JP2009099579A - エキシマランプ光照射装置 - Google Patents

Abstract

【課題】長い使用寿命が得られると共に、十分な紫外線放射量を維持することのできるエキシマランプ光照射装置を提供すること。
【解決手段】エキシマランプ光照射装置は、エキシマランプの放電容器の内表面に、シリカ粒子を構成材料とする紫外線反射膜が形成されていると共に、当該放電容器の紫外線反射膜が形成されていない領域よりなるアパーチャ部が形成されており、開口を有する筐体よりなるランプハウス内に、当該開口にアパーチャ部が面するように配置されたエキシマランプと共に、当該エキシマランプの放電容器における、紫外線反射膜のアパーチャ部との境界を形成している端部が位置される部分を外表面側から温めるための加熱手段または保温手段が設けられていることを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、エキシマランプ光照射装置に関し、更に詳しくは、半導体装置の製造工程および液晶基板製造工程などにおける洗浄処理に用いられるエキシマランプ光照射装置に関する。

近年、金属、ガラスおよびその他の材料よりなる被処理体に対して波長２００ｎｍ以下の真空紫外線を照射することにより、当該真空紫外線およびこの真空紫外線により生成されるオゾンの作用によって被処理体を処理する技術、例えば被処理体の被照射面に付着している有機汚染物質を除去する洗浄処理技術、または、被処理体の被照射面に極薄酸化膜を形成する酸化膜形成処理技術などが開発され、実用化されている。

このような真空紫外線の照射源としては、エキシマ放電を利用して例えばキセノンなどのエキシマ分子を発生させ、これにより真空紫外線を放出するエキシマランプが広く利用されている。
エキシマランプにおいては、より高強度の真空紫外線を高効率で放射することのできるよう、多くの試みがなされ、種々の提案がなされている（例えば、特許文献１参照。）。

エキシマランプの或る種のものとして、特許文献１には、図２０および図２１に示すように、真空紫外線を透過するシリカガラスよりなり、円筒状の外側管３１と、この外側管３１内においてその筒軸に沿って配置された、当該外側管３１の内径より小さい外径を有する円筒状の内側管３２とを有し、外側管３１と内側管３２とが両端部において溶着されて側壁部３３が形成され、これにより、外側管３１と内側管３２との間に環状の放電空間Ｓが形成されてなる二重管構造の放電容器３０を備えてなるものが提案されている。このエキシマランプは、放電容器３０の外側管３１の外周面３１Ａに電極（外側電極）３４、内側管３２の内周面３２Ａに電極（内側電極）３５が設けられており、当該放電容器３０には、その内表面（具体的には、外側管３１の内周面３１Ｂおよび内側管３２の外周面３２Ｂ）に紫外線反射膜４１が形成されていると共に、この紫外線反射膜４１が形成されていない領域によって放電容器３０内で発生した真空紫外線を出射させるためのアパーチャ部２５が形成されている。

このような構成のエキシマランプにおいては、放電容器の内表面に紫外線反射膜が設けられているため、放電容器内で発生した真空紫外線は、アパーチャ部から出射されるときに放電容器の管壁を透過する以外には、紫外線反射膜によって反射されるのみで放電容器の管壁に入射することがないことから、真空紫外線がシリカガラス（放電容器の管壁）を透過することに起因して減衰することを抑制することができる。また、放電容器の紫外線反射膜が形成されている領域のシリカガラス（放電容器の管壁）に紫外線が入射されることを防止することができるため、当該放電容器に生じる紫外線歪によるダメージが小さくなり、この紫外線歪に起因するクラックの発生を抑制することができる。

しかしながら、このようなエキシマランプを点灯している際には、紫外線反射膜の端部、すなわちアパーチャ部との境界を形成している端部に剥落が生じる。そして、この紫外線反射膜の剥落した切片は、放電容器内に溜まることとなるため、この切片がアパーチャ部に溜まることにより、当該アパーチャ部において真空紫外線が遮断され、このアパーチャ部から出射される真空紫外線量が小さくなる、という問題がある。

特開２００２−９３３７７号公報

本発明は、以上のような事情に基づき、発明者らが検討を重ねることにより、点灯状態のエキシマランプにおいて、放電容器内で発生した真空紫外線が照射される紫外線反射膜と、当該紫外線反射膜の作用によって真空紫外線が照射されることのない、放電容器の紫外線照射膜が形成されている反射膜形成部分とに温度差が生じることに起因して、紫外線反射膜の端部に剥落が発生することを見出した結果なされたものであって、その目的は、長い使用寿命が得られると共に、十分な紫外線放射量を維持することのできるエキシマランプ光照射装置を提供することにある。

本発明のエキシマランプ光照射装置は、放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器を備え、当該放電容器を形成するシリカガラスが介在する状態で一対の電極が設けられてなり、前記放電容器の放電空間内にエキシマ放電を発生させるエキシマランプを具備してなるエキシマランプ光照射装置であって、
前記エキシマランプには、放電容器の内表面に、シリカ粒子を構成材料とする紫外線反射膜が形成されていると共に、当該放電容器の紫外線反射膜が形成されていない領域よりなるアパーチャ部が形成されており、
開口を有する筐体よりなるランプハウス内に、当該開口にアパーチャ部が面するように配置されたエキシマランプと共に、当該エキシマランプの放電容器における、紫外線反射膜のアパーチャ部との境界を形成している端部が位置される部分を外表面側から温めるための加熱手段または保温手段が設けられていることを特徴とする。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、紫外線反射膜がシリカ粒子とアルミナ粒子とからなることが好ましい。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、ランプハウス内に複数のエキシマランプが並列に配置されており、当該複数のエキシマランプのうちの両端に配置されたエキシマランプのランプハウスの側面に面する、放電容器における紫外線反射膜の端部が位置される部分を温めるよう、加熱手段または保温手段が設けられていることが好ましい。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、加熱手段がエキシマランプの管軸方向に伸びる反射面を有する反射板であってもよい。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、加熱手段が蓄熱部材であってもよい。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、加熱手段が通電加熱ヒータであってもよい。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、保温手段が放電容器における紫外線反射膜の端部が位置される部分の外表面上に設けられた保温膜であってもよい。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、エキシマランプを構成する放電容器において、紫外線反射膜が形成されている反射膜形成部分の温度と、当該反射膜形成部分に隣接する、紫外線反射膜が形成されていない反射膜隣接アパーチャ部分の温度との差が５５℃以下であることが好ましい。

本発明のエキシマランプ光照射装置においては、エキシマランプの放電容器の内表面にシリカ粒子を構成材料とする紫外線反射膜が設けられており、当該放電容器の紫外線反射膜が形成されている部分に紫外線が入射されることがないことから、紫外線歪に起因するクラックの発生を抑制することができるため、エキシマランプの使用寿命が長くなる。また、放電容器内で発生した紫外線は、当該放電容器における紫外線反射膜が形成されている部分の管壁に入射することがないことから、当該紫外線が放電容器の管壁を透過することに起因して減衰することを抑制することができる。しかも、このエキシマランプ光照射装置には、放電容器における紫外線反射膜のアパーチャ部との境界を形成している端部が位置される部分を温めるための加熱手段または保温手段が設けられているため、紫外線反射膜の作用によって紫外線が照射されることがない、放電容器における紫外線反射膜の端部が位置されている部分の温度と、紫外線の照射によって昇温される紫外線反射膜の端部の温度との差を小さくすることができ、その結果、紫外線反射膜の端部が、当該紫外線反射膜と放電容器との温度差に起因して剥落することを防止することができることから、紫外線反射膜の剥落によってアパーチャ部の一部が塞がれて出射される紫外線が遮断されることを防止することができる。
従って、本発明のエキシマランプ光照射装置によれば、長い使用寿命が得られると共に、十分な紫外線放射量を維持することができる。

以下、本発明のエキシマランプ光照射装置について詳細に説明する。

図１は、本発明のエキシマランプ光照射装置の構成の一例を示す説明用概略図であり、図２は、図１のエキシマランプ光照射装置の断面図であって、当該エキシマランプ光照射装置に備えられているエキシマランプの管軸に垂直な断面を示す説明用断面図であり、図３は、図１のエキシマランプ光照射装置に備えられているエキシマランプの構成を示す説明図であり、図４は、図３のエキシマランプの管軸に垂直な断面を示す説明用断面図である。なお、図１には、説明の都合上、ランプハウス内に設けられている反射板が図示されておらず、また当該ランプハウスの１つの側面板が取り外されている状態が示されている。
このエキシマランプ光照射装置は、エキシマランプ２０が、全体が矩形の箱型の筐体よりなる、アルミニウム製のランプハウス１０内に、両端の各々において支持部材１６により固定されて装着されてなる構成を有するものである。
このランプハウス１０は、底面板１１Ａおよび当該底面板１１Ａに連結する側面板１１Ｂよりなり、上方（図１における上方）に開口を有しており、この開口を塞ぐよう、例えば合成石英ガラスなどの真空紫外線を透過する材料よりなる光放射窓１４が設けられている。このランプハウス１０の内部には、閉塞空間が形成されており、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、ネオンガス、クリプトンガスおよびキセノンガスから選択される少なくとも１種よりなる不活性ガスが封入されている。
ここに、このエキシマランプ光照射装置においては、真空紫外線が酸素に吸収されることによって減衰してしまう性質を有するため、ランプハウス１０内の酸素濃度を所定の濃度とし、これにより、被処理物に対して確実に真空紫外線を照射することのできるようにしている。

エキシマランプ２０は、二重管タイプのエキシマランプであって、例えば合成石英ガラスなどの良好な真空紫外線透過性を有するシリカガラスよりなり、円筒状の外側管３１と、この外側管３１内においてその筒軸に沿って配置された、当該外側管３１の内径より小さい外径を有する円筒状の内側管３２とを有し、外側管３１と内側管３２とが両端部において溶着されることによって側壁部３３が形成され、これにより、外側管３１と内側管３２との間に環状の放電空間Ｓが形成されてなる二重管構造を有する放電容器３０を備えている。この放電容器３０の外側管３１には、その外周面３１Ａに密接して、例えば金網などの導電性材料よりなる網状の一方の電極（以下、「外側電極」ともいう。）３４が設けられていると共に、内側管３２には、その内周面３２Ａに密接して、例えば金属板よりなる他方の電極（以下、「内側電極」ともいう。）３５が設けられている。この外側電極３４と内側電極３５とよりなる一対の電極は、放電容器３０を形成するシリカガラス（放電容器３０の管壁）を介在した状態で設けられている。
放電容器３０の放電空間Ｓ内には、例えばキセノンガス、アルゴンガスと塩素ガスとの混合ガスなどのエキシマ放電によってエキシマ分子を形成する放電用ガスが封入されている。
この図の例においては、内側電極３５は、内側管３２の両端に設けられた約２０ｍｍのクリアランスの間に伸びるよう、配置されており、また、外側電極３４は、導電性材料線（例えば、金属線）をシームレスに円筒状に編んだ網状体よりなり、この網状体の中に放電容器３０を挿入することによって当該放電容器３０の外側管３１の外周面３１Ａに装着されている。この内側電極３５および外側電極３４は、高周波電源よりなる電源装置２２に接続されている。また、漏電防止のため、エキシマランプ２０の外部に露出して配置される外側電極３４を接地電極とし、内部に配置される内側電極３５を高電圧供給電極としている。

そして、このエキシマランプ２０には、放電容器３０の内表面に、例えば１０〜１００μｍの厚みの紫外線反射膜４１が形成されており、また、この放電容器３０における内表面に紫外線反射膜４１が形成されていない領域により、放電空間Ｓにおいてエキシマ放電により生じた真空紫外線を外方に出射させるためのアパーチャ部２５が形成されている。 この図の例においては、紫外線反射膜４１は、放電容器３０の外側管３１の内周面３１Ｂにおけるランプハウス１０の底面板１１Ａ側（図２における下側、図３における上側）の領域に、エキシマランプ２０の管軸方向に伸びるように密接して設けられており、エキシマランプ２０の管軸方向に垂直な断面がＵ字形状となっている。また、エキシマランプ２０は、アパーチャ部２５がランプハウス１０に設けられている光照射窓１４に対向するよう、配設されている。

紫外線反射膜４１は、紫外線散乱能を有する粒子（以下、「紫外線散乱粒子」ともいう。）の積層体よりなり、具体的には、放電容器３０に対して高い結着性が得られること、および紫外線反射膜４１自体に高い真空紫外線反射能が得られることから、シリカ粒子を構成材料とするものである。また、シリカ粒子とアルミナ粒子とよりなるものであることが好ましい。一般に、エキシマランプ２０においては、エキシマ放電に伴って、プラズマが発生することが知られているが、シリカ粒子に加えて、このシリカ粒子より高い融点を有するアルミナ粒子を、紫外線反射膜４１の構成材料である紫外線散乱粒子として混合させることにより、当該紫外線反射膜４１の反射率の低下を抑制することができる。またプラズマによる熱にさらされた場合であっても、このプラズマの熱によってはアルミナ粒子は溶融しないため、紫外線反射膜４１において、互いに隣接するシリカ粒子とアルミナ粒子とが粒子同士で結合されることが防止され、粒界が維持される。
ここに、紫外線反射膜４１の真空紫外線反射能は、紫外線散乱粒子を積層させることにより、当該紫外線散乱粒子の有する特性を利用し、散乱反射を生じさせることによって得られるものである。
すなわち、真空紫外線が紫外線散乱粒子に到達すると、その一部は当該粒子の表面で反射し、他の一部は当該粒子の内部に屈折して入射する。この粒子の内部に入射された真空紫外線は、一部が吸収されるが多くは透過し、再び内部から出射するときに屈折する。このような屈折を、紫外線散乱粒子を積層することによって繰り返し起こさせることにより、紫外線散乱粒子の積層体よりなる紫外線反射膜４１に入射した真空紫外線は、入射した方向とは逆方向に散乱され、これが反射光となる。
なお、紫外線反射膜４１においては、前述のように、紫外線散乱粒子内に真空紫外線を透過させることによって散乱反射を生じさせているため、当該紫外線反射膜４１に、例えばチタン、ジルコニウムおよびこれらの化合物などの紫外線吸収能を有する材料が不純物として含有される場合はあるが、これらの材料が構成材料として用いられることはない。

紫外線反射膜４１がシリカ粒子とアルミナ粒子とよりなるものである場合には、当該紫外線反射膜４１におけるシリカ粒子の含有割合が３０〜９９質量％であり、アルミナ粒子の含有割合が１〜７０質量％であることが好ましい。また、アルミナ粒子の含有割合は、５〜７０質量％であることが更に好ましく、特に１０〜７０質量％であることが好ましい。

紫外線反射膜４１を構成するシリカ粒子は、放電容器３０の材質であるシリカガラスと同質のものであることが好ましい。
シリカ粒子の材質を放電容器３０の材質と同質とすることにより、シリカ粒子の線膨張率と放電容器３０の線膨張率とが同等となるため、紫外線反射膜４１に放電容器３０に対する高い結着性が得られることから、当該紫外線反射膜４１の放電容器３０からの剥離を抑制することができる。

また、シリカ粒子は、シリカガラスを粉末状の細粒子としたものであることが好ましく、また粒子の中心径が０．１〜１０μｍ、特に０．３〜３μｍであることが好ましい。
ここに、シリカ粒子として、シリカ結晶を用いることもできるが、この場合には、放電容器３０にクラックが発生しやすくなるおそれがある。

このようなシリカ粒子は、固相法、液相法および気相法によって製造することができるが、紫外線反射膜４１の構成材料として好適なサブミクロンあるいはミクロンサイズの粒子を得るためには、気相法が好ましく、製造コストの観点から、化学蒸着法（ＣＶＤ）が好ましい。
具体的には、例えば原料の塩化ケイ素と、酸素とを反応温度９００〜１０００℃の条件で反応させることによって合成することができる。この合成工程においては、原料濃度、圧力条件および反応温度を調整することによって得られる粒子の粒径を調節する。

紫外線反射膜４１を構成するアルミナ粒子は、粒子の中心径が０．１〜３μｍであることが好ましく、特に０．３〜１μｍであることが好ましい。
なお、アルミナ粒子は、アルミナが結晶化しやすい特性を有するものであることから、結晶状態の粒子である。また、アルミナ粒子は、シリカ粒子に比して高い屈折率および融点を有するという特性を有するものであり、このような特性を有するアルミナ粒子をシリカ粒子と共に構成材料とする紫外線反射膜４１においては、優れた真空紫外線反射能およびエキシマ放電に対する耐性が得られることとなる。

このようなアルミナ粒子は、固相法、液相法および気相法によって製造することができるが、紫外線反射膜４１の構成材料として好適なサブミクロンあるいはミクロンサイズの粒子を得るためには、気相法が好ましく、製造コストの観点から、化学蒸着法（ＣＶＤ）が好ましい。
具体的には、例えば原料の塩化アルミニウムと、酸素とを反応温度１０００〜１２００℃の条件で反応させることによって合成することができる。この合成工程においては、原料濃度、圧力条件および反応温度を調整することによって得られる粒子の粒径を調節する。

紫外線反射膜４１は、例えば流下法によって形成することができる。
具体的には、水およびＰＥＯ（ポリオキシエチレン）樹脂よりなる粘性溶剤に、シリカ粒子および必要に応じてその他の紫外線散乱粒子を加えることによって反射膜形成用溶液を得、この反射膜形成用溶液を放電容器３０を形成するための放電容器形成管の内表面における紫外線反射膜４１を形成すべき領域に流延し、当該領域に薄膜を形成する。そして、得られた薄膜を乾燥、焼成することにより、粘性溶液を蒸発させ、これにより、シリカ粒子および必要に応じた紫外線散乱粒子よりなる紫外線反射膜４１が形成される。

そして、エキシマランプ光照射装置には、ランプハウス１０内に、エキシマランプ２０と共に、当該エキシマランプ２０の放電容器３０における、紫外線反射膜４１のアパーチャ部２５との境界を形成している端部４２Ａ、４２Ｂが位置される部分（以下、「反射膜端部対応部分」ともいう。）を外表面側から温めるための手段（以下、「外部加温手段」ともいう。）が設けられている。
ここに、紫外線反射膜４１のアパーチャ部２５との境界を形成している端部４２Ａ、４２Ｂとは、エキシマランプ２０の管軸に垂直な断面における紫外線反射膜４１の端部である。

この外部加温手段は、反射膜端部対応部分を外表面側から加熱することによって温める加熱手段であって、エキシマランプ２０の管軸方向に伸びる反射面５２を有し、エキシマランプ２０の全長と同程度の全長を有する反射板５１よりなるものである。この反射板５１によれば、エキシマランプ２０から出射される光（具体的には、主として赤外線であって、アパーチャ部２５から、あるいは紫外線反射膜４１および放電容器３０の管壁を透過して外方に出射される光）を反射することにより、輻射熱によって放電容器３０の反射膜端部対応部分が外表面側から温められる。
この図の例においては、紫外線反射膜４１の両方の端部４２Ａ、４２Ｂの各々に対応する反射膜端部対応部分を個別に温めるための２つの反射板５１が支持部材５１Ａにより固定されて装着されている。これら２つの反射板５１は、各々、エキシマランプ２０の管軸方向に垂直な断面が、放電容器３０の外側管３１に沿うよう湾曲した形状を有しており、外側管３１の側管壁を介して端部４２Ａ、４２Ｂに対向するよう、当該エキシマランプ２０に対向配置されている。

反射板５１は、その材質として、例えばステンレスなどの金属を用いることができる。

以上のような構成を有するエキシマランプ光照射装置は、適正な大きさに制御された高周波電圧が電源装置２２によってエキシマランプ２０の外側電極３４と内側電極３５との間に印加されることにより、放電容器３０が誘電体として機能し、放電空間Ｓ内においてエキシマ放電が生じ、このエキシマ放電によって放電用ガスに由来するエキシマ分子が形成され、当該エキシマランプ２０のアパーチャ部２５における外側電極３４の網目の間から真空紫外線が出射され、この真空紫外線がランプハウス１０の開口から光照射窓１４を介して放射される。
ここに、エキシマランプ２０において、放電用ガスとしてキセノンガスが用いられる場合には、波長１７２ｎｍにピークを有する真空紫外線が得られ、アルゴンガスと塩素ガスとの混合ガスが用いられる場合には、波長１７５ｎｍにピークを有する真空紫外線が得られる。

而して、エキシマランプ２０においては、放電容器３０の内表面（外側管３１の内周面３１Ｂ）に紫外線反射膜４１が設けられているため、放電容器３０内で発生した真空紫外線は、反射膜形成部分においては、紫外線反射膜４１によって反射されるのみで放電容器３０の管壁に入射することがないことから、真空紫外線がシリカガラス（放電容器３０の管壁）を透過することに起因して減衰することが抑制される。また、放電容器３０の反射膜形成部分を構成するシリカガラス（放電容器３０の管壁）に紫外線が入射されることがないため、当該放電容器３０における紫外線歪によるダメージが小さくなり、この紫外線歪に起因するクラックの発生を抑制することができる。

更に、反射板５１よりなる加熱手段が外部加温手段として設けられているため、この反射板５１により、エキシマランプ２０における反射膜端部対応部分が輻射熱によって加熱されて温められることから、この反射膜端部対応部分には、紫外線反射膜４１の作用によって真空紫外線が照射されることがなくとも、当該反射膜端部対応部分と、放電容器３０内で発生した真空紫外線が照射され、これによって昇温される紫外線反射膜４１との温度の差を小さくすることができる。その結果、点灯状態のエキシマランプ２０において、放電容器３０の反射膜端部対応部分と紫外線反射膜４１との線膨張差を小さくすることができるため、紫外線反射膜４１の端部４２Ａ、４２Ｂが、紫外線反射膜４１と放電容器３０との温度差に起因して、放電容器３０から剥落することを防止することができる。
ここに、紫外線反射膜４１の反射板５１と対向していない中央部分において、当該紫外線反射膜４１と放電容器３０との間に生じる温度差に起因して接着性が低下した場合であっても、その周辺部分には、反射板５１よりなる外部加温手段の作用により、十分な接着性が得られるため、紫外線反射膜４１に剥落が生じることはない。

具体的に、エキシマランプ光照射装置においては、エキシマランプ２０の放電容器３０における反射膜形成部分の温度と、当該反射膜形成部分に隣接する、紫外線反射膜４１が形成されていない反射膜隣接アパーチャ部分の温度との差は、後述の実験例からも明らかなように、５５℃以下であることが好ましい。
ここに、本明細書中において、放電容器３０における反射膜形成部分および反射膜隣接アパーチャ部分の温度差を規定したのは、放電容器３０内に配置されている紫外線反射膜４１の温度を測定することが困難であることから、容易に測定することのできる、放電容器３０内で発生した真空紫外線が、紫外線反射膜４１と同様の条件で照射される反射膜隣接アパーチャ部分の温度を、紫外線反射膜４１の温度を確認するために用いたためであり、この反射膜形成部分と反射膜隣接アパーチャ部分との温度との差により、紫外線反射膜４１と放電容器３０と温度差を確認する。
また、反射膜形成部分の温度および反射膜隣接アパーチャ部分の温度は、例えば放射温度計（パイロメーター）によって測定することができる。

このように、本発明のエキシマランプ光照射装置によれば、エキシマランプ２０の放電容器３０において、紫外線反射膜４１が形成されている反射膜形成部分に真空紫外線が入射されることがないことから、紫外線歪に起因するクラックの発生を抑制することができるため、長い寿命を得ることができる。
また、放電容器３０内で発生した真空紫外線は、放電容器３０における反射膜形成部分の管壁に入射することがないことから、当該真空紫外線が放電容器３０の管壁（シリカガラス）を透過することに起因して減衰することが抑制される。その上、紫外線反射膜４１の端部４２Ａ、４２Ｂが、当該紫外線反射膜４１の端部４２Ａ、４２Ｂと放電容器３０の紫外線端部対応部分との温度差に起因して、放電容器３０から剥落することを防止することができ、その結果、紫外線反射膜４１の剥落によってアパーチャ部２５の一部が塞がれて出射される真空紫外線が遮断されることを防止することができる。従って、十分な真空紫外線放射量を維持することができる。

以上、本発明のエキシマランプ光照射装置について具体的に説明したが、本発明は以上の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
例えば、外部加温手段は、放電容器の反射膜端部対応部分を外表面側から温めることのできるものであればよく、下記（１）〜（３）の部材よりなるものであってもよい。
これらの（１）〜（３）の部材のうち、（１）および（２）の部材は、反射膜端部対応部分を、外表面側から加熱することによって温める加熱手段であり、（３）の部材は、反射膜端部対応部分の外表面に設けられ、当該反射膜端部対応部分を保温することによって温める保温手段である。

（１）例えばアルマイト処理されてなる表面を有し、エキシマランプから出射される光（主として、赤外線）を利用し、熱線放射によって放電容器の反射膜端部対応部分を、外表面側から加熱することによって温める蓄熱部材
（２）例えばハロゲンランプなどの通電加熱ヒータよりなり、発熱することによって放電容器の反射膜端部対応部分を、外表面側から加熱することによって温める発熱部材
（３）例えばシリカ粒子焼結体よりなり、温めるべき領域、すなわち放電容器の反射膜端部対応部分の外表面上に直接的に設けられ、当該反射膜端部対応部分を保温することによって温める保温部材

図５は、外部加温手段として、蓄熱部材が設けられてなるエキシマランプ光照射装置の構成の一例を示す説明図である。
このエキシマランプ光照射装置は、外部加温手段として、蓄熱部材が設けられていると共に、ランプハウス１０内に複数（図の例においては４つ）のエキシマランプ２０が並列に配置されていること以外は、図１のエキシマランプ光照射装置と同様の構成を有するものである。
この図の例において、蓄熱部材は、アルマイト処理されてなる表面５４を有し、エキシマランプ２０の管軸方向に伸び、エキシマランプ２０の全長と同程度の全長を有する平板状の蓄熱板状体５３よりなるものである。そして、複数のエキシマランプ２０のうちの両端に位置するエキシマランプに係るランプハウス１０の側面板１１Ｂ側の反射膜端部対応部分の各々を個別に温めるための２つの蓄熱板状体５３が支持部材５３Ａにより固定されて装着されている。これら２つの蓄熱板状体５３は、ランプハウス１０の底面板１１Ａに対して傾斜し、かつ表面５４が外側管３１の管壁を介して端部４２Ａ、４２Ｂに対向するよう、当該両端の各々のエキシマランプ２０に対向配置されている。
なお、ランプハウス１０内に複数のエキシマランプ２０が配置されてなる構成に関する説明については後述する。

図６は、外部加温手段として、発熱部材が設けられてなるエキシマランプ光照射装置の構成の一例を示す説明図である。
このエキシマランプ光照射装置は、外部加温手段として、ハロゲンランプ５５よりなる発熱部材が設けられていること以外は、図１のエキシマランプ光照射装置と同様の構成を有するものである。
この図の例においては、紫外線反射膜４１の両方の端部４２Ａ、４２Ｂの各々に対応する反射膜端部対応部分を個別に温めるための２つのハロゲンランプ（定格消費電力１００ｗ）５５が設けられている。これらのハロゲンランプ５５は、各々、エキシマランプ２０の管軸方向に伸び、エキシマランプ２０の全長と同程度の全長を有し、外側管３１の管壁を介して端部４２Ａ、４２Ｂに対向するよう、当該エキシマランプ２０と、例えば離間距離２５ｍｍで対向配置されている。

図７は、外部加温手段として、保温部材が設けられてなるエキシマランプ光照射装置の構成の一例を示す説明図である。
このエキシマランプ光照射装置は、外部加温手段として、保温部材が設けられていると共に、エキシマランプとしてオーバル管タイプのものが用いられていること以外は、図１のエキシマランプ光照射装置と同様の構成を有するものである。
この図の例において、保温部材は、シリカ粒子焼結体よりなり、その内部に空気層が形成されてなる保温膜状体５７よりなるものである。この保温膜状体５７は、空気層による断熱作用により、保温性能が得られるものである。このような構成の保温膜状体５７が、紫外線反射膜４１の両方の端部４２Ａ、４２Ｂの各々に対応する反射膜端部対応部分を個別に温めるよう、当該反射膜端部対応部分の外表面上に直接設けられている。
なお、オーバル管タイプのエキシマランプ６０に関する説明については後述する。

また、エキシマランプ光照射装置は、図５に示したように、ランプハウス１０内に複数のエキシマランプが並列に配置されてなる構成のものであってもよい。
このエキシマランプ光照射装置においては、外部加温手段として、複数のエキシマランプ２０のうちの両端に配置されたエキシマランプ２０のランプハウス１０の側面板１１Ｂに面する側面部（放電容器３０の反射膜端部対応部分の外表面）を個別に温めるための２つの蓄熱板状体５３が設けられている。そして、複数のエキシマランプ２０が接近して配設される場合には、互いに隣接するエキシマランプ２０によって、他のエキシマランプ２０に対向する側面部がそのエキシマランプ２０から出射される光（具体的には、主として赤外線）によって加熱されて温められることとなり、それにより、放電容器３０の反射膜端部対応部分が十分に温められることとなるため、そのエキシマランプ間には外部加温手段を設ける必要がない。一方、エキシマランプ２０の配置間隔が大きい、すなわち互いに隣接するエキシマランプ２０の離間距離が大きく、互いに隣接する一方のエキシマランプ２０から出射される光によっては十分に他方のエキシマランプ２０の側面部を温めることができないような場合には、図８に示すように、そのエキシマランプ２０間にも外部加温手段５８を設けることが好ましい。図８においては、外部加温手段５８として、表面が黒色にアルマイト処理（黒アルマイト処理）された平板状のステンレス板が設けられている。

また、エキシマランプは、図９〜図１１に示すように、両端が気密封止された中空長尺状の放電容器７０を備え、当該放電容器７０の内部に形成された放電空間Ｓに、例えばキセノンガス、アルゴンガスと塩素ガスとの混合ガスなどの放電用ガスが封入されており、またその外表面に、一対の格子状電極７４、７５が対向配置されてなる構成を有するオーバル管タイプのものであってもよい。
このエキシマランプ６０においては、格子状電極７４、７５は、放電容器７０の一対の長辺面板７１Ａ、７１Ｂの外表面の各々に、例えばペースト塗布またはプリント印刷によって形成されており、一方の格子状電極７４が接地電極とされ、他方の格子状電極７５が高電圧供給電極され、高周波電源よりなる電源装置２２に接続されている。また、放電容器７０には、一方の格子状電極７４が形成されている長辺面板７１Ａ以外の構成板（具体的には、長辺面板７１Ｂ、７３Ａ、７３Ｂおよび短辺面板７２）の内表面に、紫外線反射膜４１が形成されており、当該長辺面板７１Ａにおいてアパーチャ部６４が形成されている。

このエキシマランプ６０は、適正な大きさに制御された高周波電圧が電源装置２２によって格子状電極７４、７５の間に印加されることにより、放電容器７０が誘電体として機能して、放電空間Ｓ内においてエキシマ放電が生じ、このエキシマ放電によって放電用ガスに由来するエキシマ分子が形成され、当該エキシマランプ６０のアパーチャ部６４における格子状電極７４の格子状の網目を透過して真空紫外線が出射される。
ここに、エキシマランプ６０において、放電用ガスとしてキセノンガスが用いられる場合には、波長１７２ｎｍにピークを有する真空紫外線が得られ、アルゴンガスと塩素ガスとの混合ガスが用いられる場合には、波長１７５ｎｍにピークを有する真空紫外線が得られる。

このようなエキシマランプ６０を備えたエキシマランプ光照射装置においては、被処理物は、真空紫外線が酸素に吸収されて減衰しやすいことから、ランプハウスに設けられた光照射窓を介してエキシマランプ６０から離間距離３ｍｍ程度の位置に配置されることとなる。そのため、エキシマランプ６０においては、近接して配置される被処理物に対する漏電を防止するために、接地電極とされる格子状電極７４が光照射窓に面するように配設されることが好ましい。このような場合においては、図にも示したように、紫外線反射膜４１は、当該格子状電極７４が設けられている長辺面板７１Ａにアパーチャ部６４が形成されるよう、この長辺面板７１Ａ以外の構成面に係る内表面に形成される。

以下、本発明の作用効果を確認するために行なった実験例について説明する。

〔実験例１〕
図１２に示すように、ランプハウス１０内に、エキシマランプ２０が配設されており、反射板５１が設けられていないこと以外は図１に係るエキシマランプ光照射装置と同様の構成を有するエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（１）」ともいう。）と、図１３に示すように、図２に示した構成を有し、反射板５１よりなる外部加温手段が設けられていること以外は実験用装置（１）と同様の構成を有するエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（２）」ともいう。）とを作製した。

実験用装置（１）および実験用装置（２）において、ランプハウス１０としては、アルミニウム製であって、合成石英ガラスよりなる光放射窓１４が設けられており、その内部には、不活性ガスとしてキセノンガスが充填されてなるものを用いた。
また、エキシマランプ２０としては、内径３８ｍｍの外側管３１と、内径２６ｍｍの内側管３２とよりなり、全長２００ｍｍのシリカガラス製の放電容器３０を備え、ステンレス製の外側電極３４と、アルミニウム製の内側電極３５とが設けられており、放電空間Ｓ内には、放電用ガスとして３００Ｔｏｒｒのキセノンガスが封入されてなるものを用いた。このエキシマランプ２０の外側管３１の内周面３１Ｂには、粒子径分布が０．５〜５μｍのシリカ粒子８０質量％および粒子径分布が０．５〜１μｍのアルミナ粒子２０質量％よりなる、厚み５０μｍの紫外線反射膜４１が形成されている。
そして、エキシマランプ２０は、アパーチャ部２５がランプハウス１０における光照射窓１４に対向するよう、当該光放射窓１４との離間距離が３５ｍｍの位置に設けられている。

また、実験用装置（２）においては、反射板５１として、全長２００ｍｍのステンレス製のものを用いた。
この反射板５１は、エキシマランプ２０との離間距離が２５ｍｍとなるよう配設した。

作製した実験用装置（１）および実験用装置（２）の各々について、エキシマランプ２０を、１ｃｍ³ 当たり１Ｗの条件で点灯させ、点灯開始から０．５時間後の放電容器３０における紫外線反射膜４１が形成されている反射膜形成部分の温度Ａと、当該反射膜形成部分に隣接する、紫外線反射膜４１が形成されていない反射膜隣接アパーチャ部分の温度Ｂとを、ジャパンセンサー株式会社製の放射温度計（パイロメーター）を用い、光の放射強度を観測し、その測定値を温度変換することによって測定した。また、紫外線反射膜４１の端部４２Ａ、４２Ｂの剥落の有無を目視にて確認した。結果を表１に示す。
表１には、測定された温度Ａおよび温度Ｂに基づいて算出した、温度Ａと温度Ｂとの差も示す。
ここに、実験用装置（１）および実験用装置（２）において、温度Ａおよび温度Ｂとしては、各々、周囲環境の影響を最も受けにくく、安定した温度測定値が得られることから、放電容器３０の管軸方向中央部における紫外線反射膜４１の一方の端部４２Ａの近傍部分（具体的には、端部４２Ａからの離間距離５ｍｍ）の温度を測定した。また、実験用装置（２）においては、温度Ａの測定に際し、一方の反射板５１に穴５１Ｂを形成し、その穴５１Ｂから光の放射強度の観測を行なった。

〔実験例２〕
図１４に示すように、ランプハウス１０内に、複数（図１４の例においては３つ）のエキシマランプ２０が４０ｍｍの離間間隔で並列に配設されており、蓄熱板状体５３が設けられていないこと以外は図５に係るエキシマランプ光照射装置と同様の構成を有するエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（３）」ともいう。）と、図１５に示すように、表面５９Ａが黒アルマイト処理されてなるブロック５９よりなる２つの蓄熱部材が外部加温手段として、両端に位置するエキシマランプ２０の各々とランプハウスの側面板１１Ｂとの間に設けられていること以外は実験用装置（３）と同様の構成を有するエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（４）」ともいう。）とを作製した。

実験用装置（３）および実験用装置（４）において、ランプハウス１０およびエキシマランプ２０としては、実験例１に係る実験用装置（１）と同様の構成を有するものを用いた。
また、実験用装置（４）においては、ブロック５９として、ステンレス製であり、エキシマランプ２０の管軸方向に伸び、エキシマランプ２０の全長と同程度の全長を有し、かつエキシマランプ２０の管軸方向に垂直な断面が直角二等辺三角形状であるものを用いた。
このブロック５９は、黒アルマイト処理されてなる表面５９Ａがランプハウス１０の底面板１１Ａに対して傾斜し、かつ表面５９Ａが外側管３１の管壁を介して端部４２Ａ、４２Ｂに対向すると共に、当該表面５９Ａとエキシマランプ２０との離間距離が２５ｍｍとなるよう配設した。

作製した実験用装置（３）および実験用装置（４）の各々について、実験例１と同様の実験条件にて、中央に配置されたエキシマランプ（以下、「中央ランプ」ともいう。）２０および一方の端部に配置されたエキシマランプ（以下、「端部ランプ」ともいう。）２０の各々に係る反射膜形成部分の温度Ａと、反射膜隣接アパーチャ部分の温度Ｂとを、ジャパンセンサー株式会社製の放射温度計（パイロメーター）によって測定し、紫外線反射膜４１の端部４２Ａ、４２Ｂの剥落の有無を目視にて確認した。結果を表２に示す。
表２には、測定された温度Ａおよび温度Ｂに基づいて算出した、温度Ａと温度Ｂとの差も示す。
ここに、実験用装置（４）においては、端部ランプの温度Ａの測定に際し、一方のブロック５９に穴５９Ｂを形成し、その穴５９Ｂから光の放射強度の観測を行なった。

〔実験例３〕
図１６に示すように、ランプハウス１０内に、エキシマランプ６０が配設されており、保温膜状体５７が設けられていないこと以外は図７に係るエキシマランプ光照射装置と同様の構成を有するエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（５）」ともいう。）と、図１７に示すように、図７に示した構成を有し、保温膜状体５７よりなる保温部材が外部加温手段として設けられていること以外は実験用装置（５）と同様の構成を有するエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（６）」ともいう。）とを作製した。

実験用装置（５）および実験用装置（６）において、ランプハウス１０としては、実験例１に係る実験用装置（１）と同様の構成を有するものを用いた。
また、エキシマランプ６０としては、全長２００ｍｍであって、短辺面板７２の短手方向の長さが３４ｍｍであって短手方向の長さが１４ｍｍ、厚み２ｍｍの合成シリカガラス製の放電容器７０を備え、金ペーストよりなる格子状電極７４、７５が設けられており、放電空間Ｓ内には、放電用ガスとして３００Ｔｏｒｒのキセノンガスが封入されてなるものを用いた。このエキシマランプ６０の接地電極とされる格子状電極７４が形成されている長辺面板７１Ａ以外の内表面には、粒子径分布が０．５〜５μｍのシリカ粒子８０質量％および粒子径分布が０．５〜１μｍのアルミナ粒子２０質量％よりなる、厚み５０μｍの紫外線反射膜４１が形成されている。
そして、エキシマランプ６０は、アパーチャ部６４がランプハウス１０における光照射窓１４に対向するよう、当該光放射窓１４との離間距離が３５ｍｍの位置に設けられている。
また、実験用装置（６）においては、保温膜状体５７として、シリカ粒子焼結体が、一対の長辺面板７３Ａ、７３Ｂの外表面全面に設けられている。

作製した実験用装置（５）については、実験例１と同様の実験条件にて反射膜形成部分の温度Ａと、反射膜隣接アパーチャ部分の温度Ｂとを、ジャパンセンサー株式会社製の放射温度計（パイロメーター）によって測定し、紫外線反射膜４１の端部４２Ａ、４２Ｂの剥落の有無を目視にて確認した。また、作製した実験用装置（６）については、実験例１と同様の実験条件にて反射膜形成部分の温度Ａと、反射膜隣接アパーチャ部分の温度Ｂとを、熱電対を用いて測定し、紫外線反射膜４１の端部４２Ａ、４２Ｂの剥落の有無を目視にて確認した。結果を表３に示す。
表３には、測定された温度Ａおよび温度Ｂに基づいて算出した、温度Ａと温度Ｂとの差も示す。
ここに、実験用装置（６）においては、温度Ａおよび温度Ｂの測定は、測定対象箇所が保温膜状体５７によって遮光されるため、放射温度計（パイロメーター）を用いることができないことから、一方の保温膜状体５４の測定対象箇所に対応する部分を削り、放電容器７０の外表面に熱電対を配置することによって行なった。また、熱電対が空気に触れることによって昇温してしまうことから、配置した熱電対は保温膜状体５７と同質の被膜で覆った。

〔実験例４〕
図１８に示すように、ランプハウス１０内に、複数（図１８の例においては３つ）のエキシマランプ６０が３０ｍｍの離間間隔で並列に配設されてなる構成のエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（７）」ともいう。）と、図１９に示すように、表面５４が黒アルマイト処理されてなる蓄熱板状体５３よりなる２つの蓄熱部材が外部加温手段として、両端に位置するエキシマランプ６０の各々とランプハウスの側面板１１Ｂとの間に設けられていること以外は実験用装置（７）と同様の構成を有するエキシマランプ光照射装置（以下、「実験用装置（８）」ともいう。）とを作製した。

実験用装置（７）および実験用装置（８）において、ランプハウス１０およびエキシマランプ６０としては、実験例３に係る実験用装置（５）と同様の構成を有するものを用いた。
また、実験用装置（８）においては、蓄熱板状体５３として、ステンレス製であり、エキシマランプ６０の管軸方向に伸び、エキシマランプ６０の全長と同程度の全長を有する平板状のものを用いた。
この蓄熱板状体５３は、支持部材５３Ａにより固定されて装着されており、黒アルマイト処理されてなる表面５４がランプハウス１０の底面板１１Ａに対して傾斜し、かつ表面５４が放電容器３０の管壁を介して端部４２Ａ、４２Ｂに対向すると共に、当該表面５４とエキシマランプ６０との離間距離が２５ｍｍとなるよう配設した。

作製した実験用装置（７）および実験用装置（８）の各々について、実験例１と同様の実験条件にて、中央に配置されたエキシマランプ（中央ランプ）６０および一方の端部に配置されたエキシマランプ（端部ランプ）６０の各々に係る反射膜形成部分の温度Ａと、反射膜隣接アパーチャ部分の温度Ｂとを、ジャパンセンサー株式会社製の放射温度計（パイロメーター）によって測定し、紫外線反射膜４１の端部の剥落の有無を目視にて確認した。結果を表４に示す。
表４には、測定された温度Ａおよび温度Ｂに基づいて算出した、温度Ａと温度Ｂとの差も示す。
ここに、実験用装置（８）においては、端部ランプの温度Ａの測定に際し、蓄熱板状体５３に穴５３Ｂを形成し、その穴５３Ｂから光の放射強度の観測を行なった。

以上の実験例１〜実験例４の結果から、温度Ａと温度Ｂとの差が３０〜５５℃である場合には、紫外線反射膜の剥落が発生せず、一方、その差が６５〜７５℃である場合には、紫外線反射膜に剥落が発生することが明らかとなった。これにより、点灯状態のエキシマランプにおいて、温度Ａと温度Ｂとの差を５５℃以下とすることにより、紫外線照射膜の剥落の発生を防止できることが確認された。また、エキシマランプにおける反射膜端部対応部分の外表面を加熱する加熱手段、および保温する保温手段いずれかよりなる外部加温手段を用いることにより、温度Ａと温度Ｂとの差を５５℃以下とすることができることが確認された。
また、実験例２および実験例４の結果から、複数のエキシマランプが用いられ、それらが接近して配設される場合には、そのエキシマランプ間には外部加温手段を設ける必要がないことが確認された。

本発明のエキシマランプ光照射装置の構成の一例を示す説明用概略図である。 図１のエキシマランプ光照射装置の断面図であって、当該エキシマランプ光照射装置に備えられているエキシマランプの管軸に垂直な断面を示す説明用断面図である。 図１のエキシマランプ光照射装置に備えられているエキシマランプの構成を示す説明図である。 図３のエキシマランプの管軸に垂直な断面を示す説明用断面図である。 本発明のエキシマランプ光照射装置の構成の他の例を示し、外部加温手段として、蓄熱部材が設けられてなる構成の一例を示す説明図である。る。 本発明のエキシマランプ光照射装置の構成の他の例を示し、外部加温手段として、発熱部材が設けられてなる構成の一例を示す説明図である。す説明図である。 本発明のエキシマランプ光照射装置の構成の他の例を示し、外部加温手段として、保温部材が設けられてなる構成の一例を示す説明図である。 本発明のエキシマランプ光照射装置の構成の更に他の例を示す説明図である。 本発明のエキシマランプ光照射装置に用いられるエキシマランプの構成の他の例を示す説明用概略図である。 図９のエキシマランプの管軸方向の断面を示す説明用断面図である。 図１０のエキシマランプのＡ−Ａ線断面を示す説明用断面図である。 実験例１において用いたエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 実験例１において用いた、外部加温手段が設けられてなるエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 実験例２において用いたエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 実験例２において用いた、外部加温手段が設けられてなるエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 実験例３において用いたエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 実験例３において用いた、外部加温手段が設けられてなるエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 実験例４において用いたエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 実験例４において用いた、外部加温手段が設けられてなるエキシマランプ光照射装置の構成を示す説明図である。 エキシマランプの構成の一例を示す説明図である。 図２０のエキシマランプのＡ−Ａ線断面を示す説明用断面図である。

符号の説明

１０ ランプハウス
１１Ａ 底面板
１１Ｂ 側面板
１４ 光放射窓
１６ 支持部材
２０ エキシマランプ
２２ 電源装置
２５ アパーチャ部
３０ 放電容器
３１ 外側管
３１Ａ 外周面
３１Ｂ 内周面
３２ 内側管
３２Ａ 内周面
３２Ｂ 外周面
３３ 側壁部
３４、３５ 電極
４１ 紫外線反射膜
４２Ａ、４２Ｂ 端部
５１ 反射板
５１Ａ 支持部材
５１Ｂ 穴
５２ 反射面
５３ 蓄熱板状体
５３Ａ 支持部材
５４ 表面
５５ ハロゲンランプ
５７ 保温膜状体
５８ 外部加温手段
５９ ブロック
５９Ａ 表面
５９Ｂ 穴
６０ エキシマランプ
６４ アパーチャ部
７０ 放電容器
７１Ａ、７１Ｂ 長辺面板
７２ 短辺面板
７３Ａ、７３Ｂ 長辺面板
７４、７５ 格子状電極

Claims (8)

1. 放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器を備え、当該放電容器を形成するシリカガラスが介在する状態で一対の電極が設けられてなり、前記放電容器の放電空間内にエキシマ放電を発生させるエキシマランプを具備してなるエキシマランプ光照射装置であって、
   前記エキシマランプには、放電容器の内表面に、シリカ粒子を構成材料とする紫外線反射膜が形成されていると共に、当該放電容器の紫外線反射膜が形成されていない領域よりなるアパーチャ部が形成されており、
   開口を有する筐体よりなるランプハウス内に、当該開口にアパーチャ部が面するように配置されたエキシマランプと共に、当該エキシマランプの放電容器における、紫外線反射膜のアパーチャ部との境界を形成している端部が位置される部分を外表面側から温めるための加熱手段または保温手段が設けられていることを特徴とするエキシマランプ光照射装置。
2. 紫外線反射膜がシリカ粒子とアルミナ粒子とからなることを特徴とする請求項１に記載のエキシマランプ光照射装置。
3. ランプハウス内に複数のエキシマランプが並列に配置されており、当該複数のエキシマランプのうちの両端に配置されたエキシマランプのランプハウスの側面に面する、放電容器における紫外線反射膜の端部が位置される部分を温めるよう、加熱手段または保温手段が設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のエキシマランプ光照射装置。
4. 加熱手段がエキシマランプの管軸方向に伸びる反射面を有する反射板であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のエキシマランプ光照射装置。
5. 加熱手段が蓄熱部材であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のエキシマランプ光照射装置。
6. 加熱手段が通電加熱ヒータであることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のエキシマランプ光照射装置。
7. 保温手段が放電容器における紫外線反射膜の端部が位置される部分の外表面上に設けられた保温膜であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のエキシマランプ光照射装置。
8. エキシマランプを構成する放電容器において、紫外線反射膜が形成されている反射膜形成部分の温度と、当該反射膜形成部分に隣接する、紫外線反射膜が形成されていない反射膜隣接アパーチャ部分の温度との差が５５℃以下であることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載のエキシマランプ光照射装置。

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