３に貼り付いている基材３を、型１１から転写面１３と前記紫外線硬化樹脂９との間で剥がすための引き剥がし手段５９を備えた装置である。   The sheet release device 57 is an ultraviolet curable resin in which a fine pattern formed on the planar transfer surface 13 provided on the mold 11 is thinly provided on one surface in the thickness direction of the sheet-like substrate 3. 9 (the UV curable resin 9 is pressed on the transfer surface 13 so that the UV curable resin 9 follows the pattern and the UV curable resin 9 is cured), and the mold is passed through the UV curable resin 9. 11 is a device provided with a peeling means 59 for peeling the base material 3 attached to the transfer surface 13 between the transfer surface 13 and the ultraviolet curable resin 9 from the mold 11.

引き剥がし手段５９は、基材３の搬送が停止している状態で、転写面１３の一端部から他端部に向かって、ほぼ直線状の引き剥がれる部位（型１１に基材３が貼り付いている部位と型１１から基材３が引き剥がれた部位との境界の部位）を徐々に進行させつつ、型１１から基材３を引き剥がす手段である。   The peeling means 59 is a portion (a substrate 3 is attached to the mold 11) that is almost linearly peeled from one end portion to the other end portion of the transfer surface 13 in a state where the conveyance of the substrate 3 is stopped. This is a means for peeling the base material 3 from the mold 11 while gradually advancing the part at the boundary between the part and the part where the base material 3 is peeled off from the mold 11.

より、具体的に説明すると、図７や図８に示すように、引き剥がし手段５９は、転写面１３の一端部の近傍で基材３をこの幅方向の両側でこの幅方向に引っ張りつつ保持している保持部３１を、基材３の長手方向に引っ張りつつ、図示しないガイド部に倣わせてサーボモータ等のアクチュエータで、型１１から離れる方向であって転写面１３の他端部（より正確には、紫外線硬化樹脂９が貼り付いている転写面１３の部位の他端部）１３Ａを中心にした円弧状に相対的に移動することにより、引き剥がしを行なうようになっている。   More specifically, as shown in FIGS. 7 and 8, the peeling means 59 holds the substrate 3 while pulling in the width direction on both sides in the width direction in the vicinity of one end portion of the transfer surface 13. The holding portion 31 is pulled in the longitudinal direction of the base material 3 and is moved away from the mold 11 by an actuator such as a servomotor following a guide portion (not shown) and the other end portion of the transfer surface 13 (more Exactly, it is peeled off by moving relatively in an arc shape centering on the other end portion 13 </ b> A of the transfer surface 13 to which the ultraviolet curable resin 9 is attached.

なお、引き剥がし手段５９により引き剥がされる部位の少なくとも近傍では、引き剥がれた基材３の部位は平面状に伸びており、この平面状に伸びている基材３の部位と転写面１３との交差角度（鋭角の交差角度）θは、引き剥がし時における転写されたパターンが崩れることを防止するために、小さな値（たとえば５°〜２５°程度）になっている。   In addition, at least in the vicinity of the part to be peeled off by the peeling means 59, the part of the base material 3 that has been peeled off extends in a planar shape, and the part of the base material 3 that extends in the flat shape and the transfer surface 13 The crossing angle (acute crossing angle) θ is a small value (for example, about 5 ° to 25 °) in order to prevent the transferred pattern from being broken during peeling.

なお、図８に示すように、保持部３１を円弧状に移動すると、各環状の部材２９、３７の長さが不足するが、この不足を補って保持部３１を移動可能とし前記引き剥がしを行なうために、バッファ部６１（図７参照）が設けられている。このバッファ部６１は、移動可能な回転部材６２に各環状の部材２９、３７を巻き掛け、保持部３１の移動に応じて回転部材６２を移動し、引き剥がしのための保持部３１の移動を可能にしているものである。   As shown in FIG. 8, when the holding portion 31 is moved in an arc shape, the lengths of the annular members 29 and 37 are insufficient. However, the holding portion 31 can be moved to compensate for the shortage, and the peeling is performed. For this purpose, a buffer unit 61 (see FIG. 7) is provided. The buffer unit 61 wraps the annular members 29 and 37 around a movable rotating member 62, moves the rotating member 62 in accordance with the movement of the holding unit 31, and moves the holding unit 31 for peeling. It is what makes it possible.

また、保持部３１を設ける部材として、環状の部材ではなくたとえばＸ軸方向に延びて設けた部材が採用されている場合には、Ｘ軸方向に延びて設けた前記部材を、リンク機構等を用いて適宜移動し、保持部３１を移動するように構成すればよい。   In addition, when a member provided extending in the X-axis direction, for example, is employed as a member providing the holding portion 31 instead of an annular member, the member provided extending in the X-axis direction is replaced with a link mechanism or the like. It may be configured so that the holding unit 31 is moved by appropriately using it.

なお、保持部３１を円弧状に移動する代わりに、図９に示すように、転写面１３の一端部の近傍（転写面１３から僅かに離れた位置）で基材３を保持する保持部３１を、転写面１３が伸びている方向と引き剥がされた基材３が伸びている方向とが一定の小さい角度αで交差するようにして、型１１から離れる方向に型１１に対して相対的に移動して、引き剥がしを行なってもよい。   Instead of moving the holding portion 31 in an arc shape, as shown in FIG. 9, the holding portion 31 that holds the base material 3 in the vicinity of one end portion of the transfer surface 13 (a position slightly separated from the transfer surface 13). In a direction away from the mold 11 so that the direction in which the transfer surface 13 extends and the direction in which the peeled substrate 3 extends intersects at a certain small angle α. It may move to, and you may peel off.

さらに、図１０に示すように、基材３の他方の面（型１１に貼り付いている面とは反対の面）を、基材３の幅方向（図１０の紙面に直角な方向）にわたって直線状に真空吸着する真空吸着部６３を設け、保持部３１を移動して基材３にたるみ３Ｂを持たせ、真空吸着部６３で基材３の一端部側を真空吸着した後に真空吸着部６３を型１１から僅かに離すことにより僅かな量の引き剥がしを行ない、続いて真空吸着部６３による真空吸着を解除し真空吸着部６３をこの姿勢を維持したまま引き剥がれる部位（型１１に基材３が貼り付いている部位と型１１から基材３が引き剥がれた部位との境界の部位）の近傍に移動して、基材３の他方の面の真空吸着を再び行ない、真空吸着部６３を型１１から僅かに離すことにより僅かな量の次の引き剥がしを行なう動作を繰り返して、引き剥がしを行なうようにしてもよい。   Further, as shown in FIG. 10, the other surface of the base material 3 (the surface opposite to the surface attached to the mold 11) extends over the width direction of the base material 3 (direction perpendicular to the paper surface of FIG. 10). A vacuum suction part 63 that vacuum-sucks in a straight line is provided, the holding part 31 is moved to give the base material 3 the slack 3B, and the vacuum suction part 63 vacuum-sucks one end portion side of the base material 3, and then the vacuum suction part. A slight amount of peeling is performed by separating 63 from the mold 11, and then the vacuum suction by the vacuum suction section 63 is released, and the vacuum suction section 63 is stripped while maintaining this posture (based on the mold 11). Move to the vicinity of the boundary between the part where the material 3 is adhered and the part where the base material 3 has been peeled off from the mold 11, and perform vacuum suction on the other surface of the base material 3 again. A small amount of subsequent peeling by slightly removing 63 from the mold 11 Repeat operation for, it may be performed peeling.

また、真空吸着部６３で基材３の一端部側を真空吸着しつつ真空吸着部６３を型１１から僅かに離すことにより僅かな量の引き剥がしを行ない、続いて前記真空吸着を行なったまま真空吸着部６３を、型１１の一端部から他端部に向かう方向に移動して、引き剥がしを行なってもよい。   Further, the vacuum suction part 63 is peeled off by slightly separating the vacuum suction part 63 from the mold 11 while vacuum-sucking one end portion side of the base material 3, and then the vacuum suction is performed. The vacuum suction part 63 may be moved in a direction from one end part to the other end part of the mold 11 for peeling off.

さらに、微細パターンシート作成装置１では、基材３の搬送方向の下流から上流に向かって引き剥がしを行なっているが、上流から下流に向かって引き剥がしを行なってもよい。   Furthermore, in the fine pattern sheet creating apparatus 1, the peeling is performed from the downstream to the upstream in the transport direction of the base material 3, but the peeling may be performed from the upstream to the downstream.

シート離型装置５７によれば、従来の微細パターンシート作成装置２００とは異なり、型１１の転写面１３が平面状に形成されており、この転写面１３の一端部から他端部に向かって、ほぼ直線状の引き剥がれる部位を徐々に進行させつつ、基材３を引き剥がすので、基材３（基材３の紫外線硬化樹脂９）に転写されたパターンのアスペクト比が大きくても、型１１からの基材３の引き剥がしを行なう際に、前記転写されたパターンが崩れにくくなっている。   According to the sheet release device 57, unlike the conventional fine pattern sheet creation device 200, the transfer surface 13 of the mold 11 is formed in a flat shape, and from one end portion of the transfer surface 13 toward the other end portion. Since the base material 3 is peeled off while gradually moving the substantially linear peeled portion, even if the aspect ratio of the pattern transferred to the base material 3 (the ultraviolet curable resin 9 of the base material 3) is large, the mold When the base material 3 is peeled from 11, the transferred pattern is not easily broken.

すなわち、転写面１３が平面状であることにより、基材３の型１１から剥がれる部位では、転写面１３に対して直角に近い角度で基材３が転写面１３から離れるので、転写されたパターンのアスペクト比が大きくても、たおえば、転写面１３のパターンの凹部に入り込んでいた紫外線硬化樹脂９の凸部が、前記凹部から抜け出る際前記凹部と干渉しずらくなっており、紫外線硬化樹脂９の凸部の形状が崩れることを抑制することができる。   That is, since the transfer surface 13 is flat, the substrate 3 is separated from the transfer surface 13 at an angle close to a right angle with respect to the transfer surface 13 at the site where the substrate 3 is peeled off from the mold 11. Even if the aspect ratio is large, for example, the convex portion of the ultraviolet curable resin 9 that has entered the concave portion of the pattern of the transfer surface 13 is difficult to interfere with the concave portion when it comes out of the concave portion, and is thus cured by ultraviolet rays. It can suppress that the shape of the convex part of resin 9 collapses.

また、シート離型装置５７によれば、引き剥がれた基材３の部位と転写面１３との交差角度θを小さな値にして引き剥がしを行なうので、転写されたパターンが崩れにくくなっている。   Further, according to the sheet release device 57, the peeling is performed by setting the crossing angle θ between the peeled portion of the substrate 3 and the transfer surface 13 to a small value, so that the transferred pattern is not easily broken.

さらに、シート離型装置５７によれば、保持部３１を円弧状に移動して引き剥がしを行なうので、引き剥がれた基材３の部位と転写面１３との交差角度θを小さな値に保ちつつ引き剥がしを行なうことが容易になっており、転写されたパターンが一層崩れにくくなっている。   Further, according to the sheet release device 57, the holding unit 31 is moved in an arc shape and peeled off, so that the crossing angle θ between the peeled portion of the substrate 3 and the transfer surface 13 is kept at a small value. It is easy to peel off, and the transferred pattern is more difficult to collapse.

また、シート離型装置５７によれば、保持部３１を搬送手段５に設け、この保持部３１を移動して型１１からの基材３の引き剥がしを行なうので、保持部３１が搬送手段５の一部と引き剥がし手段５９の一部とを兼用していることになり、したがって、装置の構成が簡素になっている。   Further, according to the sheet release device 57, the holding unit 31 is provided in the conveyance unit 5, and the holding unit 31 is moved to peel off the base material 3 from the mold 11. And a part of the peeling means 59 are combined, and the configuration of the apparatus is simplified.

また、シート離型装置５７において、真空吸着部６３を用いて引き剥がしを行なえば、引き剥がれる部位の近傍で基材３を保持するので、型１１からの引き剥がし時に基材３に力がかかる時間を短縮することができ、転写がされた基材３にクリープの発生を抑制することができる。   Further, in the sheet release device 57, if the peeling is performed using the vacuum suction unit 63, the base material 3 is held in the vicinity of the part to be peeled off, so that force is applied to the base material 3 at the time of peeling from the mold 11. The time can be shortened, and the occurrence of creep on the transferred base material 3 can be suppressed.

ところで、前述した微細パターンシート作成装置１では、図１に示すように、環状の部材２９、３７をＸ、Ｚ平面上に設置してあるが、図１１に示すように、環状の部材２９、３７をＸ、Ｙ平面上に設置してある構成にしてもよい。   By the way, in the fine pattern sheet producing apparatus 1 described above, as shown in FIG. 1, the annular members 29 and 37 are installed on the X and Z planes, but as shown in FIG. 37 may be configured on the X and Y planes.

また、図１２に示すように、搬送手段５の搬送方向における被成形物設置手段７と型１１との間に、基材３のバッファ領域６５を設けてもよい。   In addition, as shown in FIG. 12, a buffer region 65 of the base material 3 may be provided between the molding object setting unit 7 and the mold 11 in the conveyance direction of the conveyance unit 5.

バッファ領域６５を設けたことにより、紫外線硬化樹脂９を基材３に設けたときから、紫外線硬化樹脂９に転写を行なうまでに所定の時間が経過し、この時間の経過により基材３に設けられた紫外線硬化樹脂９の状態が、一層平滑になる等して安定し、一層正確な転写を行なうことができる。   Since the buffer region 65 is provided, a predetermined time elapses from the time when the ultraviolet curable resin 9 is provided on the base material 3 until the transfer to the ultraviolet curable resin 9 is performed. The state of the obtained ultraviolet curable resin 9 is stabilized, for example, more smoothly, and more accurate transfer can be performed.

本発明の実施形態に係る微細パターンシート作成装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the fine pattern sheet | seat production apparatus which concerns on embodiment of this invention. 図１におけるＩＩ矢視を示す図である。It is a figure which shows the II arrow in FIG. 保持部の概略構成を示す図であり、図１におけるＩＩＩ―ＩＩＩ矢視図である。It is a figure which shows schematic structure of a holding | maintenance part, and is a III-III arrow line view in FIG. 微細パターンシート作成装置の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of a fine pattern sheet production apparatus. 微細パターンシート作成装置の動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of a fine pattern sheet production apparatus. 加圧手段の具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of a pressurization means. 引き剥がし手段の具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of a peeling means. 引き剥がし手段の具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of a peeling means. 引き剥がし手段の具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of a peeling means. 引き剥がし手段の具体例を示す図である。It is a figure which shows the specific example of a peeling means. 微細パターンシート作成装置の搬送手段の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the conveyance means of a fine pattern sheet production apparatus. バッファ領域を備えた微細パターンシート作成装置を示す図である。It is a figure which shows the fine pattern sheet production apparatus provided with the buffer area | region. 従来の微細パターンシート作成装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the conventional fine pattern sheet | seat production apparatus. 転写のアスペクト比を示す図である。It is a figure which shows the aspect-ratio of transcription | transfer.

符号の説明Explanation of symbols

１ 微細パターンシート作成装置
３ 基材
５ 搬送手段
７ 被成形物設置手段
９ 紫外線硬化樹脂（被成形物）
１１ 切断手段
１３ 転写面
１５ ベースユニット
１９ 紫外線照射手段（エネルギー供給手段）
２１ 切断手段
２３ 切断基材搬送手段
３１ 保持部
２９、３７ 環状の部材
５３ 加圧手段
５７ シート離型装置
５９ 引き剥がし手段
６３ 真空吸着部
６５ バッファ領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Fine pattern sheet | seat preparation apparatus 3 Base material 5 Conveyance means 7 Molding object installation means 9 UV curable resin (molding object)
11 Cutting means 13 Transfer surface 15 Base unit 19 UV irradiation means (energy supply means)
21 Cutting means 23 Cutting substrate transport means 31 Holding parts 29, 37 Annular members 53 Pressurizing means 57 Sheet release device 59 Peeling means 63 Vacuum suction part 65 Buffer area

Claims (10)

所定の幅を備えた長いシート状の基材を、この長手方向に搬送することが可能な搬送手段と；
前記基材の一方の面に、被成形物を設ける被成形物設置手段と；
前記被成形物設置手段の下流側で前記基材の一方の面側に設けられ、微細なパターンが形成されている平面状の転写面を備えていると共に前記基材の厚さ方向に移動自在な型と；
前記基材に設けられている被形成物に転写を行なうために、前記型と協働して前記基材を挟み込むことが可能なベースユニットと；
前記型と前記ベースユニットとで前記基材を挟み込んでいるときに、前記被成形物を硬化すべく前記被成形物にエネルギーを供給するエネルギー供給手段と；
を有することを特徴とする微細パターンシート作成装置。 Conveying means capable of conveying a long sheet-like base material having a predetermined width in the longitudinal direction;
Molding object setting means for providing a molding object on one surface of the substrate;
Provided on one surface side of the base material on the downstream side of the molding object setting means and provided with a flat transfer surface on which a fine pattern is formed and is movable in the thickness direction of the base material And
A base unit capable of sandwiching the base material in cooperation with the mold in order to perform transfer to an object provided on the base material;
Energy supply means for supplying energy to the molding to cure the molding when the substrate is sandwiched between the mold and the base unit;
A fine pattern sheet creating apparatus characterized by comprising: 請求項１に記載の微細パターンシート作成装置において、
前記型と前記ベースユニットとで前記基材を挟み込んでいるときに前記基材を挟む更なる力を前記型の一端部から他端部に向かって移動して加えることが可能な加圧手段を有することを特徴とする微細パターンシート作成装置。 In the fine pattern sheet | seat preparation apparatus of Claim 1,
Pressurizing means capable of moving and applying a further force for sandwiching the base material from one end portion to the other end portion when the base material is sandwiched between the mold and the base unit. A fine pattern sheet producing apparatus comprising: 請求項１または請求項２に記載の微細パターンシート作成装置において、
前記型のパターンが転写されて硬化した被成形物を備えた前記基材を所定の形状に切断するために、前記型と前記エネルギー供給手段との下流側に設けられた切断手段を有することを特徴とする微細パターンシート作成装置。 In the fine pattern sheet | seat preparation apparatus of Claim 1 or Claim 2,
A cutting means provided on the downstream side of the mold and the energy supply means in order to cut the base material provided with the molding to which the pattern of the mold has been transferred and cured, into a predetermined shape; A fine pattern sheet creating apparatus. 請求項３に記載の微細パターンシート作成装置において、
前記型のパターンが転写されて硬化した被成形物を備えた基材であって、前記切断手段で切断された基材を、所定の場所に搬送する切断基材搬送手段を有することを特徴とする微細パターンシート作成装置。 In the fine pattern sheet producing apparatus according to claim 3,
A base material having a molding to which the pattern of the mold has been transferred and cured, and has a cutting base material transporting means for transporting the base material cut by the cutting means to a predetermined place. Fine pattern sheet making device. 請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、
前記被成形物設置手段と前記型との間に、前記基材のバッファ領域が設けられていることを特徴とする微細パターンシート作成装置。 In the fine pattern sheet | seat preparation apparatus of any one of Claims 1-4,
A fine pattern sheet creating apparatus, wherein a buffer region of the base material is provided between the molding object setting means and the mold. 請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、
前記被成形物設置手段は、ミスト状の前記被成形物を前記基材に供給し、前記基材に前記被成形物を設ける手段であることを特徴とする微細パターンシート作成装置。 In the fine pattern sheet | seat preparation apparatus of any one of Claims 1-5,
The fine pattern sheet creating apparatus, wherein the molding object setting means is a means for supplying the molding material to the base material by supplying the molding material in a mist form to the base material. 請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、
前記転写面の微細なパターンを前記被成形物に転写する際に、前記型に貼り付いている前記基材を、前記型から剥がすための離型手段を有することを特徴とする微細パターンシート作成装置。 In the fine pattern sheet | seat preparation apparatus of any one of Claims 1-6,
Producing a fine pattern sheet characterized by having release means for peeling off the substrate attached to the mold from the mold when transferring the fine pattern on the transfer surface to the molding object apparatus. 請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の微細パターンシート作成装置において、
前記被成形物は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化樹脂または熱によって硬化する熱硬化性樹脂であることを特徴とする微細パターンシート作成装置。 In the fine pattern sheet | seat preparation apparatus of any one of Claims 1-7,
The fine pattern sheet creating apparatus, wherein the molding is an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation of ultraviolet rays or a thermosetting resin that is cured by heat. 所定の幅を備えた長いシート状の基材を長手方向に間欠的に搬送しつつ、型に設けられている微細なパターンを前記基材に薄く設けられた被成形物に転写して微細パターンシートを作成する微細パターンシート作成方法において、
前記基材の一方の面に、被成形物を設ける工程と；
前記被成形物設置工程で設けられた被成形物と前記基材とを、微細なパターンが形成されている平面状の転写面を備えている型と、ベースユニットとで挟み込む工程と；
前記型と前記ベースユニットとで前記基材を挟み込んでいるときに、前記被成形物を硬化すべく前記被成形物にエネルギーを供給する工程と；
を有することを特徴とする微細パターンシート作成方法。 While a long sheet-like base material having a predetermined width is intermittently conveyed in the longitudinal direction, a fine pattern provided on a mold is transferred to a molding object thinly provided on the base material, thereby forming a fine pattern. In the fine pattern sheet creation method for creating a sheet,
Providing a molding on one surface of the substrate;
Sandwiching the molding provided in the molding installation step and the substrate between a mold having a planar transfer surface on which a fine pattern is formed and a base unit;
Supplying energy to the molding to cure the molding when the substrate is sandwiched between the mold and the base unit;
A method for producing a fine pattern sheet, comprising: 請求項９に記載の微細パターンシート作成方法において、
前記被成形物は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化樹脂または熱によって硬化する熱硬化性樹脂であることを特徴とする微細パターンシート作成方法。 In the fine pattern sheet creation method according to claim 9,
The method for producing a fine pattern sheet, wherein the molding is an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation of ultraviolet rays or a thermosetting resin that is cured by heat.
JP2005377910A 2005-12-28 2005-12-28 Fine pattern sheet creating apparatus and fine pattern sheet creating method Expired - Fee Related JP4778788B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005377910A JP4778788B2 (en) 2005-12-28 2005-12-28 Fine pattern sheet creating apparatus and fine pattern sheet creating method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005377910A JP4778788B2 (en) 2005-12-28 2005-12-28 Fine pattern sheet creating apparatus and fine pattern sheet creating method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007176039A JP2007176039A (en) 2007-07-12
JP4778788B2 true JP4778788B2 (en) 2011-09-21

Family

ID=38301694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005377910A Expired - Fee Related JP4778788B2 (en) 2005-12-28 2005-12-28 Fine pattern sheet creating apparatus and fine pattern sheet creating method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4778788B2 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8187515B2 (en) * 2008-04-01 2012-05-29 Molecular Imprints, Inc. Large area roll-to-roll imprint lithography
KR100895756B1 (en) 2008-07-28 2009-04-30 김웅배 Sheet pattern molding appartus
US8541163B2 (en) * 2009-06-05 2013-09-24 Nikon Corporation Transporting method, transporting apparatus, exposure method, and exposure apparatus
JP5465474B2 (en) * 2009-06-26 2014-04-09 三菱レイヨン株式会社 Imprint apparatus and imprint method
JP5910056B2 (en) * 2011-12-13 2016-04-27 富士ゼロックス株式会社 Lens manufacturing equipment
JP5962058B2 (en) * 2012-02-28 2016-08-03 富士ゼロックス株式会社 Lens manufacturing equipment
JP2013190608A (en) * 2012-03-14 2013-09-26 Toshiba Mach Co Ltd Anti-peep film, manufacturing device of anti-peep film, and method of manufacturing anti-peep film
JP6092561B2 (en) 2012-10-01 2017-03-08 東芝機械株式会社 Molded object assembly, molded object assembly manufacturing apparatus, and molded object assembly manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007176039A (en) 2007-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4778788B2 (en) Fine pattern sheet creating apparatus and fine pattern sheet creating method
JP6421980B2 (en) Imprint device
JP6032492B2 (en) Fine pattern forming method and fine pattern forming apparatus
JP5912996B2 (en) Transfer device
JP6203628B2 (en) Fine pattern forming method
JP4804915B2 (en) Sheet release device and sheet release method
CN101037031A (en) Method and apparatus for film adhesion
JP6467709B2 (en) Imprint method and imprint apparatus
JP5931650B2 (en) Transfer apparatus and transfer method
JP4569185B2 (en) Method for forming film structure and film structure
JP5502592B2 (en) Imprint processing apparatus, imprint processing method, and imprint processed product
KR100812313B1 (en) Device using rollers for coating
JP2008004808A (en) Transfer device and transferring method
CN108508698B (en) Apparatus and method for pattern imprinting
JP2005060197A (en) Apparatus and method for attaching protective membrane
KR101640123B1 (en) Apparatus for Manufacturing a Film
KR101679560B1 (en) Imprinting Apparatus
JP2011178078A (en) Screen printer, and method for conveying and releasing article to be printed
JP2014069524A (en) Molding assembly, molding assembly manufacturing device, and method for manufacturing/using molding assembly
JP2019102606A (en) Imprint method, imprint device and method of manufacturing article
JP2018126929A (en) Transferring method and thermal nano-imprinting apparatus
JP2015008172A (en) Fine pattern transfer device
JP2016207950A (en) Imprinting device
JP2014213552A (en) Nanoimprint method and apparatus therefor
JP2005231170A (en) Screen printing equipment and liquid crystal displaying panel forming device equipped with the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081009

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110620

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110628

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110704

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4778788

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140708

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees