JP5278648B2 - エキシマランプ - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 132
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 19
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011802 pulverized particle Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 241000282341 Mustela putorius furo Species 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/30—Vessels; Containers
- H01J61/35—Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J5/00—Details relating to vessels or to leading-in conductors common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J5/50—Means forming part of the tube or lamps for the purpose of providing electrical connection to it
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
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- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/245—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps
- H01J9/247—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps specially adapted for gas-discharge lamps
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/26—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc
- H05B41/28—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters
- H05B41/2806—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters with semiconductor devices and specially adapted for lamps without electrodes in the vessel, e.g. surface discharge lamps, electrodeless discharge lamps
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/26—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc
- H05B41/28—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters
- H05B41/2806—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters with semiconductor devices and specially adapted for lamps without electrodes in the vessel, e.g. surface discharge lamps, electrodeless discharge lamps
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Description
これらの図に示すように、このエキシマランプ100は、紫外線を透過するシリカガラスよりなる放電容器101と、放電容器101の内側と外側に各々電極102,103とが設けられており、放電空間Sのエキシマ放電に曝される放電容器101内表面には、紫外線反射膜104が形成されている。また、放電容器101の一部には、紫外線反射膜104が形成されていないことにより放電空間S内で発生した紫外線を出射する光出射部105が形成されている。さらに特許文献1の記載によれば、紫外線反射膜104として、シリカ粒子のみからなるもの、およびアルミナ粒子のみからなるものが記載されている。
第1の手段は、放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器と、該放電容器を形成するシリカガラスが介在する一対の電極とを備え、前記放電空間内にキセノンガスが封入されてなり、前記放電空間内においてエキシマ放電を発生させるエキシマランプであって、エキシマ放電に曝される前記放電容器内表面に、シリカ粒子を含む紫外線散乱粒子からなる紫外線反射膜を形成し、波長4560nmの光が前記紫外線反射膜および厚さ1mmのシリカガラスの透過で測定した時の透過率が10%以上であることを特徴とするエキシマランプである。
第2の手段は、第1の手段において、前記紫外線反射膜の膜厚y(μm)は、該紫外線反射膜を構成する紫外線散乱粒子の中心粒径をx(μm)とするとき、x<0.9において、y≦−210x+293、0.9≦x<2.7において、y≦−34x+127、2.7≦xにおいて、y≦−5.5x+49の関係を満足することを特徴とするエキシマランプである。
第3の手段は、第1の手段または第2の手段において、前記紫外線散乱粒子として、アルミナ粒子を含むことを特徴とするエキシマランプである。
第4の手段は、第1の手段ないし第3の手段のいずれか1つの手段において、前記紫外線反射膜の膜厚y(μm)は、該紫外線反射膜を構成する紫外線散乱粒子の中心粒径をx(μm)とするとき、y≧4x+5の関係を満足することを特徴とするエキシマランプである。
請求項2に記載の発明によれば、紫外線反射膜の膜厚y(μm)と紫外線散乱粒子の中心粒径をx(μm)との関係を、x<0.9において、y≦−210x+293、0.9≦x<2.7において、y≦−34x+127、2.7≦xにおいて、y≦−5.5x+49とすることにより、紫外線反射膜は赤外光を透過するので、紫外線反射膜が形成された部分の放電容器も加熱され、紫外線反射膜が形成された部分の放電容器と紫外線反射膜との温度差が小さくなる。その結果、剥がれ落ちた紫外線反射膜の切片によってエキシマ光が遮られることがなくなり、長時間エキシマランプを点灯してもエキシマ光の放射光量を所定の範囲に維持することができる。
請求項3に記載の発明によれば、エキシマランプを長時間点灯しても、シリカ粒子が溶融されて紫外線反射膜の反射率が大幅に低下してしまうことを確実に抑制することができると共に、アルミナ粒子が混入されることによる紫外線反射膜の放電容器に対する粘着性(接着性)が大幅に低下することがないため、紫外線反射膜が剥がれることを確実に防止することができる。
請求項4に記載の発明によれば、紫外線反射膜の膜厚y(μm)と紫外線散乱粒子の中心粒径をx(μm)との関係を、y≧4x+5とすることにより、紫外線反射膜を所期の反射特性を有するものとして構成することができて真空紫外光を効率よく出射することができる。
図1(a)は、本実施形態の発明に係るエキシマランプ10の長尺方向に平行な切断面から見た断面図、図1(b)は、図1(a)のエキシマランプ10をA−Aから見た断面図である。
放電容器11はシリカガラスより形成されるので、波長170nmから波長3500nmの光を90%程度透過し、波長5000nm以上の光はシリカの吸収の性質より光は透過しない。同図に示すように、波長3500nmから波長5000nmにかけて徐々にシリカガラスの透過率が下がる。透過率の減少分は、シリカガラスにおける光の吸収分となる。通常、エキシマランプ10の放電容器11の内部からは波長172nm付近にピーク値を有する真空紫外光が放射されるが、真空紫外光のみならず可視光、赤外光も光束全体に占める割合は低いものの放射されている。したがって、波長3500nmから波長5000nmの赤外光をシリカガラスが吸収すると、放電容器11が加熱されることが分かる。
実験例1
まず、紫外線散乱粒子としてシリカ粒子のみを含有する紫外線反射膜と、シリカ粒子とアルミナ粒子の組成比を9:1、7:3とする紫外線反射膜とが各々形成されたエキシマランプを作成する。紫外線反射膜を構成するシリカ粒子およびアルミナ粒子の中心粒径、紫外線反射膜の透過率、紫外線反射膜の膜厚を測定し、続いて、エキシマランプを点灯して紫外線反射膜の剥がれ発生の有無を観察した。
同図において、表の横軸に膜組成および中心粒径、縦軸に透過率をとり、その該当する枠内に膜厚および実験結果の良否を記入した。各膜組成については、紫外線反射膜を構成する紫外線散乱粒子の中心粒径を計測し、その膜厚と透過率を測定すると共に、エキシマランプを点灯して紫外線反射膜の剥がれ発生の有無を観察し、膜剥がれが発生した場合は×、100時間経過後も膜剥がれが発生しなかった場合は○とした。
同図に示すように、膜剥がれが発生しない紫外線反射膜は、波長4560nmの赤外光の透過率が10%以上であることがわかる。膜剥がれが発生しない程度に内表面に紫外線反射膜が形成された部分の放電容器を加熱するには、紫外線反射膜の波長4560nmの赤外光の透過率が10%以上必要であることがわかる。
同図において、横軸を中心粒径(μm)とし、縦軸を紫外線反射膜の膜厚(μm)として、図4の実験結果に基づいて、紫外線散乱粒子としてシリカ粒子のみを含有する紫外線反射膜を○印でプロットし、シリカ粒子とアルミナ粒子の組成比が9:1である紫外線反射膜を△印でプロットし、シリカ粒子とアルミナ粒子の組成比が7:3である紫外線反射膜を□印でプロットし、剥がれの発生したランプを塗りつぶし、剥がれが発生しなかったランプを白抜きで示した。
図6は、実験に使用した、粒子径範囲、中心粒径、および放電容器のシリカ粒子とアルミナ粒子の構成比が異なる6種類のエキシマランプ1〜6の明細を示す表である。
図7は、図6に示したエキシマランプ1〜6について、150〜200nmの波長域の真空紫外光の照度を測定し、紫外線反射膜を有さないエキシマランプの前記波長域の光の照度を1としたときの照度相対値を示すグラフである。
照度測定は、アルミニウム製容器の内部に配置されたセラミックス製の支持台上に、エキシマランプを固定すると共に、エキシマランプの表面から1mm離れた位置に、エキシマランプに対向するように紫外線照度計を固定し、アルミニウム製容器の内部雰囲気を窒素で置換した状態において、エキシマランプの両電極間に5kVの交流高電圧を印加することにより、放電容器の内部に放電を発生させ、接地電極の網目を介して放射される150〜200nmの波長域の真空紫外光の照度を測定した。
紫外線反射膜が設けられたエキシマランプにおいては、紫外線反射膜を有さないエキシマランプに比して20%以上高い照度を有すること、即ち、照度相対値が1.2以上であれば、実用上十分な効果が得られるものと判断することができ、従って、照度相対値を1.2以上とするために必要とされる紫外線反射膜の膜厚(必要膜厚)を図7に基づいて求めると、図8に示すような結果が得られる。
同図に示すように、紫外線反射膜の必要膜厚と、紫外線反射膜を構成する紫外線散乱粒子(シリカ粒子とアルミナ粒子)の中心粒径とは線形の関係にあって直線により近似することができ、照度相対値を1.2以上とするための紫外線反射膜の膜厚(必要膜厚)y(μm)と紫外線散乱粒子の中心粒径x(μm)との関係は、y=4x+5で示される近似度線Lより上の領域における大きさ(y≧4x+5)であれば、紫外線反射膜を所期の反射特性を有するものとして構成することができて真空紫外光を効率よく出射することができることが確認された。
同図に示すように、エキシマ光照射装置の筐体内に取り付けられたエキシマランプ10は、放電容器11に紫外線反射膜14が形成されており、紫外線反射膜14が形成されていない光出射部15がエキシマ光照射装置の筐体の開口に面するように配置されている。紫外線反射膜14は真空紫外光を反射しつつ赤外光を透過するので、赤外光は紫外線反射膜14を透過して放電容器11の外に放射される。ワーク20は、PEEK材やPTFE等の樹脂からなるローラ21が回転することにより取り付けられているベルト22が動くことによって運搬され、ワーク20は運搬の過程でエキシマランプ10によってエキシマ光が照射される構造となっている。エキシマランプ10からワーク20に照射されるエキシマ光は、真空紫外光は紫外線反射膜14によって反射されて強められるが、赤外光の強度は紫外線反射膜14のない放電容器11の部分と同程度に抑えられる。したがって、ワーク20を運搬するために構成される樹脂製のローラ21やベルト22の温度上昇を抑制することができ、交換の頻度を減らすことができる。
11 放電容器
12 一方の電極
13 他方の電極(接地電極)
14 紫外線反射膜
15 光出射部(アパーチャ部)
20 ワーク
21 ローラ
22 ベルト
S 放電空間
Claims (4)
- 放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器と、該放電容器を形成するシリカガラスが介在する一対の電極とを備え、前記放電空間内にキセノンガスが封入されてなり、前記放電空間内においてエキシマ放電を発生させるエキシマランプであって、
エキシマ放電に曝される前記放電容器内表面に、シリカ粒子を含む紫外線散乱粒子からなる紫外線反射膜を形成し、波長4560nmの光が前記紫外線反射膜および厚さ1mmのシリカガラスの透過で測定した時の透過率が10%以上であることを特徴とするエキシマランプ。 - 前記紫外線反射膜の膜厚y(μm)は、該紫外線反射膜を構成する紫外線散乱粒子の中心粒径をx(μm)とするとき、x<0.9において、y≦−210x+293、0.9≦x<2.7において、y≦−34x+127、2.7≦xにおいて、y≦−5.5x+49の関係を満足することを特徴とする請求項1に記載のエキシマランプ。
- 前記紫外線散乱粒子として、アルミナ粒子を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエキシマランプ。
- 前記紫外線反射膜の膜厚y(μm)は、該紫外線反射膜を構成する紫外線散乱粒子の中心粒径をx(μm)とするとき、y≧4x+5の関係を満足することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1つの請求項に記載のエキシマランプ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007319506A JP5278648B2 (ja) | 2007-12-11 | 2007-12-11 | エキシマランプ |
TW097135556A TWI434321B (zh) | 2007-12-11 | 2008-09-17 | Excimer lamp |
KR1020080104671A KR101187543B1 (ko) | 2007-12-11 | 2008-10-24 | 엑시머 램프 |
CN2008101846445A CN101459035B (zh) | 2007-12-11 | 2008-12-11 | 准分子灯 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007319506A JP5278648B2 (ja) | 2007-12-11 | 2007-12-11 | エキシマランプ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009146583A JP2009146583A (ja) | 2009-07-02 |
JP5278648B2 true JP5278648B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=40769807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007319506A Active JP5278648B2 (ja) | 2007-12-11 | 2007-12-11 | エキシマランプ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5278648B2 (ja) |
KR (1) | KR101187543B1 (ja) |
CN (1) | CN101459035B (ja) |
TW (1) | TWI434321B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102117984B (zh) * | 2009-12-31 | 2013-05-22 | 宏碁股份有限公司 | 插座模块及插座模块与插头的组合装置 |
JP2017050087A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 株式会社Gsユアサ | 放電ランプ |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2734939B2 (ja) * | 1993-07-23 | 1998-04-02 | 関西日本電気株式会社 | ランプ光源及び露光装置 |
JPH1050261A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-02-20 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 放電ランプ、照明装置、および表示装置 |
JP3580233B2 (ja) * | 2000-09-19 | 2004-10-20 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ装置 |
DE10345771A1 (de) * | 2003-10-01 | 2005-04-21 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Reflexionsschichten aus Aluminiumoxidpartikel-Mischung |
KR20050093946A (ko) * | 2004-03-17 | 2005-09-26 | 삼성전자주식회사 | 면광원 장치 및 이를 갖는 액정표시장치 |
EP1769522B1 (en) * | 2004-07-09 | 2016-11-23 | Philips Lighting Holding B.V. | Uvc/vuv dielectric barrier discharge lamp with reflector |
US7563512B2 (en) * | 2004-08-23 | 2009-07-21 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Component with a reflector layer and method for producing the same |
JP5092950B2 (ja) * | 2007-10-10 | 2012-12-05 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
-
2007
- 2007-12-11 JP JP2007319506A patent/JP5278648B2/ja active Active
-
2008
- 2008-09-17 TW TW097135556A patent/TWI434321B/zh active
- 2008-10-24 KR KR1020080104671A patent/KR101187543B1/ko active IP Right Grant
- 2008-12-11 CN CN2008101846445A patent/CN101459035B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI434321B (zh) | 2014-04-11 |
KR101187543B1 (ko) | 2012-10-02 |
JP2009146583A (ja) | 2009-07-02 |
CN101459035B (zh) | 2012-09-19 |
CN101459035A (zh) | 2009-06-17 |
TW200926253A (en) | 2009-06-16 |
KR20090061569A (ko) | 2009-06-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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