JP2009151968A - 紫外線ランプ、エキシマランプおよびエキシマランプの製造方法 - Google Patents
紫外線ランプ、エキシマランプおよびエキシマランプの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009151968A JP2009151968A JP2007326800A JP2007326800A JP2009151968A JP 2009151968 A JP2009151968 A JP 2009151968A JP 2007326800 A JP2007326800 A JP 2007326800A JP 2007326800 A JP2007326800 A JP 2007326800A JP 2009151968 A JP2009151968 A JP 2009151968A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet
- discharge
- particles
- reflecting film
- lamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Abstract
【解決手段】放電空間Sを有するシリカガラスよりなる放電容器11と、放電容器11を形成するシリカガラスが介在する一対の電極12,13とを設けると共に、放電空間S内にキセノンガスが封入され、放電容器11の放電空間S内においてエキシマ放電を発生させるエキシマランプであって、放電空間Sにおける放電により曝される放電容器11の内表面に、シリカ粒子を含む紫外線散乱粒子と結着剤に起因するアルコキシル基とからなる紫外線反射膜14を形成したことを特徴とする紫外線ランプである。
【選択図】図1
Description
これらの図に示すように、このエキシマランプ100は、紫外線を透過するシリカガラスよりなる放電容器101と、放電容器101の内側と外側に各々電極102,103とが設けられており、放電空間Sのエキシマ放電に曝される放電容器101の内表面には、紫外線反射膜104が形成されている。また、放電容器101の一部には、紫外線反射膜104が形成されていないことにより放電空間S内で発生した紫外線を出射する光出射部105が形成されている。さらに特許文献1の記載によれば、紫外線反射膜104として、シリカ粒子のみからなるもの、およびアルミナ粒子のみからなるものが記載されている。
第1の手段は、放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器を具備した紫外線ランプであって、前記放電空間における放電により曝される前記放電容器の内表面に、シリカ粒子を含む紫外線散乱粒子と結着剤に起因するアルコキシル基とからなる紫外線反射膜を形成したことを特徴とする紫外線ランプである。
第2の手段は、第1の手段に記載の紫外線ランプは、エキシマランプであって、前記放電容器を形成するシリカガラスが介在する一対の電極が設けられると共に、前記放電空間内にキセノンガスが封入されてなり、前記放電容器の放電空間内においてエキシマ放電を発生させることを特徴とするエキシマランプである。
第3の手段は、第2の手段において、前記紫外線反射膜に含まれる炭素の濃度が、20wtppm以上1000wtppm以下であることを特徴とするエキシマランプである。
第4の手段は、第2の手段または第3の手段において、前記紫外線散乱粒子として、アルミナ粒子が含まれることを特徴とするエキシマランプである。
第5の手段は、シリカ粒子を含む紫外線散乱粒子と、オルトケイ酸テトラエチルを含む結着剤と、分散剤と、溶剤とを混合し、紫外線散乱粒子に対する結着剤添加量が1.0wt%以上とするコート液を作る工程と、前記コート液をシリカガラスよりなる放電容器に流し込む工程と、前記放電容器に付着した前記コート液を焼成して紫外線反射膜を形成する工程と、前記放電容器を形成するシリカガラスが介在する一対の電極を設ける工程と、放電空間内にキセノンガスを封入する工程とからなることを特徴とするエキシマランプの製造方法である。
請求項4に記載の発明によれば、シリカ粒子より高い融点を有するアルミナ粒子はプラズマに曝されても溶融しないため、互いに隣接するシリカ粒子とアルミナ粒子とが粒子同士で結合されることが防止されて粒界が維持されるので、長時間点灯しても、真空紫外光を効率よく拡散反射させることができて初期の反射率を実質的に維持することができる。また、アルミナ粒子は粒子同士の結着性や放電容器との結着性はシリカ粒子に比べて低いが、紫外線反射膜は、十分な量のオルトケイ酸テトラエチルを含む結着剤に由来するシリカがシリカ粒子のみならずアルミナ粒子にも溶融付着し、アルミナ粒子同士やアルミナ粒子とシリカ粒子との結着性、アルミナ粒子と放電容器との結着性を高め、衝撃を受けても紫外線反射膜が剥がれ落ちにくく、剥がれたとしても紫外線散乱粒子がバラバラに離れて飛散することを防止することができる。
請求項5に記載の発明によれば、紫外線反射膜は、紫外線散乱粒子同士あるいは紫外線散乱粒子とシリカガラスよりなる放電容器との結着力が高いので、衝撃を受けても剥がれ落ちにくく、剥がれたとしても紫外線散乱粒子がバラバラに離れて飛散することのないエキシマランプの製造方法を提供することができる。
図1(a)は、本実施形態の発明に係る紫外線ランプの一例としてのエキシマランプ10の長尺方向に平行な切断面から見た断面図、図1(b)は、図1(a)のエキシマランプ10をA−Aから見た断面図である。
同図において矢印で示すように、結着剤がシリカとなって紫外線散乱粒子やシリカガラスに溶融付着し、紫外線粒子同士や、紫外線散乱粒子とシリカガラスよりなる放電容器11との結着力を高めることができる。また、紫外線散乱粒子に含まれるシリカ粒子と、放電容器11を構成するシリカガラスと、結着剤に由来するシリカは、同質材料であり膨張係数もほぼ同一の値となるので、エキシマランプの点灯と消灯により加温と冷却が繰り返されても、放電容器11に形成される紫外線反射膜14の剥がれ落ちを防止することができる。
実験1
この実験は、結着剤が含まれた紫外線反射膜を形成し、そのカーボン濃度を測定し、膜剥がれの有無を調べるための実験である。まず、紫外線反射膜を形成するためのコート液を用意する。コート液は、紫外線散乱粒子として、シリカ粒子90wt%、アルミナ粒子10wt%、結着剤として、エタノール:酢酸:オルトケイ酸テトラエチルを3:1:1の重量比で混合したもの、分散剤として、シランカップリング剤、溶剤としてエタノールからなる。コート液の製造は、紫外線散乱粒子100g、分散剤1cc、溶剤150ccを容器に計量混合し、さらに結着剤の投入量を0g、0.5g、1.0g、1.5g、2.5g、3g、5gとする7種の溶液を用意した。この溶液を―昼夜ミキシングを行い均等に拡散させて、結着剤添加量が0〜5%とする7種のコート液を用意した。
膜剥がれ耐久性のテストは、シリカガラスよりなる基材上に形成された紫外線反射膜の表面に、6Hの芯の硬度の鉛筆(JIS規格<JIS S 6006:2007>)を突き当てて10回摺動させた。紫外線反射膜の基材からの剥がれの有無を目視にて確認した。各結着剤添加量における3つの試料について実験を行い、3つとも剥がれなかったものを○、3つとも剥がれたものを×、3つのうち剥がれたものも剥がれなかったものも両方あった場合を△とした。
各コート液について3個の試料を形成しているが、焼成温度、焼成時間は同一条件としているので、結着剤添加量に対するカーボン濃度は3つの試料ともほぼ同一の値となった。結着剤添加量を増やして結着剤に由来するシリカが増えると、紫外線反射膜に含まれるカーボン濃度も増えることが確認できた。紫外線反射膜に含まれるカーボン濃度が20wtppm以上であれば、紫外線反射膜とシリカガラスよりなる基材との剥がれを防止できることがわかった。
この実験は、実験1で得られた紫外線反射膜に脱炭処理を施し、脱炭処理後の紫外線反射膜のカーボン濃度を調べる実験である。実験例1の焼成により形成された紫外線反射膜に脱炭処理を施し、処理後の紫外線反射膜のカーボン濃度を測定した。脱炭処理として、ウェット水素処理をした。ウェット水素処理とは、キャリアガスとして水素ガスを用い、水分を含ませて炉内に配置された対象物を加熱酸化処理することをいう。加熱された炉内に導入された水由来の酸素が対象物に含まれる炭素と反応することにより、一酸化炭素(CO)として対象物中の炭素を排出除去する。酸化速度を調整するにはキャリアガス種を選択することにより可能である。
具体的には、純水中に水素ガスを導入することにより、+55℃程度の露点の水素ガス(水分を含む水素ガス)を炉内に流し込み、ウェット水素雰囲気とした炉内において1000℃に加熱処理した。実験例1で用いた7種の紫外線反射膜について脱炭処理を施し、処理後の紫外線反射膜について実験例1と同様にしてカーボン濃度測定をした。
同図に示すように、脱炭処理前後のカーボン濃度の差は0〜3wtppmとなった。また、処理後のカーボン濃度が処理前のカーボン濃度に比べて少なくなる場合もあれば、増える場合も発生した。脱炭処理をしてカーボン濃度が増えることは考えにくく、カーボン濃度の測定精度を考慮すると、0〜3wtppmの処理前後のカーボン濃度の差は測定誤差であり、脱炭処理の前と後ではカーボン濃度が変わらないことが確かめられた。紫外線反射膜から炭素を排出除去する脱炭処理をしてもカーボン濃度が変わらないことから、紫外線反射膜に含まれるカーボンはSiC結合など高温でも安定な状態のカーボンであり、カーボン濃度をこれ以上は下がらないことがわかった。
この実験は、結着剤の投入量を増やして紫外線反射膜を形成して、エキシマランプの放電状態を観察する実験である。まず、結着剤の投入量を30g、65g、100gと、紫外線散乱粒子100g、分散剤1cc、溶剤150ccとするコート液を用いて、実験例1に示すエキシマランプと同様に紫外線反射膜を作成した。続いて、実験例1の説明に示す通りにカーボン濃度測定をすると、3種の紫外線反射膜のカーボン濃度は、500wtppm、1000wtppm、1700wtppmであった。これらのエキシマランプを点灯した。紫外線反射膜のカーボン濃度が500wtppm、1000wtppmのエキシマランプは好ましいエキシマ放電が発生し、十分な照度の光が放射された。しかしながら、紫外線反射膜のカーボン濃度が1700wtppmのエキシマランプは、放電の収縮やチラツキといった異常放電が発生し、さらに照度が半分以下と著しく低下した。これは、膜中に存在する結着剤由来の残留物が放電により叩き出されて気化し、不純ガスとして放電容器中で振舞うことにより安定放電しなくなったためと考えられる。これより、紫外線反射膜のカーボン濃度は1000wtppm以下でなければならないことがわかった。
図6は、本実施形態の発明に係る紫外線ランプの一例としてのショートアークランプの構成を示す断面図である。
同図に示すように、このショートアークランプ20は、例えば、リフレクタ29と組み合わされて光源装置を構成した状態で使用されるものであって、内部に略楕円形状の放電空間Sを形成する膨出部21および膨出部21の両端に連続して外方に伸びる封止部22,22を有するシリカガラスよりなる放電容器23を備え、封止部22の外端部に口金24,24を備えており、放電容器23の内部には、陰極25と陽極26とが対向配置されると共に、例えば、キセノン、クリプトン、アルゴン等の希ガスが適宜の量封入されている。このショートアークランプ20は、陰極25が陽極26より前方(図において右方)に位置し、アーク方向がリフレクタ29の光軸に一致し、アーク中心Cがリフレクタ29の開口縁上の任意の点とアーク中心Cとを結ぶ仮想直線Lを想定するとき、仮想直線Lより光照射方向前方に位置する膨出部21の内面に、シリカ粒子またはシリカ粒子とアルミナ粒子を含む紫外線散乱粒子と結着剤に起因するアルコキシル基とからなる紫外線反射膜27が形成され、紫外線反射膜27が形成されていない光出射部28が放電容器23に形成されている。
11 放電容器
12 一方の電極
13 他方の電極(接地電極)
14 紫外線反射膜
15 光出射部
20 ショートアークランプ
21 膨出部
22 封止部
23 放電容器
24 口金
25 陰極
26 陽極
27 紫外線反射膜
28 光出射部
29 リフレクタ
S 放電空間
Claims (5)
- 放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器を具備した紫外線ランプであって、
前記放電空間における放電により曝される前記放電容器の内表面に、シリカ粒子を含む紫外線散乱粒子と結着剤に起因するアルコキシル基とからなる紫外線反射膜を形成したことを特徴とする紫外線ランプ。 - 請求項1に記載の紫外線ランプは、エキシマランプであって、前記放電容器を形成するシリカガラスが介在する一対の電極が設けられると共に、前記放電空間内にキセノンガスが封入されてなり、前記放電容器の放電空間内においてエキシマ放電を発生させることを特徴とするエキシマランプ。
- 前記紫外線反射膜に含まれる炭素の濃度が、20wtppm以上1000wtppm以下であることを特徴とする請求項2に記載のエキシマランプ。
- 前記紫外線散乱粒子として、アルミナ粒子が含まれることを特徴とする請求項2または請求項3に記載のエキシマランプ。
- シリカ粒子を含む紫外線散乱粒子と、オルトケイ酸テトラエチルを含む結着剤と、分散剤と、溶剤とを混合し、紫外線散乱粒子に対する結着剤添加量が1.0wt%以上とするコート液を作る工程と、前記コート液をシリカガラスよりなる放電容器に流し込む工程と、前記放電容器に付着した前記コート液を焼成して紫外線反射膜を形成する工程と、前記放電容器を形成するシリカガラスが介在する一対の電極を設ける工程と、放電空間内にキセノンガスを封入する工程とからなることを特徴とするエキシマランプの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007326800A JP2009151968A (ja) | 2007-12-19 | 2007-12-19 | 紫外線ランプ、エキシマランプおよびエキシマランプの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007326800A JP2009151968A (ja) | 2007-12-19 | 2007-12-19 | 紫外線ランプ、エキシマランプおよびエキシマランプの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009151968A true JP2009151968A (ja) | 2009-07-09 |
Family
ID=40920884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007326800A Pending JP2009151968A (ja) | 2007-12-19 | 2007-12-19 | 紫外線ランプ、エキシマランプおよびエキシマランプの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009151968A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015069888A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 株式会社Gsユアサ | 放電ランプ |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097546A (ja) * | 1995-04-21 | 1997-01-10 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 管球、放電ランプ、無電極放電ランプ、蛍光ランプおよび照明器具 |
JP3580233B2 (ja) * | 2000-09-19 | 2004-10-20 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ装置 |
JP2005281368A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Hideo Konuki | 粉体の結着方法、粉体の結着装置、粉体結着体、光拡散板の製造方法、光拡散板の製造装置、光拡散板、光触媒体の製造方法、光触媒体の製造装置、及び光触媒体 |
JP2006049297A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 低圧放電ランプ及びバックライトユニット |
JP2007123085A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Ushio Inc | 希ガス蛍光ランプ及び蛍光体層の形成方法 |
-
2007
- 2007-12-19 JP JP2007326800A patent/JP2009151968A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097546A (ja) * | 1995-04-21 | 1997-01-10 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 管球、放電ランプ、無電極放電ランプ、蛍光ランプおよび照明器具 |
JP3580233B2 (ja) * | 2000-09-19 | 2004-10-20 | ウシオ電機株式会社 | 誘電体バリア放電ランプ装置 |
JP2005281368A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Hideo Konuki | 粉体の結着方法、粉体の結着装置、粉体結着体、光拡散板の製造方法、光拡散板の製造装置、光拡散板、光触媒体の製造方法、光触媒体の製造装置、及び光触媒体 |
JP2006049297A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 低圧放電ランプ及びバックライトユニット |
JP2007123085A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Ushio Inc | 希ガス蛍光ランプ及び蛍光体層の形成方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015069888A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 株式会社Gsユアサ | 放電ランプ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4857939B2 (ja) | 放電ランプ | |
JP4998832B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP4788534B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP4946772B2 (ja) | エキシマランプ | |
JPH04229945A (ja) | 高光度放電ランプ用の酸化ベリリウム保護被膜 | |
JP5092950B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP2009151968A (ja) | 紫外線ランプ、エキシマランプおよびエキシマランプの製造方法 | |
TWI421902B (zh) | Excimer lamp | |
JP2009099579A (ja) | エキシマランプ光照射装置 | |
TWI407483B (zh) | Excimer lamp | |
JP5303890B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP5278648B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP5245552B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP2010123542A (ja) | 高圧放電ランプ用拡散膜の塗布用液剤及び高圧放電ランプ | |
JPH04248247A (ja) | 高光度メタルハライド放電ランプ用の保護被膜 | |
JP2005276640A (ja) | エキシマランプ | |
JP5050824B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP5151816B2 (ja) | エキシマランプ | |
JP5915976B2 (ja) | ロングアーク型放電ランプおよび光照射装置 | |
JP2008288081A (ja) | 蛍光ランプおよび照明装置 | |
JP2007227248A (ja) | 蛍光ランプ及びその製造方法 | |
JP2002124213A (ja) | 多孔質物質を封入した蛍光ランプ | |
WO1999049497A1 (fr) | Lampe a decharge | |
JP2010073593A (ja) | 照明用保護部材、高圧放電ランプおよび照明器具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100917 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120210 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20120320 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20120808 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |