JP5287669B2 - 真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法 - Google Patents
真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5287669B2 JP5287669B2 JP2009252726A JP2009252726A JP5287669B2 JP 5287669 B2 JP5287669 B2 JP 5287669B2 JP 2009252726 A JP2009252726 A JP 2009252726A JP 2009252726 A JP2009252726 A JP 2009252726A JP 5287669 B2 JP5287669 B2 JP 5287669B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- molded body
- zinc oxide
- mpa
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 94
- 239000008188 pellet Substances 0.000 title claims description 66
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 title claims description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 157
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 35
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 27
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 7
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 13
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 7
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- -1 amine salt Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Description
原料粉を液体媒体に分散させてスラリーとしかつこのスラリーを噴霧乾燥して第一造粒粉を製造する第一工程と、得られた第一造粒粉を仮焼して仮焼粉を製造する第二工程と、得られた仮焼粉と未仮焼の上記原料粉(未仮焼原料粉)を液体媒体に混合分散させてスラリーとしかつこのスラリーを噴霧乾燥して第二造粒粉を製造する第三工程と、得られた第二造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第四工程と、得られた圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第五工程と、得られた成形体用粉末を金型内で加圧成形して所定形状の成形体を製造する第六工程と、得られた成形体を焼成して高さ寸法が40mmを超えかつ相対密度が50%以上70%以下の真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットを製造する方法において、
第四工程において第二造粒粉に対する単位面積当りの加圧条件を50MPa以上150MPa以下に設定して圧粉体を製造し、かつ、第五工程において上記圧粉体を破砕して製造される成形体用粉末の嵩密度が1.4g/cm3以上2.0g/cm3以下となるようにすると共に、第六工程において金型内での上記成形体用粉末に対する単位面積当りの加圧条件が100MPa以上200MPa以下となるようにして所定形状の成形体を製造することを特徴とする。
請求項1に記載の発明に係る真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法において、
上記成形体用粉末が充填される筒形状のキャビティを具備するダイと、筒形状を有するキャビティ内に上下方向からそれぞれ嵌入されると共にキャビティ内に充填された成形体用粉末を上下方向から加圧圧縮する上パンチ並びに下パンチとで第六工程における上記金型の主要部が構成され、かつ、加圧成形により製造されたキャビティ内の成形体を上パンチ並びに下パンチとで挟持した状態で上記ダイを下降させ、その後上パンチを上昇させてから上記成形体を取り出すことを特徴とし、
請求項3に係る発明は、
請求項1または2に記載の発明に係る真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法において、
上記酸化亜鉛系酸化物ペレットの高さが60mm以上であることを特徴とする。
原料粉を液体媒体に分散させてスラリーとしかつこのスラリーを噴霧乾燥して第一造粒粉を製造する第一工程と、得られた第一造粒粉を仮焼して仮焼粉を製造する第二工程と、得られた仮焼粉と未仮焼の上記原料粉(未仮焼原料粉)を液体媒体に混合分散させてスラリーとしかつこのスラリーを噴霧乾燥して第二造粒粉を製造する第三工程と、得られた第二造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第四工程と、得られた圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第五工程と、得られた成形体用粉末を金型内で加圧成形して所定形状の成形体を製造する第六工程と、得られた成形体を焼成して酸化亜鉛系酸化物ペレットを製造する各工程を具備し、かつ、上記第四工程において第二造粒粉に対する単位面積当りの加圧条件を50MPa以上150MPa以下に設定して圧粉体を製造し、第五工程において上記圧粉体を破砕して製造される成形体用粉末の嵩密度が1.4g/cm3以上2.0g/cm3以下となるようにすると共に、第六工程において金型内での上記成形体用粉末に対する単位面積当りの加圧条件が100MPa以上200MPa以下となるようにして所定形状の成形体を製造してため、得られる成形体に不具合(クラックやカケの発生等)が起こり難く、高さ寸法が40mmを超えかつ相対密度が50%以上70%以下の真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットを歩留まりよく安定して量産することが可能となる。
[実施例1]
酸化ガリウムが1質量分含まれるように、平均粒径が1μm以下の酸化亜鉛粉末99質量分と平均粒径が1μm以下の酸化ガリウム粉末1質量分を秤量した。
[実施例2]
酸化ガリウムが2質量分含まれるように、平均粒径が1μm以下の酸化亜鉛粉末98質量分と平均粒径が1μm以下の酸化ガリウム粉末2質量分を秤量した以外は実施例1と同様に行なって成形体用GZO粉末を得た。尚、得られた成形体用粉末の嵩密度は1.55g/cm3であった。
[実施例3]
酸化ガリウムが3質量分含まれるように、平均粒径が1μm以下の酸化亜鉛粉末97質量分と平均粒径が1μm以下の酸化ガリウム粉末3質量分を秤量した以外は実施例1と同様に行なって成形体用GZO粉末を得た。尚、得られた成形体用粉末の嵩密度は1.66g/cm3であった。
[実施例4]
酸化ガリウムが3質量分含まれるように、平均粒径が1μm以下の酸化亜鉛粉末97質量分と平均粒径が1μm以下の酸化ガリウム粉末3質量分を秤量した以外は実施例1と同様に行なって成形体用GZO粉末を得た。尚、得られた成形体用粉末の嵩密度は1.50g/cm3であった。
[比較例1]
酸化ガリウムが3質量分含まれるように、平均粒径が1μm以下の酸化亜鉛粉末97質量分と平均粒径が1μm以下の酸化ガリウム粉末3質量分を秤量した以外は実施例1と同様に行なって、仮焼用GZO造粒粉を得た。
2 下パンチ
3 ダイ
4 成形体用粉末
5 成形体
6 キャビティ
Claims (3)
- 原料粉を液体媒体に分散させてスラリーとしかつこのスラリーを噴霧乾燥して第一造粒粉を製造する第一工程と、得られた第一造粒粉を仮焼して仮焼粉を製造する第二工程と、得られた仮焼粉と未仮焼の上記原料粉(未仮焼原料粉)を液体媒体に混合分散させてスラリーとしかつこのスラリーを噴霧乾燥して第二造粒粉を製造する第三工程と、得られた第二造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第四工程と、得られた圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第五工程と、得られた成形体用粉末を金型内で加圧成形して所定形状の成形体を製造する第六工程と、得られた成形体を焼成して高さ寸法が40mmを超えかつ相対密度が50%以上70%以下の真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットを製造する方法において、
第四工程において第二造粒粉に対する単位面積当りの加圧条件を50MPa以上150MPa以下に設定して圧粉体を製造し、かつ、第五工程において上記圧粉体を破砕して製造される成形体用粉末の嵩密度が1.4g/cm3以上2.0g/cm3以下となるようにすると共に、第六工程において金型内での上記成形体用粉末に対する単位面積当りの加圧条件が100MPa以上200MPa以下となるようにして所定形状の成形体を製造することを特徴とする真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法。 - 上記成形体用粉末が充填される筒形状のキャビティを具備するダイと、筒形状を有するキャビティ内に上下方向からそれぞれ嵌入されると共にキャビティ内に充填された成形体用粉末を上下方向から加圧圧縮する上パンチ並びに下パンチとで第六工程における上記金型の主要部が構成され、かつ、加圧成形により製造されたキャビティ内の成形体を上パンチ並びに下パンチとで挟持した状態で上記ダイを下降させ、その後上パンチを上昇させてから上記成形体を取り出すことを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法。
- 上記酸化亜鉛系酸化物ペレットの高さが60mm以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009252726A JP5287669B2 (ja) | 2009-11-04 | 2009-11-04 | 真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009252726A JP5287669B2 (ja) | 2009-11-04 | 2009-11-04 | 真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011099131A JP2011099131A (ja) | 2011-05-19 |
JP5287669B2 true JP5287669B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=44190542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009252726A Expired - Fee Related JP5287669B2 (ja) | 2009-11-04 | 2009-11-04 | 真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5287669B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3409345B2 (ja) * | 1992-12-21 | 2003-05-26 | 東ソー株式会社 | セラミックスタ−ゲットの製造方法 |
JP4253855B2 (ja) * | 1998-01-23 | 2009-04-15 | 東ソー株式会社 | 蒸着材 |
JP4356071B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2009-11-04 | 日立金属株式会社 | スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
JP2006022373A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電性薄膜作製用スパッタリングターゲットの製造方法 |
JPWO2007058318A1 (ja) * | 2005-11-21 | 2009-05-07 | 出光興産株式会社 | 焼成体及びその製造方法 |
JP5320761B2 (ja) * | 2008-02-06 | 2013-10-23 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化亜鉛系焼結体タブレットおよびその製造方法 |
-
2009
- 2009-11-04 JP JP2009252726A patent/JP5287669B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011099131A (ja) | 2011-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101956506B1 (ko) | 산화인듐-산화아연계 (izo) 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 | |
WO2013108715A1 (ja) | セラミックス円筒形スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
KR102045661B1 (ko) | Izo 소결체 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 | |
CN105712703A (zh) | 高纯高密度ito靶材的制备方法 | |
TWI491580B (zh) | 蒸鍍用錠及其製造方法 | |
JP5149262B2 (ja) | 酸化インジウム−酸化亜鉛系焼結体ターゲット及びその製造法 | |
CN114736013A (zh) | 一种氧化锌镁靶材及制备方法 | |
JP2006022373A (ja) | 透明導電性薄膜作製用スパッタリングターゲットの製造方法 | |
KR20080102786A (ko) | 방전플라즈마소결법을 이용한 산화아연계 스퍼터링 타겟제조방법 | |
JP4508079B2 (ja) | スパッタリングターゲットの製造方法 | |
JP5263063B2 (ja) | 真空蒸着用酸化インジウム系若しくは酸化亜鉛系焼結体タブレットの製造方法 | |
JP2008260660A (ja) | 高濃度酸化スズito焼結体の製造方法 | |
JP5287669B2 (ja) | 真空蒸着法用酸化亜鉛系酸化物ペレットの製造方法 | |
JP2019038720A (ja) | セシウムタングステン酸化物焼結体の製造方法、セシウムタングステン酸化物焼結体及び酸化物ターゲット | |
JP5381724B2 (ja) | ZnO蒸着材の製造方法 | |
JP6067028B2 (ja) | 酸化亜鉛系スパッタリングターゲットの製造方法 | |
JPWO2019031105A1 (ja) | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット | |
JP6637948B2 (ja) | Izoターゲット及びその製造方法 | |
JP6343695B2 (ja) | 酸化インジウム−酸化亜鉛系(izo)スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JPH11100660A (ja) | 蒸着用itoペレットおよびその製造方法 | |
JP5967016B2 (ja) | 蒸着用タブレットとその製造方法 | |
JP2014091635A (ja) | 酸化物焼結体の製造方法 | |
JP7203088B2 (ja) | 酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電膜 | |
JP5169969B2 (ja) | 透明導電膜用焼結体の製造方法 | |
JP4483470B2 (ja) | 酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5287669 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |