JP5286719B2 - 膜形成方法、光学素子の形成方法、導電膜の形成方法、光学素子及び配線 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 127
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title description 63
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 254
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 159
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 claims description 86
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 9
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 267
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 51
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 36
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 description 28
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 20
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 6
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 6
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
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Description
本適用例にかかる膜形成方法は、少なくとも1方向が長い塗布領域に膜材料液を吐出して膜を形成する膜形成方法であって、前記塗布領域を囲んでバンクを形成するバンク形成工程と、前記塗布領域に前記膜材料液を吐出する塗布工程と、塗布された前記膜材料液を固化する固化工程と、を有し、前記塗布領域には凸状の流動抑止部が形成され、前記塗布工程において前記流動抑止部を挟んで前記膜材料液を塗布することを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記流動抑止部は前記塗布領域の長手方向における端に近い場所に形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記塗布工程では1つの前記塗布領域において複数回の吐出を行い、前記塗布領域に吐出する液滴の中で最後に吐出する前記液滴は前記流動抑止部に近い場所に吐出されることを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、吐出された前記膜材料液の1つの液滴が前記塗布領域に広がる液溜りの半径を液溜半径とするとき、前記流動抑止部と前記塗布領域の端との距離は液溜半径の1〜3倍の場所に位置することを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記流動抑止部の一端は前記バンクと接続して配置され、前記流動抑止部の前記バンクと離れている場所は、前記バンクと近い場所に比べて、前記バンクの底面からの高さが低くなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記流動抑止部は、前記バンクに近い場所から前記バンクから遠い場所まで、前記底面からの高さが連続して低くなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記流動抑止部と前記バンクの側面とが接する場所における前記バンクの側面が接する面の方向に対する前記流動抑止部の長さを前記流動抑止部の幅とするとき、前記流動抑止部の幅は、前記バンクに近い場所から前記バンクから離れるにしたがい連続して小さくなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記バンク形成工程において、前記バンクの上面及び側面と前記流動抑止部には前記膜材料液に対する撥液処理を行い、前記バンクの底面には前記膜材料液に対する親液処理を行うことを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記塗布領域の長手方向と略直交する方向に2つの前記流動抑止部が対向して配置されることを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記塗布工程では、前記流動抑止部上に前記膜材料液の一部が載るように塗布することを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記塗布工程では、挟んで塗布された前記膜材料液の一部が前記流動抑止部上に載るように吐出することを特徴とする。
上記適用例にかかる膜形成方法において、前記流動抑止部は前記バンクに囲まれた中に配置され、前記流動抑止部の前記バンクと近い場所は、前記バンクと離れている場所に比べて、前記バンクの底面からの高さが低くなるように形成されていることを特徴とする。
本適用例にかかる光学素子の形成方法は、1対の電極の間に発光膜を有する光学素子の形成方法であって、前記電極を形成する電極形成工程と、前記発光膜を形成する発光膜形成工程と、を有し、上記に記載の膜形成方法を用いて前記発光膜を形成することを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子の形成方法において、前記発光膜には発光する光が放射する窓部を有し、前記窓部は前記流動抑止部と異なる場所に配置されていることを特徴とする。
本適用例にかかる光学素子の形成方法は、通過する光の光路を変える光学素子の形成方法であって、光透過性の基板上に、光透過性膜を凸状又は凹状に形成する膜形成工程を有し、上記に記載の膜形成方法を用いて前記光透過性膜を形成することを特徴とする。
本適用例にかかる光学素子の形成方法は、通過する光の波長分布を変える光学素子の形成方法であって、光透過性の基板上に、色素を含有する膜材料液を用いて光透過性膜を形成する膜形成工程を有し、上記に記載の膜形成方法を用いて前記光透過性膜を形成することを特徴とする。
本適用例にかかる導電膜の形成方法は、基板上に、導電性材料を含有する膜材料液を用いて導電膜を形成する膜形成工程を有し、上記に記載の膜形成方法を用いて前記導電膜を形成することを特徴とする。
本適用例にかかる光学素子は、光学的特性を有し少なくとも1方向が長い光学膜を有する光学素子であって、前記光学膜の周囲に形成されたバンクと、前記光学膜の長手方向における端に近い場所に凸状に形成された流動抑止部と、を有し、前記流動抑止部と前記光学膜とが重ねて配置されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子において、前記流動抑止部の一端は前記バンクと接続して配置され、前記流動抑止部の前記バンクと離れている場所は、前記バンクと近い場所に比べて、前記流動抑止部の厚さが薄くなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子において、前記流動抑止部は、前記バンクに近い場所から前記バンクから離れるにしたがい前記流動抑止部の前記厚さが連続して小さくなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子において、前記流動抑止部と前記バンクの側面とが接する場所における前記バンクの側面が接する面の方向に対する前記流動抑止部の長さを前記流動抑止部の幅とするとき、前記流動抑止部の幅は、前記バンクに近い場所から前記バンクから離れるにしたがい連続して小さくなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子において、前記光学膜は有機ELを含有する材料から形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子において、前記光学膜が発光する光の一部を透過する窓部を有し、前記窓部から光が透過する範囲外に前記流動抑止部が配置されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子において、前記光学膜は凸状又は凹状に形成され、前記光学膜を通過する光の光路が変わることを特徴とする。
上記適用例にかかる光学素子において、前記光学膜は色素を含有する光透過性膜であり、前記光学膜を通過する光の波長分布を変えることを特徴とする。
本適用例にかかる配線は、少なくとも1方向に長い導電膜などからなる配線であって、前記導電膜の周囲に形成されたバンクと、前記導電膜の長手方向における端に近い場所に凸状に形成された流動抑止部と、を有し、前記流動抑止部と前記導電膜とが重ねて配置されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる配線において、前記流動抑止部の一端は前記バンクと接続して配置され、前記流動抑止部の前記バンクと離れている場所は、前記バンクと近い場所に比べて、前記流動抑止部の厚さが薄くなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる配線において、前記流動抑止部は、前記バンクに近い場所から前記バンクから離れるにしたがい前記流動抑止部の前記厚さが連続して薄くなるように形成されていることを特徴とする。
上記適用例にかかる配線において、前記流動抑止部と前記バンクの側面とが接する場所における前記バンクの側面が接する面の方向に対する前記流動抑止部の長さを前記流動抑止部の幅とするとき、前記流動抑止部の幅は、前記バンクに近い場所から前記バンクから離れるにしたがい連続して小さくなるように形成されていることを特徴とする。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
(第1の実施形態)
本実施形態では液滴吐出装置とこの液滴吐出装置を用いて膜を形成する場合の特徴的な例について図1〜図10に従って説明する。
図2は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。液滴吐出装置10により、膜を構成する材料を含む機能液が吐出されて塗布される。図2に示すように、液滴吐出装置10には、直方体形状に形成される基台11が備えられている。本実施形態では、この基台11の長手方向をY方向とし、同Y方向と直交する方向をX方向とする。
次に、上述した液滴吐出装置10を用いて、基板1に機能液を吐出して塗布することにより膜を形成する方法について図5〜図9にて説明する。図5は、基板に液滴を吐出して塗布することにより膜を形成する製造工程を示すフローチャートである。図6〜図9は、膜の形成方法を説明する図である。
図10(a)〜図10(c)は比較例における膜の形成方法を説明する図であり、図10(a)及び図10(b)はステップS5に対応する図である。そして、図10(b)及び図10(c)は図10(a)のD−D’における断面図である。図10(a)及び図10(b)に示すように、塗布領域42を囲んでバンク43が形成され、塗布領域42に機能液27が吐出されて塗布されている。バンク43には流動抑止部3が形成されていないので、機能液27は塗布領域42内を移動し易くなっている。そして、バンク上面43aとバンク内側側面43bは機能液27に対する撥液処理がされており、バンク底面43cは機能液27に対する親液処理がされている。機能液27には表面張力が働くことにより一方に偏ることがある。このとき、例えば、右側の端部43dでは、機能液27が充填されない状態になる。
(1)本実施形態によれば、バンク2内に流動抑止部3が形成される。そして、流動抑止部3を挟んで機能液27が塗布される。このとき、流動抑止部3を挟んでいる機能液27は流動抑止部3により流動し難くなっている。従って、流動抑止部3を挟んでいる機能液27を移動させる力が加わるときにも、機能液27が移動せずに膜4を形成することができる。その結果、吐出する順序に影響されずに機能液27を塗布する場所に膜4を形成することができる。
できる。
次に、膜を形成する方法の一実施形態について図11(a)〜図11(j)の塗布領域の要部模式平面図を用いて説明する。この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、流動抑止部3の位置が異なる点にある。尚、第1の実施形態と同じ点については説明を省略する。
(1)本実施形態によれば、抑止部距離46を液溜半径30dの1倍から3倍の間にすることにより、バンク端部2aまで膜4を形成することができる。
次に、第1の実施形態及び第2の実施形態の膜形成方法を応用して有機EL装置を製造する一実施形態について図12を用いて説明する。尚、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の部分は説明を省略する。
(1)本実施形態によれば、機能層63が第1の実施形態及び第2の実施形態における膜形成方法を用いて形成されるので、機能層63がバンク59に囲まれた領域総てに形成することができる。
次に、第1の実施形態及び第2の実施形態の膜形成方法を用いて光学レンズを製造する一実施形態について図15を用いて説明する。図15(a)〜図15(c)は、柱状凸レンズの製造方法を説明する図であり、図15(d)及び図15(e)は、柱状凹レンズの製造方法を説明する図である。図15(a)はバンク模式平面図であり、図15(b)〜図15(e)は、図15(a)のE−E’における模式断面図である。尚、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の部分は説明を省略する。
(1)本実施形態によれば、凸状又は凹状の光透過性膜を形成することにより光学レンズの機能を有する膜を形成することができる。このとき、光透過性膜が第1の実施形態及び第2の実施形態における膜の形成方法を用いて形成されるので、凸レンズ71及び凹レンズ72がバンク68に囲まれた領域総てに形成することができる。
次に、第1の実施形態及び第2の実施形態の膜形成方法を用いてカラーフィルタを製造する一実施形態について図16を用いて説明する。図16は、カラーフィルタの製造方法を説明する図である。尚、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の部分は説明を省略する。
(1)本実施形態によれば、着色層78が第1の実施形態及び第2の実施形態における膜の形成方法を用いて形成されるので、流動抑止部77bがバンク77に囲まれた領域総てに形成することができる。
次に、第1の実施形態及び第2の実施形態の膜形成方法を用いて金属配線を製造する一実施形態について図17を用いて説明する。図17は、金属配線の製造方法を説明する図である。尚、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様の部分は説明を省略する。
(1)本実施形態によれば、配線83が、第1の実施形態及び第2の実施形態における膜の形成方法を用いて形成されるので、配線83がバンク82に囲まれた領域総てに形成することができる。
(変形例1)
前記第1の実施形態において、バンク2は基板1上に凸状に配置したが、図18に示すように基板1上に膜85を形成し、膜85の一部を凹状に形成してバンク86としても良い。そして、バンク86の内側に機能液27を吐出して塗布した後、固化することにより膜4を形成しても良い。膜85を平坦化膜又は絶縁膜などの機能膜として用いることができる。尚、前記第2の実施形態〜第6の実施形態においても同様に膜85の一部を凹状に形成したバンク86を用いても良い。
前記第1の実施形態において、2つの略円錐形を半分にした形状をした流動抑止部3が対向する場所に配置されたが、他の形態でも良い。例えば、図19(a)では、バンク88のバンク端部88aの近くには1つの流動抑止部88bが形成されている。この流動抑止部88bは略円錐形を半分にした形状に形成され、その先端は対向する場所の側面88cの近くまで形成されている。
前記第1の実施形態において、基板1はシートのように柔軟性のあるものでも良い。この場合においても同様の方法を用いることにより、同様の効果を得ることができる。
前記第1の実施形態において、フッ素系化合物が過多の条件でプラズマ処理することにより撥液性のあるバンク2及び流動抑止部3を形成したが、他の方法を用いても良い。例えば、撥液性のある溶液を塗布して固化することにより撥液性のある膜を形成しても良い。他にも、フッ素系化合物を含んだ材料を用いてバンク2を形成しても良い。いずれの方法においても撥液性のあるバンク2及び流動抑止部3を形成することができる。
前記第3の実施形態において、機能層63は正孔輸送層61と発光層62R,62G,62Bとにより形成されたが、他の構成でも良い。例えば、機能層63は正孔輸送層、発光層、電子注入層の組合せでも良い。又、機能層63は正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層の組合せでも良い。材料の構成に合わせて各層の構成を変えても良い。この場合においても各層の材料を塗布するとき、前記第3の実施形態と同様の方法を用いることにより、同様の効果を得ることができる。
Claims (8)
- 1対の電極の間に発光膜を有する有機EL装置の製造方法であって、
基板上に前記電極を形成する電極形成工程と、
少なくとも1方向が長い塗布領域を囲んでバンクを形成するバンク形成工程と、
前記塗布領域に前記発光膜を形成するための膜材料液を吐出する塗布工程と、
塗布された前記膜材料液を固化して発光層を形成する固化工程と、を有し、
前記塗布領域には凸状の流動抑止部が形成され、
前記塗布工程において前記流動抑止部を挟んで前記膜材料液を塗布し、かつ、前記膜材料液の一部が前記流動抑止部上に載るように吐出し、
前記基板と前記発光膜との間に絶縁膜を有し、前記絶縁膜は前記発光膜から発光する光が透過する透過膜と、前記発光膜から発光する光を遮光する遮光膜と、を有し、
前記透過部は前記流動抑止部と異なる場所に配置され、前記遮光膜は前記バンク及び前記流動阻止部に配置されていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項1に記載の有機EL装置の製造方法であって、
吐出された前記膜材料液の1つの液滴が前記塗布領域に広がる液溜りの半径を液溜半径とするとき、
前記流動抑止部と前記塗布領域の端との距離は液溜半径の1〜3倍の場所に位置することを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項1または請求項2に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記流動抑止部の一端は前記バンクと接続して配置され、
前記流動抑止部の前記バンクと離れている場所は、前記バンクと近い場所に比べて、前記バンクの底面からの高さが低くなるように形成されていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記流動抑止部は、前記バンクに近い場所から前記バンクから遠い場所まで、前記底面からの高さが連続して低くなるように形成されていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記流動抑止部と前記バンクの側面とが接する場所における前記バンクの側面が接する面の方向に対する前記流動抑止部の長さを前記流動抑止部の幅とするとき、
前記流動抑止部の幅は、前記バンクに近い場所から前記バンクから離れるにしたがい連続して小さくなるように形成されていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記バンク形成工程において、前記バンクの上面及び側面と前記流動抑止部には前記膜材料液に対する撥液処理を行い、前記バンクの底面には前記膜材料液に対する親液処理を行うことを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記塗布領域の長手方向と略直交する方向に2つの前記流動抑止部が対向して配置されることを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の有機EL装置の製造方法であって、
前記流動抑止部は前記バンクに囲まれた中に配置され、
前記流動抑止部の前記バンクと近い場所は、前記バンクと離れている場所に比べて、前記バンクの底面からの高さが低くなるように形成されていることを特徴とする有機EL装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007233693A JP5286719B2 (ja) | 2007-09-10 | 2007-09-10 | 膜形成方法、光学素子の形成方法、導電膜の形成方法、光学素子及び配線 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007233693A JP5286719B2 (ja) | 2007-09-10 | 2007-09-10 | 膜形成方法、光学素子の形成方法、導電膜の形成方法、光学素子及び配線 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009064745A JP2009064745A (ja) | 2009-03-26 |
JP5286719B2 true JP5286719B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=40559137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007233693A Expired - Fee Related JP5286719B2 (ja) | 2007-09-10 | 2007-09-10 | 膜形成方法、光学素子の形成方法、導電膜の形成方法、光学素子及び配線 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5286719B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11798927B2 (en) | 2020-10-16 | 2023-10-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6170826B2 (ja) * | 2013-12-17 | 2017-07-26 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el表示装置及びその製造方法 |
CN107425045A (zh) * | 2017-09-18 | 2017-12-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板、显示器件和阵列基板的制造方法 |
CN112701148B (zh) * | 2020-12-28 | 2024-04-30 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 顶发射显示面板、显示装置及其制作方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05190285A (ja) * | 1992-01-10 | 1993-07-30 | Fuji Electric Co Ltd | エレクトロルミネッセンス表示パネル |
DE60142629D1 (de) * | 2000-11-17 | 2010-09-02 | Tpo Displays Corp | Organisches elektrolumineszenzbauelement und verfahren zu seiner herstellung |
DE10133684A1 (de) * | 2001-07-11 | 2003-02-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Organisches, farbiges, elektrolumineszierendes Display und dessen Herstellung |
US6810919B2 (en) * | 2002-01-11 | 2004-11-02 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method for display device, display device, manufacturing method for electronic apparatus, and electronic apparatus |
JP4014901B2 (ja) * | 2002-03-14 | 2007-11-28 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出による材料の配置方法および表示装置の製造方法 |
JP4401806B2 (ja) * | 2003-02-18 | 2010-01-20 | シャープ株式会社 | 複合膜の製造方法、複合膜、カラーフィルタ、及びカラーフィルタを備えた表示装置 |
JP4255724B2 (ja) * | 2003-03-19 | 2009-04-15 | オプトレックス株式会社 | 有機elディスプレイの製造方法および有機elディスプレイ |
JP2007103032A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Seiko Epson Corp | 発光装置、及び発光装置の製造方法 |
JP2007227127A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Seiko Epson Corp | 発光装置およびその製造方法 |
-
2007
- 2007-09-10 JP JP2007233693A patent/JP5286719B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11798927B2 (en) | 2020-10-16 | 2023-10-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009064745A (ja) | 2009-03-26 |
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