JP5274531B2 - 加熱調理器 - Google Patents

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Description

本発明は、被加熱物を載置する載置台が回転駆動する加熱調理器に関する。
従来の技術においては、例えば、「調理庫を形成する内筐体と、この内筐体の側壁に懸架された上下ヒータと、この上下ヒータの間に配設された焼網とを備え、前記焼網を、焼網の側面に回転方向の力を加えて回転させるようにしたオーブントースタ。」が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平1−142330号公報(特許請求の範囲)
加熱調理器、とりわけ電子レンジに代表される高周波発振器を備えたものにおいてはその加熱ムラが課題となる。固定された金属壁からなる加熱室においては、その形状と、マイクロ波の波長により、電界分布の強弱が決まってしまい、ひいては被加熱物の温度勾配、いわゆる加熱ムラの原因となるのである。
同様の事象はヒータ加熱でも見られる。特に輻射加熱にて被加熱物を調理する場合、加熱源との距離や形態係数により加熱ムラ、焦げムラとなる。
これらの加熱ムラを解消するためには大きくは2つの方法がある。
一つは被加熱物自体を加熱源に対して移動させながら加熱すること、もう一つは被加熱物に対して、加熱源を移動させながら加熱することである。
前者は従来技術で言うところのターンテーブルであり、後者はマイクロ波を底面から給電する場合の回転アンテナである。
この2つの方式を同時に搭載可能であれば、加熱ムラに対して効力を発揮することが可能である。
また、ヒータ加熱に関しても、ターンテーブルや焼き網など(以下「載置台」ともいう。)を用いることで被加熱物を回転させることができれば、焼きムラ抑制に効果的となる。
しかし、実際には両者を両立させて使うことは困難であった。
ターンテーブル、焼き網、回転アンテナはいずれも底面に軸を持つ回転体であるため、これらを同時に構成した場合には干渉してしまう、という問題点があった。
また、上記特許文献1に記載の技術のように、焼き網のみを回転させる場合には、食品の油やカスが加熱室底面に垂れてしまい、加熱室を汚してしまう、という問題点があった。
また、マイクロ波加熱をする際には電界の局所集中等により、焼き網と駆動部分の接触部でスパークなどを起こす場合がある、という問題点があった。
また、ターンテーブルや焼き網など複数種の載置台を回転駆動する場合、調理内容などに応じて容易に載置台の種類を交換することができる加熱調理器が望まれている。
また、液体状の被加熱物を加熱する場合には、被加熱物が沸点を超えても沸騰を起こさない状態が生じ、何らかの刺激により被加熱物が急激に沸騰する突沸現象が発生する可能性がある、という問題点があった。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、加熱室の底面に載置台の回転軸を設けることなく載置台を回転駆動することができる加熱調理器を得るものである。
また、複数種の載置台を回転駆動する場合に、調理内容などに応じて容易に交換することができる加熱調理器を得るものである。
また、被加熱物が急激に沸騰する突沸現象の発生を抑制することができる加熱調理器を得るものである。
本発明に係る加熱調理器は、被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を加熱する加熱手段と、円盤状に形成され、前記被加熱物が載置される複数種の載置台と、前記複数種の載置台のうちの少なくとも1つが載置され、複数のローラーにより該載置台を支持する支持台と、前記加熱室の背面または側面に設置され、前記載置台を回転駆動する駆動手段とを備え、前記載置台の下面には、前記ローラーの軌跡上に段差が形成されたものである。
本発明は、加熱室の底面に載置台の回転軸を設けることなく載置台を回転駆動することができる。
また、複数種の載置台を回転駆動する場合に、調理内容などに応じて容易に交換することができる。
本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の本体斜視図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の要部側断面図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の要部正断面図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の概略上面図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の背面斜視図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の要部上断面図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のドア周辺の要部側断面図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の操作パネルを示す図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の制御ブロック図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のターンテーブル支持台を示す図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のターンテーブルの設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のターンテーブルおよび焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の加熱モードを説明する図である。 本発明の実施の形態2を示す加熱調理器のターンテーブルの斜視図である。 本発明の実施の形態2を示す加熱調理器のターンテーブルの設置状態を示す断面図である。
実施の形態1.
図1は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の本体斜視図である。
なお、図1以後の図では見易さを勘案し、必要に応じてケース(外装)などをとりはずした説明図となっている。
図1において、本体1の中には加熱室3が設けられている。加熱室3の前面には、開口を開閉するドア4が設けられている。使用者はドア4を開き、被加熱物2(図示せず)を加熱室3内に収納する。
また、ドア4には、ガラスなどで構成される視認窓19が設けられ、加熱室3内の被加熱物2の調理状態を確認することが可能である。
本体1の前面には、操作パネル6が設けられている。
使用者は、被加熱物2を加熱室3内に収納してドア4を閉め、この被加熱物2を加熱すべく、操作パネル6を操作して加熱を実施する。
図2は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の要部側断面図である。
図3は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の要部正断面図である。
図4は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の概略上面図である。
以下、図1〜図4を参照して説明する。
10は高周波の発振源である高周波発振器(マグネトロン)である。高周波発振器10は、高周波(マイクロ波)を発振する。例えば一般家庭などで用いられる加熱調理器では周波数約2450MHzのマイクロ波を発振する。
高周波発振器10から発振されたマイクロ波は、導波管8を介し、アンテナ11へ伝播する構造となっている。
加熱室3内の底面中央には高周波を透過する誘電体板7が設置されている。
誘電体板7は、例えばセラミックなどで構成され、加熱室3の底面板32と略平坦を保つようにして設置されている。
このような加熱室3の底面を誘電体板7により構成することで、マイクロ波による加熱は、誘電体板7の上方の加熱量が、底面板32の上方の加熱量より大きくなっている。
誘電体板7の下には加熱室3内への高周波を拡散させて効果的に伝播するアンテナ11が設置される。
アンテナ11は、電界放射を目的としており、アルミなどの良導体で製造され、中空であるアンテナシャフト部の先端に平板部を接続、あるいは一体で構成したものである。
アンテナ11は、アンテナモータ12により回転駆動される。
アンテナ11は、アンテナ室13内で回転することで、アンテナ11表面から伝播するマイクロ波の強弱や加熱室3内に起こる定在波によるマイクロ波の強弱による影響を極力排除する。これにより、アンテナ11上部に位置する被加熱物2の加熱を平準化し、ひいては加熱ムラを抑制する効果を持つ。
9は温度検知手段である。温度検知手段9は、加熱室3の壁面温度や雰囲気温度を計測する。
温度検知手段9は、例えば赤外線センサやサーミスタなど任意の検知手段を用いることができる。
誘電体板7の両側部分には、底面板32を介して、被加熱物2を下方向から加熱できるようにするための下ヒータ14が、両側それぞれに設置されている。
底面板32は、例えば金属などの誘電体板7より熱伝導性が高い材料により形成されている。
下ヒータ14は、加熱室3の底面外側に設置されたガラス管ヒータ30と、このガラス管ヒータ30を加熱室底面とともに略封止する反射板31により構成された構成となっている。
なお、「ガラス管ヒータ30」は、本発明における「ヒータ」に相当する。
下ヒータ14は、ガラス管ヒータ30からの輻射熱と、反射板31から反射される赤外線とによって加熱室3の底面が加熱され、底面の温度を上昇させることによって、被加熱物2を加熱することが可能となる。
ガラス管ヒータ30は、一般に温度上昇が早く、反射板31からの熱線反射もあいまって、加熱室3底面を効率よく加熱することが可能である。
また、誘電体板7とは区画されて設置されているため、比熱が大きいセラミックなどで構成されることが多い誘電体板7に吸熱される熱が少なくなるため、結果として被加熱物2に届く熱が大きくなる効果がある。
つまり、反射板31は、底面板32の下面とともに、ガラス管ヒータ30を囲むように形成され、ガラス管ヒータ30からの輻射熱を反射することで、マイクロ波を伝播するアンテナ室13と下ヒータ14とを区画する。これにより、下ヒータ14の加熱効率を向上させることができる。
なお、反射板31の形状はこれに限るものではない。例えば、誘電体板7とガラス管ヒータ30との間に反射板31を備え、ガラス管ヒータ30からの輻射熱を反射するようにしても良い。このような構成であっても、誘電体板7に吸熱される熱が少なくなるため、結果として被加熱物2に届く熱が大きくなる効果がある。
また、図4に示すように、誘電体板7および底面板32は、加熱室3の幅方向を短辺とする長方形状に形成されている。誘電体板7は、加熱室3の幅方向の略中央に配置されている。
このような形状とすることで、底面部材の加工が容易となり製造コストを低減することができる。また、ガラス管ヒータ30は棒状に形成されており、製造・加工コストを低減することができる。また、ガラス管ヒータ30は、底面板32の長辺方向に沿って配置されており、底面板32の全域に亘って加熱が可能となる。
また、加熱室3底面の中央に誘電体板7を設けてマイクロ波を加熱室3内に伝播させ、その両側に下ヒータ14を配置することで、マイクロ波が伝播する際の対称性を確保し易くすることができ、マイクロ波加熱にかかる電界分布の集中によるスパークや局所過熱等を低減することができる。
なお、誘電体板7および底面板32の形状、配置はこれに限るものではない。例えば、加熱室3の前後方向(奥行き方向)に、誘電体板7と底面板32とを並べて配置するようにしても良い。さらに、ガラス管ヒータ30は棒状に限定されるものではなく、円または円弧状でも良く、四角または「く」の字状でも、多角形等でも良い。
また、本実施の形態1では、誘電体板7の両側の底面板32毎にそれぞれがガラス管ヒータ30を設けたが、これに限るものではない。例えば底面板32の一方側のみ設けるようにしても良い。また、1つの底面板に対してガラス管ヒータ30を複数設けるようにしても良い。
なお、下ヒータ14の加熱に対称性がない場合であっても、被加熱物2を載置したターンテーブル50(後述)を回転駆動することで加熱ムラを低減できる。
さらに、下ヒータ14は、加熱室3の底面下に設けられているため、可動ヒータ15が上下移動した場合であっても、可動ヒータ15の移動領域と干渉しない(接触しない)ようになっている。
なお、下ヒータ14の配置位置はこれに限るものではない。加熱室3の中央より下側の領域であって、可動ヒータ15の移動領域と干渉しない位置に固定設置することができる。
また、底面板32には、底面板32が熱収縮や膨張した際の強度を増すために、加熱室3側に突き出した底面凸部38が形成されている。
底面凸部38は、角皿5を加熱室3底面に直接おく場合のガイドレールとしても利用可能である。
また、加熱室3の内壁側面の略中央には、角皿5をスライド可能に支持する角皿レール47が形成されている。
また、底面板32の加熱室3側には、効率よく加熱室3側へ熱を輻射するために、高輻射塗装が施してある。
50はターンテーブルである。ターンテーブル50は、被加熱物2が載置され、加熱動作中に回転駆動される。
これにより被加熱物2を回転しながら加熱することが可能となり、均一加熱を実施しやすくなる。
52はターンテーブル回転軸である。ターンテーブル回転軸52は、加熱室3背面から接続されているターンテーブルモータ53により回転する。
なお、「ターンテーブル回転軸52」は、本発明における「伝達手段」に相当する。
なお、「ターンテーブルモータ53」は、本発明における「駆動モータ」に相当する。
51はターンテーブル支持台である。ターンテーブル支持台51は、シリコンやPTFEなどの耐熱性の高い材料にて構成され、ターンテーブル50を支持するためのローラー54が設置されている。
このターンテーブル支持台51は加熱室3から着脱が可能に配置されている。
使用者は、調理内容等に応じて、適宜、ターンテーブル支持台51およびターンテーブル50を加熱室3内に配置または取り外して調理を行うことが可能となっている。
ターンテーブル50は、セラミックなどの高周波透過性の誘電体により形成する。これは高周波誘電加熱にもヒータ加熱にも適用可能とするためである。
ターンテーブル回転軸52の先端は、例えば傘歯車形状などの駆動力を伝達しやすい形状になっており、回転駆動力はターンテーブル50に伝えられ、回転することが可能となる。
また、ターンテーブル50の回転方向は、アンテナ11の回転方向と逆方向となるように回転駆動される。これにより、ターンテーブル50に載置された被加熱物2とアンテナ11との相対位置が常に変化することになり、アンテナ11上部に位置する被加熱物2の加熱を平準化し、ひいては加熱ムラを抑制する効果を持つ。
なお、ターンテーブル50の回転速度を、アンテナ11の回転速度と異なる速度にするようにしても良い。これによっても、ターンテーブル50に載置された被加熱物2とアンテナ11との相対位置が常に変化することになり、同様の効果を得ることができる。
一方、ターンテーブルモータ53側への接続は、加熱室3背面側に設けられたターンテーブル回転軸52のシャフト部分を挿して利用する。すなわち、加熱室3背面が、ターンテーブルモータ53と接続されたメス側、ターンテーブル回転軸52がオス側の関係となる。
本構成により、加熱室3底面にターンテーブル50を回転させるための駆動源を有する必要がなくなるため、底面給電部分、すなわち誘電体板7の部分を凹凸なく構成することが可能になる。
15は可動ヒータである。可動ヒータ15は、例えばシーズヒータにより構成する。
この可動ヒータ15は、被加熱物2を上面から加熱するための熱源である。可動ヒータ15が上下移動することにより、被加熱物2への距離を変えることが可能となる。このため、被加熱物2の焼き上がり状態を任意に変えることが可能である。
図5は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の背面斜視図である。
図6は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の要部上断面図である。
ここからは図1〜図6を参照して説明する。
可動ヒータ15は、加熱室3背面に支持部を備え、支持部を兼用するヒータ駆動板金40が上下動する構成としている。
可動ヒータの口出し部(2箇所)をヒータ駆動板金40に固定するとともに、固定したヒータ駆動板金40自体が上下動するような構造である。
本実施の形態1では、図2、図5に示すように、可動ヒータ15は、側面視クランク状で平面視蛇行状に屈曲して形成されている。
また、可動ヒータ15の平面視蛇行状部分は、側面視において加熱室3の底面と略平行となるように支持されている。
なお、可動ヒータ15の形状はこれに限るものではなく、任意の形状とすることができる。例えば側面視直線状に形成しても良い。
ヒータ駆動板金40にはラック41が固定されており、ヒータ駆動モータ43によりピニオン42が回転することでヒータ駆動板金40を直動、すなわち上下方向に動作させる。
本実施の形態1では、可動ヒータ15を加熱室3の天面近傍の位置(以下「ホームポジション」ともいう。)から、加熱室3の略中央の位置の範囲(移動領域)で移動可能に形成されている。
なお、可動ヒータ15の移動領域はこれに限るものではない。例えば加熱室3の天面近傍の位置から、加熱室3の底面近傍の位置までを移動領域としてもよい。
可動ヒータ15の口出し部には、口出し部を囲うヒータチョーク45とヒータカバー46にて、高周波漏洩を防止する袋小路構造、いわゆるチョーク構造をつくり、加熱室3内に伝播する高周波の漏洩を防止する。
加熱室3内の天面の可動ヒータ15と近接する位置には、ガイシ44が設置されている。
このガイシ44は、万が一、可動ヒータ15が変形するなどした場合にも、可動ヒータ15が加熱室3の天面に接触しないようにする絶縁スペーサとして働き、可動ヒータ15の絶縁状態を保持することが可能である。
なお、ガイシ44の設置位置はこれに限るものではない。加熱室3の天面のうち、加熱室3の天面近傍に移動された可動ヒータ15と近接する位置の少なくとも一部に、ガイシ44を設けるようすればよい。
また、図2に示すように、加熱室3の天面には、加熱室3の内側に突き出したヒータ収納段差39を設けている。
このヒータ収納段差39を設けることで、可動ヒータ15が天面近傍の位置であるホームポジションに移動した際、加熱室3の天面の奥まった位置に収納され、可動ヒータ15が使用者の手に触れる可能性を低減させることができる。
なお、ヒータ収納段差39の位置はこれに限るものではない。加熱室3の天面のうち、加熱室3の天面近傍に移動された可動ヒータ15と、加熱室3の開口との間の少なくとも一部に、加熱室3内側に突き出したヒータ収納段差39を設けるようにすればよい。
図7は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のドア周辺の要部側断面図である。
図7に示すように、ドア4にはその開閉状態を検知する開閉検知スイッチ60が設置されている。
後述する制御手段100は、開閉検知スイッチ60によりドア4の開状態を検知し、開時には、高周波発振器10や、可動ヒータ15、下ヒータ14などの加熱源への電源供給をOFFにして加熱動作を停止させる。これにより、ドア4の開状態と加熱とが両立しない安全構造となっている。
27はドアロックである。ドアロック27は、図示しない回転駆動手段により回動動作され、ドア4を閉じた状態に維持するロック状態と、ドア4を開閉可能とする解除状態とを切り換える。
なお、ドアロック27の構成はこれに限るものではない。ドア4を閉じた状態に維持するロック状態とドア4を開閉可能とする解除状態とを切り換えるものであれば良い。
後述する制御手段100は、可動ヒータ15が移動している間は、誤ってドア4が開かれないようにドアロック27をロック状態として、ドア4の開ができないようにする。
図8は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の操作パネルを示す図である。
図8に示すように、操作パネル6は、設定入力手段16と、報知手段17とを有する。
報知手段17は、加熱時間や設定温度等の表示や、各種の注意喚起の報知を行う。
この報知手段17は、例えば、液晶(LCD)や各種発光素子(LEDなど)などにより構成することができる。
なお、本実施の形態1では表示により使用者に報知する場合を説明するが、本発明はこれに限るものではない。例えば音により報知するようにしても良い。
設定入力手段16は、加熱開始や加熱時間の設定、目標加熱温度の設定などの入力操作を行う。
この設定入力手段16は、例えば、メンブレンシートを用いた接点ボタンにより構成され、使用者により接点ボタンが押下されることにより、入力操作を検知する。
また、設定入力手段16は、ヒータ上下キー21、メニュー選択キー22、清掃キー23、コンビ加熱キー24を有している。
ヒータ上下キー21は、可動ヒータ15の移動量に関する操作の入力を行う。
メニュー選択キー22は、予め設定された1または複数の調理メニューを選択する操作の入力を行う。
清掃キー23は、使用者が清掃を行う際、可動ヒータ15をホームポジションから移動させることを許可する旨の操作の入力を行う。
コンビ加熱キー24は、高周波誘電加熱とヒータ加熱の両方を用いる調理(コンビ加熱)の開始操作の入力を行う。
図9は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の制御ブロック図である。
図9に示すように、制御手段100には、設定入力手段16からの操作入力、温度検知手段9の検知結果、および開閉検知スイッチ60の検知結果が入力される。
また、制御手段100は、高周波発振器10、アンテナモータ12、ターンテーブルモータ53、可動ヒータ15、ガラス管ヒータ30、ドアロック27、ヒータ駆動モータ43、および、報知手段17をそれぞれ制御する。
記憶手段110は、1または複数の調理メニューと、この調理メニューに応じた可動ヒータ15の位置に関する情報が記憶されている。
制御手段100は、設定入力手段16からの入力操作により、高周波発振器10、下ヒータ14のガラス管ヒータ30、および可動ヒータ15の何れかまたは全てを動作させる。
また、各加熱源の動作状態等に応じて、アンテナモータ12の駆動やターンテーブルモータ53の駆動を行う。
また、ヒータ駆動モータ43を駆動させて、可動ヒータ15を移動させる。
次に、ターンテーブル支持台51の構成と、被加熱物2が載置されるターンテーブル50や焼き網55などの複数種の載置台の設置方法について説明する。
本実施の形態1においては、皿状に形成されたターンテーブル50や、格子状に穴を設けた焼き網55など、円盤状に形成され、被加熱物2が載置される複数種の載置台を備えている。
そして、これら複数種の載置台のうちの少なくとも1つが、ターンテーブル支持台51に載置され、ターンテーブル回転軸52からの回転駆動力によって回転駆動される。
以下、詳細を説明する。
図10は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のターンテーブル支持台を示す図である。
図10(a)はターンテーブル支持台51の斜視図である。
図10(b)はターンテーブル支持台51の側断面図である。
ターンテーブル支持台51には、複数のローラー54が円周状に配置されている。また、ローラー54が配置される円周と略同一円周上には、ターンテーブル回転軸52が配置されている。
さらに、ローラー54およびターンテーブル回転軸52の配置位置より中心側に、円形の開口51aが形成されている。
なお、本実施の形態1では、ローラー54が車輪形状の場合を説明するが、本発明はこれに限るものではない。例えば、ボール状のローラー等任意の形状のものを用いることができる。
図11は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のターンテーブルの設置方法を示す図である。
図11(a)はターンテーブル支持台51およびターンテーブル50の斜視図を示している。
図11(b)はターンテーブル支持台51上にターンテーブル50を設置した状態での斜視図である。
図11(c)はターンテーブル支持台51上にターンテーブル50を設置した状態での側断面図である。
ターンテーブル支持台51は、円周状に配置された複数のローラー54によりターンテーブル50を支持する。
そして、加熱室3の背面または側面に設置されたターンテーブルモータ53が回転駆動すると、これに接続されたターンテーブル回転軸52が回転し、ローラー54上に置かれたターンテーブル50に駆動力が伝えられる。
ターンテーブル50は回転可能なローラー54としか接触していないため、駆動力を与えられることでスムースに回転する。
なおターンテーブル50上には被加熱物2が設置され、加熱に供される。
図12は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器のターンテーブルおよび焼き網の設置方法を示す図である。
図12(a)はターンテーブル支持台51、ターンテーブル50および焼き網55の斜視図を示している。
図12(b)はターンテーブル支持台51上にターンテーブル50および焼き網55を設置した状態での斜視図である。
図12(c)はターンテーブル支持台51上にターンテーブル50および焼き網55を設置した状態での側断面図である。
図12(a)〜(c)において、55は焼き網であり、主に、下ヒータ14や可動ヒータ15を用いた調理で使用される。
ここでは、ターンテーブル50上に焼き網55が載置され、該焼き網55に被加熱物2が載置される構成を示している。
この構成では、焼き網55上に置かれた被加熱物から垂れる油や食品カスなどをターンテーブル50で受けることが可能である。
図13は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。
図13(a)はターンテーブル支持台51および焼き網55の斜視図を示している。
図13(b)はターンテーブル支持台51上に焼き網55を設置した状態での斜視図である。
図13(c)はターンテーブル支持台51上に焼き網55を設置した状態での側断面図である。
ターンテーブル支持台51は、円周状に配置された複数のローラー54により焼き網55を支持する。
そして、加熱室3の背面または側面に設置されたターンテーブルモータ53が回転駆動すると、これに接続されたターンテーブル回転軸52が回転し、ローラー54上に置かれた焼き網55に駆動力が伝えられる。
焼き網55は回転可能なローラー54としか接触していないため、駆動力を与えられることでスムースに回転する。
また、図13(c)に示すように、焼き網55の端部の折り返しをローラー54の近くまで伸ばし、この折り返し部分とローラー54との遊びを極力少なくすることにより、ローラー54から焼き網55がずれることを防止している。
なお焼き網55上には被加熱物2が設置され、加熱に供される。
このように、ターンテーブル支持台51に載置する載置台を取り替え可能に構成することで、調理内容に応じた載置台を使用することができる。
なお、図13(c)の例では、焼き網55の端部の折り返しをローラー54の近くまで伸ばすことで、焼き網55のずれを防止する構成としているが、本発明はこれに限るものではない。例えば、焼き網55の中心に回転軸を設けて、焼き網55のずれを防止するようにしても良い。また、焼き網55の裏側に、開口51aの淵またはローラー54の内側を案内とする突部を設けて、焼き網55のずれを防止するようにしても良い。
図14は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。
図14(a)はターンテーブル支持台51および焼き網55の斜視図を示している。
図14(b)はターンテーブル支持台51の円形の開口51aに焼き網55を設置した状態での斜視図である。
図14(c)はターンテーブル支持台51の円形の開口51aに焼き網55を設置した状態での側断面図である。
この例では、焼き網55をターンテーブル支持台51上のターンテーブル回転軸52の駆動力を得ない位置に設置する方式である。焼き網55は、円形の開口51aと略同形状に形成されている。
この場合、被加熱物2の特定部分に対して、下ヒータ14からの輻射加熱の効率を高めることが可能となり、例えば焦げ目を早くつけたい場合には有効となる。
図15は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。
図15(a)はターンテーブル支持台51および焼き網55の斜視図を示している。
図15(b)はターンテーブル支持台51上に焼き網55を設置した状態での斜視図である。
図15(c)はターンテーブル支持台51上に焼き網55を設置した状態での側断面図である。
この例では、焼き網55の外周に、高周波透過性の材料により形成され、円環形状のアタッチメント56を設けている。
例えば、図14の焼き網55に、ターンテーブル回転軸52の駆動力得ることができるアタッチメント56を設置した方式である。
アタッチメント56は直径を焼き網55より大きくした中空形状の円形板に形成されている。
アタッチメント56は、セラミックや、高耐熱樹脂(例えば、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS)等)の誘電体により構成されている。
焼き網55は、例えば金属により構成されるが、この焼き網55を高周波誘電加熱で使用した場合、焼き網55の端部では電界の局所集中が発生し、スパークが発生し易くなる。
そこで、例えばセラミックなどの高周波透過性の材料により形成されたアタッチメント56を装着することで、焼き網55を高周波誘電加熱で使用した場合であっても、電界の局所集中によるスパークを起こし難くすることができる。
なお、アタッチメント56の端部をR処理することで、より電界の局所集中を軽減できる。
アタッチメント56が装着された焼き網55は、ターンテーブル支持台51に載置され、ターンテーブル回転軸52からの駆動力により回転駆動される。
これにより、焼き網55上に設置された被加熱物2を回転しながらムラなく焼成することが可能である。
また、回転しているために、下ヒータ14から受ける熱も平準化される効果がある。
図11〜図15に示した方式はいずれにおいても、ターンテーブル50は、セラミック製で高周波透過性は有するが熱容量が大きいために高周波加熱には有効であるが、ヒータ加熱では時間がかかってしまうデメリットがある。
一方、焼き網55は、開口部を多数有する金属で構成されるため、開口部を抜けるヒータの輻射は効率よく受けられるメリットがあるが、高周波が反射しやすかったり、食品カスや油などが下に垂れてしまったりするというデメリットがある。
このため、使用者の利便性や個々のメニューに適した加熱形態によって、適宜使い分けて使用することが可能となる。
なお、本実施の形態1では、載置台の例として、皿状のターンテーブル50と、格子状に穴を設けた焼き網55を説明したが、本発明はこれに限るものではない。底面が円盤状に形成されたものであれば任意のものを載置台として使用することができる。
なお、ターンテーブル50や焼き網55(アタッチメント56を含む)などの載置台の下面のうち、当該載置台が回転駆動される際のローラー54の軌跡上に、小さな段差(図示せず)を形成するようにしても良い。
このような段差を形成することで、載置台が回転駆動されてローラー54が段差を通過する際に、載置台に微振動を与えることができる。
このような微振動を与えながら加熱を行うことで、液体状の被加熱物2が、沸点を超えても沸騰を起こさない状態が生じ、被加熱物が急激に沸騰する突沸現象の発生を抑制することができる。
図16は本発明の実施の形態1を示す加熱調理器の加熱モードを説明する図である。
図16(a)は均一加熱モード時の被加熱物2の加熱状態を示す図である。
図16(b)は集中加熱モード時の被加熱物2の加熱状態を示す図である。
次に、ターンテーブル50や焼き網55を使用して、被加熱物2の加熱ムラを抑制することができる加熱(均一加熱モード)と、ターンテーブル50や焼き網55を使用せず、加熱時間を短くすることができる加熱(集中加熱モード)とについて説明する。
[均一加熱モード]
上述したように、アンテナ11は、アンテナ室13内で回転することで、均一加熱効果を有している。また、上記図4で示したように、本実施の形態のアンテナ室13(誘電体板7)は奥行方向に長い略直方体形状となっている。
このような構成により、アンテナ室13直上部分にマイクロ波による加熱が集中しやすい構造となっている。つまり、マイクロ波による加熱は、誘電体板7の上方の加熱量が、底面板32の上方の加熱量より大きくなっている。
さらに、下ヒータ14も奥行き方向に長い形状となっており、底面板32の下に配置されるガラス管ヒータ30は棒状に形成されているため、被加熱物2に加熱ムラが生じやすい構成となっている。
そこで、均一加熱モードにおいては、図16(a)に示すように、加熱室3内にターンテーブル支持台51およびターンテーブル50(または焼き網55)を配置して加熱を行う。
このように、ターンテーブル50はこの集中加熱を緩和する効果を有する。
ターンテーブル50に乗せられた被加熱物2は回転することにより、加熱ムラ抑制効果、すなわち均一加熱効果を高めることが可能となる。
なお、アンテナ11の回転方向、回転数はターンテーブル50の回転方向、回転数を変えることでさまざまな高周波分布を加熱室3内につくることが可能となるため、さらに均一加熱効果を有することが可能となる。
[集中加熱モード]
一方、使用者または被加熱物2によっては、それほど高いレベルの均一加熱を必要とせず、多少の加熱ムラは許容しても短時間で集中加熱をしたいという要望もある。
その際には、図16(b)に示すように、ターンテーブル支持台51およびターンテーブル50(焼き網55を含む)を取り外し、誘電体板7の上に直接、被加熱物2を設置して加熱を行う。
これにより、加熱室3中央部の限られた領域にアンテナ室13を設置してあることと、マイクロ波吸収要素であるターンテーブル50に吸収されるロスを軽減する効果があいまって、効果的かつ中央部への集中加熱をすることが可能となる。
このように、ターンテーブル50を加熱室3から着脱可能に配置し、高周波による加熱は、誘電体板7の上方の加熱量が、底面板32の上方の加熱量より大きくなる構成としているので、均一加熱モードと集中加熱モードとを、それぞれ用途に応じて利用することが可能である。
以上のように本実施の形態においては、被加熱物2を収納する加熱室3と、被加熱物2を加熱する加熱手段と、円盤状に形成され、被加熱物2が載置される複数種の載置台と、複数種の載置台のうちの少なくとも1つが載置され、複数のローラー54により該載置台を支持するターンテーブル支持台51と、加熱室3の背面または側面に設置され、載置台を回転駆動する駆動手段とを備えている。
このため、加熱室3の底面に載置台の回転軸を設けることなく載置台を回転駆動することができる。
また、複数種の載置台のうちの任意の種類の載置台をターンテーブル支持台51に載置することで、回転駆動が可能となり、調理内容などに応じて容易に載置台の種類を交換することができる。
また、載置台は回転可能なローラー54に支持されているため、駆動力を与えられることでスムースに回転する。
また、加熱室3の背面または側面に設置されたターンテーブルモータ53と、ターンテーブル支持台51に配置され、ターンテーブルモータ53からの駆動力を載置台へ伝達するターンテーブル回転軸52とを備えている。
このため、加熱室3の底面に載置台の回転軸を設けることなく載置台を回転駆動することができる。
また、加熱室3の背面または側面に設置されたターンテーブルモータ53が回転駆動すると、これに接続されたターンテーブル回転軸52が回転し、ローラー54上に置かれた載置台に駆動力が伝えられる。
また、加熱室3の下側から被加熱物2を加熱するガラス管ヒータ30を有し、ターンテーブル支持台51は、加熱室3の底面に設けられ、ローラー54およびターンテーブル回転軸52の配置位置より中心側に、円形の開口が形成され、複数種の載置台のうちの1つは、格子状に穴を設け、円形の開口と略同形状の焼き網55により構成されている。
このため、被加熱物2の特定部分に対して、下ヒータ14からの輻射加熱の効率を高めることが可能となり、例えば焦げ目を早くつけたい場合には有効となる。
また、被加熱物2を加熱するための高周波を発振する高周波発振器10と、高周波発振器10から発振された高周波を加熱室3に導く導波管8とを有し、載置台は、格子状に穴を設けた焼き網55により構成され、焼き網55の外周に、高周波透過性の材料により形成され、円環形状のアタッチメント56を設けている。
このため、高周波誘電加熱で焼き網55を使用した場合であっても、電界の局所集中によるスパークを起こし難くすることができる。
また、複数種の載置台は、少なくとも、皿状に形成されたターンテーブル50と、格子状に穴を設けた焼き網55とにより構成され、ターンテーブル50上に焼き網55が載置され、該焼き網55に被加熱物2が載置される。
このため、焼き網55上に置かれた被加熱物から垂れる油や食品カスなどをターンテーブル50で受けることが可能である。
また、載置台の下面には、ローラー54の軌跡上に段差が形成されている。
このため、被加熱物に微振動を与えながら加熱を行うことができ、被加熱物が急激に沸騰する突沸現象の発生を抑制することができる。
実施の形態2.
図17は本発明の実施の形態2を示す加熱調理器のターンテーブルの斜視図である。
図18は本発明の実施の形態2を示す加熱調理器のターンテーブルの設置状態を示す断面図である。
図17に示すように、本実施の形態2では、ターンテーブル50の下面側に複数のローラー54が円周状に配置されている。
図18に示すように、このターンテーブル50は、加熱室3の底面に載置される。
ターンテーブルモータ53は、加熱室3の背面または側面に設置されている。
ターンテーブル回転軸52は、ターンテーブルモータ53に接続され、ターンテーブルモータ53からの駆動力をターンテーブル50へ伝達する。
このような構成により、ターンテーブル支持台51などの付属部品が不要となり、未使用時の付属品の収納スペースが削減可能となる。
また、加熱室3底面には、ローラー54の軌跡上またはその近傍に沿って突起または凹み形状のガイド57が形成されている。
これにより、安定した回転を与えることが可能である。
なお、本実施の形態2においても、ターンテーブル50に加え、焼き網55や、アタッチメント56を装着した焼き網55など、複数種の載置台を設けることができる。
この場合においても、各載置台の底面側に複数のローラー54を設けることで、同様の構成とすることができる。
なお、加熱室3の底面のうち、載置台が回転駆動される際のローラー54の軌跡上に、小さな段差(図示せず)を形成するようにしても良い。
このような段差を形成することで、載置台が回転駆動されてローラー54が段差を通過する際に、載置台に微振動を与えることができる。
このような微振動を与えながら加熱を行うことで、液体状の被加熱物2が、沸点を超えても沸騰を起こさない状態が生じ、被加熱物が急激に沸騰する突沸現象の発生を抑制することができる。
なお、上記の説明では、複数の載置台を備える場合を説明したが本発明はこれに限るものではなく、1種類の載置台のみを用いるようにしても良い。
以上のように本実施の形態においては、複数種の載置台は、下面側に複数のローラー54が配置され、複数種の載置台のうちの何れかが加熱室3の底面に載置され、駆動手段により回転駆動される。
このため、上記実施の形態1の効果に加え、ターンテーブル支持台51などの付属部品が不要となり、未使用時の付属品の収納スペースが削減可能となる。
また、加熱室3底面には、ローラー54の軌跡上またはその近傍に沿って突起または凹み形状のガイド57が形成されている。
このため、載置台を安定して回転駆動することができる。
また、加熱室3底面には、ローラー54の軌跡上に段差が形成されている。
このため、被加熱物に微振動を与えながら加熱を行うことができ、被加熱物が急激に沸騰する突沸現象の発生を抑制することができる。
1 本体、2 被加熱物、3 加熱室、4 ドア、5 角皿、6 操作パネル、7 誘電体板、8 導波管、9 温度検知手段、10 高周波発振器、11 アンテナ、12 アンテナモータ、13 アンテナ室、14 下ヒータ、15 可動ヒータ、16 設定入力手段、17 報知手段、19 視認窓、21 ヒータ上下キー、22 メニュー選択キー、23 清掃キー、24 コンビ加熱キー、27 ドアロック、30 ガラス管ヒータ、31 反射板、32 底面板、38 底面凸部、39 ヒータ収納段差、40 ヒータ駆動板金、41 ラック、42 ピニオン、43 ヒータ駆動モータ、44 ガイシ、45 ヒータチョーク、46 ヒータカバー、47 角皿レール、50 ターンテーブル、51 ターンテーブル支持台、51a 開口、52 ターンテーブル回転軸、53 ターンテーブルモータ、54 ローラー、55 焼き網、56 アタッチメント、57 ガイド、60 開閉検知スイッチ、100 制御手段、110 記憶手段。

Claims (10)

  1. 被加熱物を収納する加熱室と、
    前記被加熱物を加熱する加熱手段と、
    円盤状に形成され、前記被加熱物が載置される複数種の載置台と、
    前記複数種の載置台のうちの少なくとも1つが載置され、複数のローラーにより該載置台を支持する支持台と、
    前記加熱室の背面または側面に設置され、前記載置台を回転駆動する駆動手段と
    を備え
    前記載置台の下面には、前記ローラーの軌跡上に段差が形成された
    ことを特徴とする加熱調理器。
  2. 前記駆動手段は、
    前記加熱室の背面または側面に設置された駆動モータと、
    前記支持台に配置され、前記駆動モータからの駆動力を前記載置台へ伝達する伝達手段と
    を備えたことを特徴とする請求項1記載の加熱調理器。
  3. 前記加熱手段は、
    前記加熱室の下側から前記被加熱物を加熱するヒータを有し、
    前記支持台は、
    前記加熱室の底面に設けられ、前記ローラーおよび前記伝達手段の配置位置より中心側に、円形の開口が形成され、
    前記複数種の載置台のうちの1つは、
    格子状に穴を設け、前記円形の開口と略同形状の焼き網により構成された
    ことを特徴とする請求項2記載の加熱調理器。
  4. 被加熱物を収納する加熱室と、
    前記被加熱物を加熱する加熱手段と、
    円盤状に形成され、前記被加熱物が載置される複数種の載置台と、
    前記加熱室の背面または側面に設置され、前記載置台を回転駆動する駆動手段と
    を備え、
    前記複数種の載置台は、下面側に複数のローラーが配置され、
    前記複数種の載置台のうちの何れかが前記加熱室の底面に載置され、前記駆動手段により回転駆動され
    前記加熱室底面には、前記ローラーの軌跡上に段差が形成された
    ことを特徴とする加熱調理器。
  5. 前記駆動手段は、
    前記加熱室の背面または側面に設置された駆動モータと、
    前記駆動モータに接続され、前記駆動モータからの駆動力を前記載置台へ伝達する伝達手段と
    を備えたことを特徴とする請求項記載の加熱調理器。
  6. 前記加熱室底面には、前記ローラーの軌跡上またはその近傍に沿って突起または凹みが形成された
    ことを特徴とする請求項4または5記載の加熱調理器。
  7. 被加熱物を収納する加熱室と、
    前記被加熱物を加熱する加熱手段と、
    円盤状に形成され、前記被加熱物が載置される複数種の載置台と、
    前記複数種の載置台のうちの少なくとも1つが載置され、複数のローラーにより該載置台を支持する支持台と、
    前記加熱室の背面または側面に設置され、前記載置台を回転駆動する駆動手段と
    を備え、
    前記加熱手段は、
    前記被加熱物を加熱するための高周波を発振する高周波発振器と、
    前記高周波発振器から発振された高周波を前記加熱室に導く導波管と
    を有し、
    前記載置台は、格子状に穴を設けた金属製の焼き網により構成され、
    前記焼き網の外周に、高周波透過性の材料により形成され、円環形状のアタッチメントを設けた
    ことを特徴とする加熱調理器。
  8. 被加熱物を収納する加熱室と、
    前記被加熱物を加熱する加熱手段と、
    円盤状に形成され、前記被加熱物が載置される複数種の載置台と、
    前記加熱室の背面または側面に設置され、前記載置台を回転駆動する駆動手段と
    を備え、
    前記加熱手段は、
    前記被加熱物を加熱するための高周波を発振する高周波発振器と、
    前記高周波発振器から発振された高周波を前記加熱室に導く導波管と
    を有し、
    前記複数種の載置台は、下面側に複数のローラーが配置され、
    前記複数種の載置台のうちの何れかが前記加熱室の底面に載置され、前記駆動手段により回転駆動され、
    前記載置台のうちの1つは、格子状に穴を設けた金属製の焼き網により構成され、
    前記焼き網の外周に、高周波透過性の材料により形成され、円環形状のアタッチメントを設けた
    ことを特徴とする加熱調理器。
  9. 前記アタッチメントは、誘電体により形成された
    ことを特徴とする請求項7または8記載の加熱調理器。
  10. 前記複数種の載置台は、
    少なくとも、皿状に形成されたターンテーブルと、格子状に穴を設けた焼き網とにより構成され、
    前記ターンテーブル上に前記焼き網が載置され、該焼き網に前記被加熱物が載置される
    ことを特徴とする請求項1〜の何れか1項に記載の加熱調理器。
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