JP5334939B2 - 加熱調理器 - Google Patents

Description

本発明は、高周波発振器を備えた加熱調理器に関する。

従来の技術においては、例えば、「マイクロ波エネルギー源（２）と、奥の壁面（４）と、天井の壁面（５）と、底の壁面（６）と、２枚の側面（７）と（８）によって限定された調理室内に出口が開口しているマイクロ波導波管（３）と、調理される食品を入れるための、調理室外に配置された制御手段（２３）によって回転駆動される、調理室内の回転装置（Ｒ）とから成る調理電子オーブンにおいて、回転装置（Ｒ）が調理室内に取り外し自在に取り付けられ、重ねられて、距離ｄだけ互いに離された、上部（９）と下部（１０）の回転皿と呼ばれる、少なくとも２枚の回転皿（９；１０）を備え、マイクロ波導波管（３）の出口が２枚の皿（９；１０）上のマイクロ波の良好な分布を助長するのに適していることを特徴とする調理用電子オーブン。」が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特表平１１−５１１５８６号公報（請求項１）

加熱調理器、とりわけ電子レンジに代表される高周波発振器を備えたものにおいてはその加熱ムラが課題となる。固定された金属壁からなる加熱室においては、その形状と、マイクロ波の波長により、電界分布の強弱が決まってしまい、ひいては被加熱物の温度勾配、いわゆる加熱ムラの原因となるのである。

同様の事象はヒータ加熱でも見られる。特に輻射加熱にて被加熱物を調理する場合、加熱源との距離や形態係数により加熱ムラ、焦げムラとなる。
従来、これらの加熱ムラを解消するため、ターンテーブルを用いて、被加熱物自体を加熱源に対して移動させながら加熱することが知られている。

しかしながら、ターンテーブルは底面に軸を持つ回転体であるため、マイクロ波加熱とヒータ加熱との加熱源をそれぞれ加熱室の底面に配置した場合、これらの加熱源の配置位置が制限される、という問題点があった。
また、加熱室の底面上に、例えば回転軸などのターンテーブルを回転させるための構成が配置されることになり、底面に凹凸が形成され、ターンテーブルを使用しない調理の場合に邪魔になる、という問題点があった。

一方、マイクロ波の電界分布の強弱による影響を低減させるために、マイクロ波を給電するアンテナを回転駆動させることが知られている。
このようなアンテナの回転駆動と、上述のターンテーブルによる被加熱物の駆動とを同時に実施することが可能であれば、加熱ムラをより低減する効果を発揮することが可能である。
しかしながら、マイクロ波を底面から給電するアンテナを回転駆動させる場合、ターンテーブルもアンテナも底面に軸を持つ回転体であるため、同時に搭載した場合には干渉してしまう、という問題点があった。

また、マイクロ波の加熱源を加熱室の底面に配置する場合、加熱室の底面を誘電体などのマイクロ波が透過可能な材料で構成する必要がある。
このため、マイクロ波加熱とヒータ加熱との加熱源をそれぞれ加熱室の底面に配置した場合、ヒータの熱の一部が加熱室底面の誘電体で吸熱されて被加熱物へ届く熱が減少してしまう、という問題点があった。

また、使用者によっては、それほど高いレベルの均一加熱を必要とせず、多少の加熱ムラは許容しても短時間で集中加熱をしたいという要望もある。
このため、被加熱物の加熱ムラを抑制することができる加熱と、加熱時間を短くすることができる加熱とを選択的に行うことができる加熱調理器が望まれている。

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、マイクロ波加熱とヒータ加熱との加熱源をそれぞれ加熱室の底面に配置して、ターンテーブルを搭載する場合であっても、加熱源の配置位置が制限されることがない加熱調理器を得るものである。
また、回転駆動するアンテナとターンテーブルとを同時に搭載することができる加熱調理器を得るものである。
また、被加熱物の加熱ムラを抑制することができる加熱と、加熱時間を短くすることができる加熱とを選択的に行うことができる加熱調理器を得るものである。

本発明に係る加熱調理器は、被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱物を加熱するための高周波を発振する高周波発振器と、前記加熱室の下方に接続され、前記高周波発振器から発振された高周波を前記加熱室に導く導波管と、前記加熱室の下方に配置され、前記加熱室の下側から前記被加熱物を加熱するヒータと、前記加熱室内に回転可能に配置され、前記被加熱物が載置されるターンテーブルと、前記加熱室の背面または側面に設置され、前記ターンテーブルを回転駆動する駆動手段とを備え、前記ターンテーブルは、前記加熱室から着脱可能に配置され、前記加熱室の底面は、誘電体により形成され、前記加熱室の幅方向の略中央に配置された第１の底面と、前記第１の底面より熱伝導性が高い材料により形成され、前記第１の底面の両側に並んで配置された第２の底面とにより構成され、前記第１の底面および前記第２の底面は、前記加熱室の幅方向を短辺とする長方形状に形成され、前記導波管は、前記第１の底面の下方に前記高周波を伝播させ、前記ヒータは、前記第２の底面毎にそれぞれ設けられ、前記第２の底面の下方に、前記第２の底面の長辺方向に沿って配置され、前記第２の底面は、前記加熱室側に突き出したリブが、前記ヒータと対向する位置に形成され、前記リブは、前記被加熱物が載置される載置台を前記加熱室底面に直接置く場合のガイドレールとして機能するものである。

本発明は、マイクロ波加熱とヒータ加熱との加熱源をそれぞれ加熱室の底面に配置して、ターンテーブルを搭載する場合であっても、加熱源の配置位置が制限されることがない。

本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の本体斜視図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の要部側断面図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の要部正断面図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の概略上面図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の背面斜視図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の要部上断面図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のドア周辺の要部側断面図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の操作パネルを示す図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の制御ブロック図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のターンテーブル支持台を示す図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のターンテーブルの設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のターンテーブルおよび焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。 本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の加熱モードを説明する図である。

実施の形態１．
図１は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の本体斜視図である。
なお、図１以後の図では見易さを勘案し、必要に応じてケース（外装）などをとりはずした説明図となっている。

図１において、本体１の中には加熱室３が設けられている。加熱室３の前面には、開口を開閉するドア４が設けられている。使用者はドア４を開き、被加熱物２（図示せず）を加熱室３内に収納する。
また、ドア４には、ガラスなどで構成される視認窓１９が設けられ、加熱室３内の被加熱物２の調理状態を確認することが可能である。

本体１の前面には、操作パネル６が設けられている。
使用者は、被加熱物２を加熱室３内に収納してドア４を閉め、この被加熱物２を加熱すべく、操作パネル６を操作して加熱を実施する。

図２は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の要部側断面図である。
図３は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の要部正断面図である。
図４は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の概略上面図である。
以下、図１〜図４を参照して説明する。

１０は高周波の発振源である高周波発振器（マグネトロン）である。高周波発振器１０は、高周波（マイクロ波）を発振する。例えば一般家庭などで用いられる加熱調理器では周波数約２４５０ＭＨｚのマイクロ波を発振する。
高周波発振器１０から発振されたマイクロ波は、導波管８を介し、アンテナ１１へ伝播する構造となっている。

加熱室３内の底面中央には高周波を透過する誘電体板７が設置されている。
誘電体板７は、例えばセラミックなどで構成され、加熱室３の底面板３２と略平坦を保つようにして設置されている。
このような加熱室３の底面を誘電体板７により構成することで、マイクロ波による加熱は、誘電体板７の上方の加熱量が、底面板３２の上方の加熱量より大きくなっている。
なお、「誘電体板７」は、本発明における「第１の底面」に相当する。
なお、「底面板３２」は、本発明における「第２の底面」に相当する。

誘電体板７の下には加熱室３内への高周波を拡散させて効果的に伝播するアンテナ１１が設置される。
アンテナ１１は、電界放射を目的としており、アルミなどの良導体で製造され、中空であるアンテナシャフト部の先端に平板部を接続、あるいは一体で構成したものである。

アンテナ１１は、アンテナモータ１２により回転駆動される。
アンテナ１１は、アンテナ室１３内で回転することで、アンテナ１１表面から伝播するマイクロ波の強弱や加熱室３内に起こる定在波によるマイクロ波の強弱による影響を極力排除する。これにより、アンテナ１１上部に位置する被加熱物２の加熱を平準化し、ひいては加熱ムラを抑制する効果を持つ。
なお、「アンテナモータ１２」は、本発明における「アンテナ駆動手段」に相当する。

９は温度検知手段である。温度検知手段９は、加熱室３の壁面温度や雰囲気温度を計測する。
温度検知手段９は、例えば赤外線センサやサーミスタなど任意の検知手段を用いることができる。

誘電体板７の両側部分には、底面板３２を介して、被加熱物２を下方向から加熱できるようにするための下ヒータ１４が、両側それぞれに設置されている。
底面板３２は、例えば金属などの誘電体板７より熱伝導性が高い材料により形成されている。

下ヒータ１４は、加熱室３の底面外側に設置されたガラス管ヒータ３０と、このガラス管ヒータ３０を加熱室底面とともに略封止する反射板３１により構成された構成となっている。
なお、「ガラス管ヒータ３０」は、本発明における「ヒータ」に相当する。
なお、「反射板３１」は、本発明における「反射部材」に相当する。

下ヒータ１４は、ガラス管ヒータ３０からの輻射熱と、反射板３１から反射される赤外線とによって加熱室３の底面が加熱され、底面の温度を上昇させることによって、被加熱物２を加熱することが可能となる。
ガラス管ヒータ３０は、一般に温度上昇が早く、反射板３１からの熱線反射もあいまって、加熱室３底面を効率よく加熱することが可能である。
また、誘電体板７とは区画されて設置されているため、比熱が大きいセラミックなどで構成されることが多い誘電体板７に吸熱される熱が少なくなるため、結果として被加熱物２に届く熱が大きくなる効果がある。

つまり、反射板３１は、底面板３２の下面とともに、ガラス管ヒータ３０を囲むように形成され、ガラス管ヒータ３０からの輻射熱を反射することで、マイクロ波を伝播するアンテナ室１３と下ヒータ１４とを区画する。これにより、下ヒータ１４の加熱効率を向上させることができる。
なお、反射板３１の形状はこれに限るものではない。例えば、誘電体板７とガラス管ヒータ３０との間に反射板３１を備え、ガラス管ヒータ３０からの輻射熱を反射するようにしても良い。このような構成であっても、誘電体板７に吸熱される熱が少なくなるため、結果として被加熱物２に届く熱が大きくなる効果がある。

また、図４に示すように、誘電体板７および底面板３２は、加熱室３の幅方向を短辺とする長方形状に形成されている。誘電体板７は、加熱室３の幅方向の略中央に配置されている。
このような形状とすることで、底面部材の加工が容易となり製造コストを低減することができる。また、ガラス管ヒータ３０は棒状に形成されており、製造・加工コストを低減することができる。また、ガラス管ヒータ３０は、底面板３２の長辺方向に沿って配置されており、底面板３２の全域に亘って加熱が可能となる。
また、加熱室３底面の中央に誘電体板７を設けてマイクロ波を加熱室３内に伝播させ、その両側に下ヒータ１４を配置することで、マイクロ波が伝播する際の対称性を確保し易くすることができ、マイクロ波加熱にかかる電界分布の集中によるスパークや局所過熱等を低減することができる。

なお、誘電体板７および底面板３２の形状、配置はこれに限るものではない。例えば、加熱室３の前後方向（奥行き方向）に、誘電体板７と底面板３２とを並べて配置するようにしても良い。さらに、ガラス管ヒータ３０は棒状に限定されるものではなく、円または円弧状でも良く、四角または「く」の字状でも、多角形等でも良い。
また、本実施の形態１では、誘電体板７の両側の底面板３２毎にそれぞれがガラス管ヒータ３０を設けたが、これに限るものではない。例えば底面板３２の一方側のみ設けるようにしても良い。また、１つの底面板に対してガラス管ヒータ３０を複数設けるようにしても良い。
なお、下ヒータ１４の加熱に対称性がない場合であっても、被加熱物２を載置したターンテーブル５０（後述）を回転駆動することで加熱ムラを低減できる。

さらに、下ヒータ１４は、加熱室３の底面下に設けられているため、可動ヒータ１５が上下移動した場合であっても、可動ヒータ１５の移動領域と干渉しない（接触しない）ようになっている。
なお、下ヒータ１４の配置位置はこれに限るものではない。加熱室３の中央より下側の領域であって、可動ヒータ１５の移動領域と干渉しない位置に固定設置することができる。

また、底面板３２には、底面板３２が熱収縮や膨張した際の強度を増すために、加熱室３側に突き出した底面凸部３８が形成されている。
底面凸部３８は、角皿５を加熱室３底面に直接おく場合のガイドレールとしても利用可能である。
なお、「底面凸部３８」は、本発明における「リブ」に相当する。

また、加熱室３の内壁側面の略中央には、角皿５をスライド可能に支持する角皿レール４７が形成されている。
また、底面板３２の加熱室３側には、効率よく加熱室３側へ熱を輻射するために、高輻射塗装が施してある。

５０はターンテーブルである。ターンテーブル５０は、被加熱物２が載置され、加熱動作中に回転駆動される。
これにより被加熱物２を回転しながら加熱することが可能となり、均一加熱を実施しやすくなる。

５２はターンテーブル回転軸である。ターンテーブル回転軸５２は、加熱室３背面から接続されているターンテーブルモータ５３により回転する。
なお、「ターンテーブル回転軸５２」および「ターンテーブルモータ５３」は、本発明における「駆動手段」に相当する。

５１はターンテーブル支持台である。ターンテーブル支持台５１は、シリコンやＰＴＦＥなどの耐熱性の高い材料にて構成され、ターンテーブル５０を支持するためのローラー５４が設置されている。
このターンテーブル支持台５１は加熱室３から着脱が可能に配置されている。
使用者は、調理内容等に応じて、適宜、ターンテーブル支持台５１およびターンテーブル５０を加熱室３内に配置または取り外して調理を行うことが可能となっている。

ターンテーブル５０は、セラミックなどの高周波透過性の誘電体により形成する。これは高周波誘電加熱にもヒータ加熱にも適用可能とするためである。
ターンテーブル回転軸５２の先端は、例えば傘歯車形状などの駆動力を伝達しやすい形状になっており、回転駆動力はターンテーブル５０に伝えられ、回転することが可能となる。

また、ターンテーブル５０の回転方向は、アンテナ１１の回転方向と逆方向となるように回転駆動される。これにより、ターンテーブル５０に載置された被加熱物２とアンテナ１１との相対位置が常に変化することになり、アンテナ１１上部に位置する被加熱物２の加熱を平準化し、ひいては加熱ムラを抑制する効果を持つ。
なお、ターンテーブル５０の回転速度を、アンテナ１１の回転速度と異なる速度にするようにしても良い。これによっても、ターンテーブル５０に載置された被加熱物２とアンテナ１１との相対位置が常に変化することになり、同様の効果を得ることができる。

一方、ターンテーブルモータ５３側への接続は、加熱室３背面側に設けられたターンテーブル回転軸５２のシャフト部分を挿して利用する。すなわち、加熱室３背面が、ターンテーブルモータ５３と接続されたメス側、ターンテーブル回転軸５２がオス側の関係となる。
本構成により、加熱室３底面にターンテーブル５０を回転させるための駆動源を有する必要がなくなるため、底面給電部分、すなわち誘電体板７の部分を凹凸なく構成することが可能になる。

１５は可動ヒータである。可動ヒータ１５は、例えばシーズヒータにより構成する。
この可動ヒータ１５は、被加熱物２を上面から加熱するための熱源である。可動ヒータ１５が上下移動することにより、被加熱物２への距離を変えることが可能となる。このため、被加熱物２の焼き上がり状態を任意に変えることが可能である。

図５は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の背面斜視図である。
図６は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の要部上断面図である。
ここからは図１〜図６を参照して説明する。

可動ヒータ１５は、加熱室３背面に支持部を備え、支持部を兼用するヒータ駆動板金４０が上下動する構成としている。
可動ヒータの口出し部（２箇所）をヒータ駆動板金４０に固定するとともに、固定したヒータ駆動板金４０自体が上下動するような構造である。
本実施の形態１では、図２、図５に示すように、可動ヒータ１５は、側面視クランク状で平面視蛇行状に屈曲して形成されている。
また、可動ヒータ１５の平面視蛇行状部分は、側面視において加熱室３の底面と略平行となるように支持されている。
なお、可動ヒータ１５の形状はこれに限るものではなく、任意の形状とすることができる。例えば側面視直線状に形成しても良い。

ヒータ駆動板金４０にはラック４１が固定されており、ヒータ駆動モータ４３によりピニオン４２が回転することでヒータ駆動板金４０を直動、すなわち上下方向に動作させる。
本実施の形態１では、可動ヒータ１５を加熱室３の天面近傍の位置（以下「ホームポジション」ともいう。）から、加熱室３の略中央の位置の範囲（移動領域）で移動可能に形成されている。
なお、可動ヒータ１５の移動領域はこれに限るものではない。例えば加熱室３の天面近傍の位置から、加熱室３の底面近傍の位置までを移動領域としてもよい。

可動ヒータ１５の口出し部には、口出し部を囲うヒータチョーク４５とヒータカバー４６にて、高周波漏洩を防止する袋小路構造、いわゆるチョーク構造をつくり、加熱室３内に伝播する高周波の漏洩を防止する。

加熱室３内の天面の可動ヒータ１５と近接する位置には、ガイシ４４が設置されている。
このガイシ４４は、万が一、可動ヒータ１５が変形するなどした場合にも、可動ヒータ１５が加熱室３の天面に接触しないようにする絶縁スペーサとして働き、可動ヒータ１５の絶縁状態を保持することが可能である。
なお、ガイシ４４の設置位置はこれに限るものではない。加熱室３の天面のうち、加熱室３の天面近傍に移動された可動ヒータ１５と近接する位置の少なくとも一部に、ガイシ４４を設けるようすればよい。

また、図２に示すように、加熱室３の天面には、加熱室３の内側に突き出したヒータ収納段差３９を設けている。
このヒータ収納段差３９を設けることで、可動ヒータ１５が天面近傍の位置であるホームポジションに移動した際、加熱室３の天面の奥まった位置に収納され、可動ヒータ１５が使用者の手に触れる可能性を低減させることができる。
なお、ヒータ収納段差３９の位置はこれに限るものではない。加熱室３の天面のうち、加熱室３の天面近傍に移動された可動ヒータ１５と、加熱室３の開口との間の少なくとも一部に、加熱室３内側に突き出したヒータ収納段差３９を設けるようにすればよい。

図７は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のドア周辺の要部側断面図である。
図７に示すように、ドア４にはその開閉状態を検知する開閉検知スイッチ６０が設置されている。
後述する制御手段１００は、開閉検知スイッチ６０によりドア４の開状態を検知し、開時には、高周波発振器１０や、可動ヒータ１５、下ヒータ１４などの加熱源への電源供給をＯＦＦにして加熱動作を停止させる。これにより、ドア４の開状態と加熱とが両立しない安全構造となっている。

２７はドアロックである。ドアロック２７は、図示しない回転駆動手段により回動動作され、ドア４を閉じた状態に維持するロック状態と、ドア４を開閉可能とする解除状態とを切り換える。
なお、ドアロック２７の構成はこれに限るものではない。ドア４を閉じた状態に維持するロック状態とドア４を開閉可能とする解除状態とを切り換えるものであれば良い。
後述する制御手段１００は、可動ヒータ１５が移動している間は、誤ってドア４が開かれないようにドアロック２７をロック状態として、ドア４の開ができないようにする。

図８は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の操作パネルを示す図である。
図８に示すように、操作パネル６は、設定入力手段１６と、報知手段１７とを有する。
報知手段１７は、加熱時間や設定温度等の表示や、各種の注意喚起の報知を行う。
この報知手段１７は、例えば、液晶（ＬＣＤ）や各種発光素子（ＬＥＤなど）などにより構成することができる。
なお、本実施の形態１では表示により使用者に報知する場合を説明するが、本発明はこれに限るものではない。例えば音により報知するようにしても良い。

設定入力手段１６は、加熱開始や加熱時間の設定、目標加熱温度の設定などの入力操作を行う。
この設定入力手段１６は、例えば、メンブレンシートを用いた接点ボタンにより構成され、使用者により接点ボタンが押下されることにより、入力操作を検知する。

また、設定入力手段１６は、ヒータ上下キー２１、メニュー選択キー２２、清掃キー２３、コンビ加熱キー２４を有している。
ヒータ上下キー２１は、可動ヒータ１５の移動量に関する操作の入力を行う。
メニュー選択キー２２は、予め設定された１または複数の調理メニューを選択する操作の入力を行う。
清掃キー２３は、使用者が清掃を行う際、可動ヒータ１５をホームポジションから移動させることを許可する旨の操作の入力を行う。
コンビ加熱キー２４は、高周波誘電加熱とヒータ加熱の両方を用いる調理（コンビ加熱）の開始操作の入力を行う。

図９は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の制御ブロック図である。
図９に示すように、制御手段１００には、設定入力手段１６からの操作入力、温度検知手段９の検知結果、および開閉検知スイッチ６０の検知結果が入力される。
また、制御手段１００は、高周波発振器１０、アンテナモータ１２、ターンテーブルモータ５３、可動ヒータ１５、ガラス管ヒータ３０、ドアロック２７、ヒータ駆動モータ４３、および、報知手段１７をそれぞれ制御する。
記憶手段１１０は、１または複数の調理メニューと、この調理メニューに応じた可動ヒータ１５の位置に関する情報が記憶されている。

制御手段１００は、設定入力手段１６からの入力操作により、高周波発振器１０、下ヒータ１４のガラス管ヒータ３０、および可動ヒータ１５の何れかまたは全てを動作させる。
また、各加熱源の動作状態等に応じて、アンテナモータ１２の駆動やターンテーブルモータ５３の駆動を行う。
また、ヒータ駆動モータ４３を駆動させて、可動ヒータ１５を移動させる。

次に、ターンテーブル支持台５１の構成と、被加熱物２が載置されるターンテーブル５０や焼き網５５などの複数種の載置台の設置方法について説明する。

本実施の形態１においては、皿状に形成されたターンテーブル５０や、格子状に穴を設けた焼き網５５など、円盤状に形成され、被加熱物２が載置される複数種の載置台を備えている。
そして、これら複数種の載置台のうちの少なくとも１つが、ターンテーブル支持台５１に載置され、ターンテーブル回転軸５２からの回転駆動力によって回転駆動される。
以下、詳細を説明する。

図１０は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のターンテーブル支持台を示す図である。
図１０（ａ）はターンテーブル支持台５１の斜視図である。
図１０（ｂ）はターンテーブル支持台５１の側断面図である。
ターンテーブル支持台５１には、複数のローラー５４が円周状に配置されている。また、ローラー５４が配置される円周と略同一円周上には、ターンテーブル回転軸５２が配置されている。
さらに、ローラー５４およびターンテーブル回転軸５２の配置位置より中心側に、円形の開口５１ａが形成されている。
なお、本実施の形態１では、ローラー５４が車輪形状の場合を説明するが、本発明はこれに限るものではない。例えば、ボール状のローラー等任意の形状のものを用いることができる。

図１１は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のターンテーブルの設置方法を示す図である。
図１１（ａ）はターンテーブル支持台５１およびターンテーブル５０の斜視図を示している。
図１１（ｂ）はターンテーブル支持台５１上にターンテーブル５０を設置した状態での斜視図である。
図１１（ｃ）はターンテーブル支持台５１上にターンテーブル５０を設置した状態での側断面図である。
ターンテーブル支持台５１は、円周状に配置された複数のローラー５４によりターンテーブル５０を支持する。
そして、加熱室３の背面または側面に設置されたターンテーブルモータ５３が回転駆動すると、これに接続されたターンテーブル回転軸５２が回転し、ローラー５４上に置かれたターンテーブル５０に駆動力が伝えられる。
ターンテーブル５０は回転可能なローラー５４としか接触していないため、駆動力を与えられることでスムースに回転する。
なおターンテーブル５０上には被加熱物２が設置され、加熱に供される。

図１２は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器のターンテーブルおよび焼き網の設置方法を示す図である。
図１２（ａ）はターンテーブル支持台５１、ターンテーブル５０および焼き網５５の斜視図を示している。
図１２（ｂ）はターンテーブル支持台５１上にターンテーブル５０および焼き網５５を設置した状態での斜視図である。
図１２（ｃ）はターンテーブル支持台５１上にターンテーブル５０および焼き網５５を設置した状態での側断面図である。
図１２（ａ）〜（ｃ）において、５５は焼き網であり、主に、下ヒータ１４や可動ヒータ１５を用いた調理で使用される。
ここでは、ターンテーブル５０上に焼き網５５が載置され、該焼き網５５に被加熱物２が載置される構成を示している。
この構成では、焼き網５５上に置かれた被加熱物から垂れる油や食品カスなどをターンテーブル５０で受けることが可能である。

図１３は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。
図１３（ａ）はターンテーブル支持台５１および焼き網５５の斜視図を示している。
図１３（ｂ）はターンテーブル支持台５１上に焼き網５５を設置した状態での斜視図である。
図１３（ｃ）はターンテーブル支持台５１上に焼き網５５を設置した状態での側断面図である。
ターンテーブル支持台５１は、円周状に配置された複数のローラー５４により焼き網５５を支持する。
そして、加熱室３の背面または側面に設置されたターンテーブルモータ５３が回転駆動すると、これに接続されたターンテーブル回転軸５２が回転し、ローラー５４上に置かれた焼き網５５に駆動力が伝えられる。
焼き網５５は回転可能なローラー５４としか接触していないため、駆動力を与えられることでスムースに回転する。
また、図１３（ｃ）に示すように、焼き網５５の端部の折り返しをローラー５４の近くまで伸ばし、この折り返し部分とローラー５４との遊びを極力少なくすることにより、ローラー５４から焼き網５５がずれることを防止している。
なお焼き網５５上には被加熱物２が設置され、加熱に供される。
このように、ターンテーブル支持台５１に載置する載置台を取り替え可能に構成することで、調理内容に応じた載置台を使用することができる。
なお、図１３（ｃ）の例では、焼き網５５の端部の折り返しをローラー５４の近くまで伸ばすことで、焼き網５５のずれを防止する構成としているが、本発明はこれに限るものではない。例えば、焼き網５５の中心に回転軸を設けて、焼き網５５のずれを防止するようにしても良い。また、焼き網５５の裏側に、開口５１ａの淵またはローラー５４の内側を案内とする突部を設けて、焼き網５５のずれを防止するようにしても良い。

図１４は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。
図１４（ａ）はターンテーブル支持台５１および焼き網５５の斜視図を示している。
図１４（ｂ）はターンテーブル支持台５１の円形の開口５１ａに焼き網５５を設置した状態での斜視図である。
図１４（ｃ）はターンテーブル支持台５１の円形の開口５１ａに焼き網５５を設置した状態での側断面図である。
この例では、焼き網５５をターンテーブル支持台５１上のターンテーブル回転軸５２の駆動力を得ない位置に設置する方式である。焼き網５５は、円形の開口５１ａと略同形状に形成されている。
この場合、被加熱物２の特定部分に対して、下ヒータ１４からの輻射加熱の効率を高めることが可能となり、例えば焦げ目を早くつけたい場合には有効となる。

図１５は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の焼き網の設置方法を示す図である。
図１５（ａ）はターンテーブル支持台５１および焼き網５５の斜視図を示している。
図１５（ｂ）はターンテーブル支持台５１上に焼き網５５を設置した状態での斜視図である。
図１５（ｃ）はターンテーブル支持台５１上に焼き網５５を設置した状態での側断面図である。
この例では、焼き網５５の外周に、高周波透過性の材料により形成され、円環形状のアタッチメント５６を設けている。
例えば、図１４の焼き網５５に、ターンテーブル回転軸５２の駆動力得ることができるアタッチメント５６を設置した方式である。
アタッチメント５６は直径を焼き網５５より大きくした中空形状の円形板に形成されている。
アタッチメント５６は、セラミックや、高耐熱樹脂（例えば、ポリフェニレンサルファイド樹脂（PPS）等）の誘電体により構成されている。

焼き網５５は、例えば金属により構成されるが、この焼き網５５を高周波誘電加熱で使用した場合、焼き網５５の端部では電界の局所集中が発生し、スパークが発生し易くなる。
そこで、例えばセラミックなどの高周波透過性の材料により形成されたアタッチメント５６を装着することで、焼き網５５を高周波誘電加熱で使用した場合であっても、電界の局所集中によるスパークを起こし難くすることができる。
なお、アタッチメント５６の端部をＲ処理することで、より電界の局所集中を軽減できる。

アタッチメント５６が装着された焼き網５５は、ターンテーブル支持台５１に載置され、ターンテーブル回転軸５２からの駆動力により回転駆動される。
これにより、焼き網５５上に設置された被加熱物２を回転しながらムラなく焼成することが可能である。
また、回転しているために、下ヒータ１４から受ける熱も平準化される効果がある。

図１１〜図１５に示した方式はいずれにおいても、ターンテーブル５０は、セラミック製で高周波透過性は有するが熱容量が大きいために高周波加熱には有効であるが、ヒータ加熱では時間がかかってしまうデメリットがある。
一方、焼き網５５は、開口部を多数有する金属で構成されるため、開口部を抜けるヒータの輻射は効率よく受けられるメリットがあるが、高周波が反射しやすかったり、食品カスや油などが下に垂れてしまったりするというデメリットがある。
このため、使用者の利便性や個々のメニューに適した加熱形態によって、適宜使い分けて使用することが可能となる。

なお、本実施の形態１では、載置台の例として、皿状のターンテーブル５０と、格子状に穴を設けた焼き網５５を説明したが、本発明はこれに限るものではない。底面が円盤状に形成されたものであれば任意のものを載置台として使用することができる。

なお、ターンテーブル５０や焼き網５５（アタッチメント５６を含む）などの載置台の下面のうち、当該載置台が回転駆動される際のローラー５４の軌跡上に、小さな段差を形成するようにしても良い。
このような段差を形成することで、載置台が回転駆動されてローラー５４が段差を通過する際に、載置台に微振動を与えることができる。
このような微振動を与えながら加熱を行うことで、液体状の被加熱物２が、沸点を超えても沸騰を起こさない状態が生じ、内容物が急激に沸騰する突沸現象の発生を抑制することができる。

図１６は本発明の実施の形態１を示す加熱調理器の加熱モードを説明する図である。
図１６（ａ）は均一加熱モード時の被加熱物２の加熱状態を示す図である。
図１６（ｂ）は集中加熱モード時の被加熱物２の加熱状態を示す図である。
次に、ターンテーブル５０や焼き網５５を使用して、被加熱物２の加熱ムラを抑制することができる加熱（均一加熱モード）と、ターンテーブル５０や焼き網５５を使用せず、加熱時間を短くすることができる加熱（集中加熱モード）とについて説明する。

［均一加熱モード］
上述したように、アンテナ１１は、アンテナ室１３内で回転することで、均一加熱効果を有している。また、上記図４で示したように、本実施の形態のアンテナ室１３（誘電体板７）は奥行方向に長い略直方体形状となっている。
このような構成により、アンテナ室１３直上部分にマイクロ波による加熱が集中しやすい構造となっている。つまり、マイクロ波による加熱は、誘電体板７の上方の加熱量が、底面板３２の上方の加熱量より大きくなっている。
さらに、下ヒータ１４も奥行き方向に長い形状となっており、底面板３２の下に配置されるガラス管ヒータ３０は棒状に形成されているため、被加熱物２に加熱ムラが生じやすい構成となっている。
そこで、均一加熱モードにおいては、図１６（ａ）に示すように、加熱室３内にターンテーブル支持台５１およびターンテーブル５０（または焼き網５５）を配置して加熱を行う。
このように、ターンテーブル５０はこの集中加熱を緩和する効果を有する。
ターンテーブル５０に乗せられた被加熱物２は回転することにより、加熱ムラ抑制効果、すなわち均一加熱効果を高めることが可能となる。

なお、アンテナ１１の回転方向、回転数はターンテーブル５０の回転方向、回転数を変えることでさまざまな高周波分布を加熱室３内につくることが可能となるため、さらに均一加熱効果を有することが可能となる。

［集中加熱モード］
一方、使用者または被加熱物２によっては、それほど高いレベルの均一加熱を必要とせず、多少の加熱ムラは許容しても短時間で集中加熱をしたいという要望もある。
その際には、図１６（ｂ）に示すように、ターンテーブル支持台５１およびターンテーブル５０（焼き網５５を含む）を取り外し、誘電体板７の上に直接、被加熱物２を設置して加熱を行う。
これにより、加熱室３中央部の限られた領域にアンテナ室１３を設置してあることと、マイクロ波吸収要素であるターンテーブル５０に吸収されるロスを軽減する効果があいまって、効果的かつ中央部への集中加熱をすることが可能となる。

このように、ターンテーブル５０を加熱室３から着脱可能に配置し、高周波による加熱は、誘電体板７の上方の加熱量が、底面板３２の上方の加熱量より大きくなる構成としているので、均一加熱モードと集中加熱モードとを、それぞれ用途に応じて利用することが可能である。

以上のように本実施の形態においては、被加熱物２を収納する加熱室３と、被加熱物２を加熱するための高周波を発振する高周波発振器１０と、加熱室３の下方に接続され、高周波発振器１０から発振された高周波を加熱室３に導く導波管８と、加熱室３の下方に配置され、加熱室３の下側から被加熱物２を加熱するガラス管ヒータ３０と、加熱室３内に回転可能に配置され、被加熱物２が載置されるターンテーブル５０と、加熱室３の背面または側面に設置され、ターンテーブル５０を回転駆動する駆動手段とを備えている。
このため、高周波を加熱室３に導く導波管８とガラス管ヒータ３０とをそれぞれ加熱室３の底面に配置して、ターンテーブル５０を搭載する場合であっても、導波管８やガラス管ヒータ３０の配置位置が制限されることがない。
また、加熱室３の底面上に、例えば回転軸などのターンテーブル５０を回転させるための構成が配置されることがなく、誘電体板７を凹凸なく構成することが可能となり、ターンテーブル５０を使用しない調理の場合に邪魔になることがない。

また、加熱室３の下方に配置され、導波管８から伝播された高周波を加熱室３内に拡散させるアンテナ１１と、加熱室３の下方に配置され、アンテナ１１を回転駆動するアンテナモータ１２とを備えている。
このため、回転駆動するアンテナ１１とターンテーブル５０とを同時に搭載することができる。
よって、アンテナ１１の回転駆動と、ターンテーブル５０による被加熱物２の回転駆動とを同時に実施することが可能となり、加熱ムラをより低減する効果を発揮することができる。

また、ターンテーブル５０の回転方向と、アンテナ１１の回転方向とが逆方向である。
また、ターンテーブル５０の回転速度と、アンテナ１１の回転速度とが異なる速度である。
このため、ターンテーブル５０に載置された被加熱物２とアンテナ１１との相対位置が常に変化することになり、アンテナ１１上部に位置する被加熱物２の加熱を平準化し、ひいては加熱ムラを抑制する効果を持つ。

また、加熱室３の底面は、誘電体により形成された誘電体板７と、誘電体板７より熱伝導性が高い材料により形成された底面板３２とにより構成され、導波管８は、誘電体板７の下方に高周波を伝播させ、ガラス管ヒータ３０は、底面板３２の下方に配置されている。
このため、導波管８からの高周波は誘電体板７により透過して加熱室３内に伝播させることができる。また、ガラス管ヒータ３０からの輻射熱は底面板３２から加熱室３内に伝達し易くすることができる。

また、誘電体板７とガラス管ヒータ３０との間に、ガラス管ヒータ３０からの輻射熱を反射する反射板３１を備えている。
このため、ガラス管ヒータ３０の熱が、加熱室３底面の誘電体板７で吸熱されにくくなり、被加熱物２に届く熱を増加させることができ、加熱効率を向上させることができる。

また、底面板３２の下面とともに、ガラス管ヒータ３０を囲むように形成され、ガラス管ヒータ３０からの輻射熱を反射する反射板３１を備えている。
このため、ガラス管ヒータ３０からの輻射熱と、反射板３１から反射される赤外線とによって加熱室３の底面が加熱され、底面の温度を上昇させることによって、被加熱物２を加熱することが可能となる。よって、加熱室３底面を効率よく加熱することが可能である。

また、底面板３２は、誘電体板７の両側に並んで配置され、ガラス管ヒータ３０は、底面板３２毎にそれぞれ設けられている。
このため、マイクロ波が伝播する際の対称性を確保し易くすることができ、マイクロ波加熱にかかる電界分布の集中によるスパークや局所過熱等を低減することができる。

また、誘電体板７および底面板３２は、加熱室３の幅方向を短辺とする長方形状に形成され、誘電体板７は、加熱室３の幅方向の略中央に配置され、ガラス管ヒータ３０は、底面板３２の長辺方向に沿って配置されている。
このため、底面部材の加工が容易となり製造コストを低減することができる。また、ガラス管ヒータ３０の製造・加工コストを低減することができる。また、ガラス管ヒータ３０により底面板３２の全域に亘って加熱が可能となる。

また、底面板３２は、加熱室３側に突き出した底面凸部３８が形成されている。
このため、底面板３２が熱収縮や膨張した際の強度を増すことができる。
また、角皿５を加熱室３底面に直接置く場合のガイドレールとしても利用可能である。

また、ターンテーブル５０は、加熱室３から着脱可能に配置され、高周波による加熱は、誘電体板７の上方の加熱量が、底面板３２の上方の加熱量より大きくなるように構成している。
このため、被加熱物２の加熱ムラを抑制することができる加熱と、加熱時間を短くすることができる加熱とを選択的に行うことができる。

１ 本体、２ 被加熱物、３ 加熱室、４ ドア、５ 角皿、６ 操作パネル、７ 誘電体板、８ 導波管、９ 温度検知手段、１０ 高周波発振器、１１ アンテナ、１２ アンテナモータ、１３ アンテナ室、１４ 下ヒータ、１５ 可動ヒータ、１６ 設定入力手段、１７ 報知手段、１９ 視認窓、２１ ヒータ上下キー、２２ メニュー選択キー、２３ 清掃キー、２４ コンビ加熱キー、２７ ドアロック、３０ ガラス管ヒータ、３１ 反射板、３２ 底面板、３８ 底面凸部、３９ ヒータ収納段差、４０ ヒータ駆動板金、４１ ラック、４２ ピニオン、４３ ヒータ駆動モータ、４４ ガイシ、４５ ヒータチョーク、４６ ヒータカバー、４７ 角皿レール、５０ ターンテーブル、５１ ターンテーブル支持台、５１ａ 開口、５２ ターンテーブル回転軸、５３ ターンテーブルモータ、５４ ローラー、５５ 焼き網、５６ アタッチメント、６０ 開閉検知スイッチ、１００ 制御手段、１１０ 記憶手段。

Claims (9)

1. 被加熱物を収納する加熱室と、
   前記被加熱物を加熱するための高周波を発振する高周波発振器と、
   前記加熱室の下方に接続され、前記高周波発振器から発振された高周波を前記加熱室に導く導波管と、
   前記加熱室の下方に配置され、前記加熱室の下側から前記被加熱物を加熱するヒータと、
   前記加熱室内に回転可能に配置され、前記被加熱物が載置されるターンテーブルと、
   前記加熱室の背面または側面に設置され、前記ターンテーブルを回転駆動する駆動手段と
   を備え、
   前記ターンテーブルは、前記加熱室から着脱可能に配置され、
   前記加熱室の底面は、
   誘電体により形成され、前記加熱室の幅方向の略中央に配置された第１の底面と、
   前記第１の底面より熱伝導性が高い材料により形成され、前記第１の底面の両側に並んで配置された第２の底面とにより構成され、
   前記第１の底面および前記第２の底面は、前記加熱室の幅方向を短辺とする長方形状に形成され、
   前記導波管は、前記第１の底面の下方に前記高周波を伝播させ、
   前記ヒータは、前記第２の底面毎にそれぞれ設けられ、前記第２の底面の下方に、前記第２の底面の長辺方向に沿って配置され、
   前記第２の底面は、前記加熱室側に突き出したリブが、前記ヒータと対向する位置に形成され、
   前記リブは、前記被加熱物が載置される載置台を前記加熱室底面に直接置く場合のガイドレールとして機能する
   ことを特徴とする加熱調理器。
2. 前記第２の底面の前記加熱室側は塗装が施され、
   前記塗装は、
   該塗装が施されていない場合と比較して、前記第２の底面から前記加熱室側への熱の輻射を増加させる
   ことを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
3. 前記加熱室の下方に配置され、前記導波管から伝播された高周波を前記加熱室内に拡散させるアンテナと、
   前記加熱室の下方に配置され、前記アンテナを回転駆動するアンテナ駆動手段と
   を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の加熱調理器。
4. 前記ターンテーブルの回転方向と、前記アンテナの回転方向とが逆方向である
   ことを特徴とする請求項３記載の加熱調理器。
5. 前記ターンテーブルの回転速度と、前記アンテナの回転速度とが異なる速度である
   ことを特徴とする請求項３記載の加熱調理器。
6. 前記第１の底面と前記ヒータとの間に、前記ヒータからの輻射熱を反射する反射部材を備えた
   ことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の加熱調理器。
7. 前記第２の底面の下面とともに、前記ヒータを囲むように形成され、前記ヒータからの輻射熱を反射する反射部材を備えた
   ことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の加熱調理器。
8. 前記高周波による加熱は、前記第１の底面の上方の加熱量が、前記第２の底面の上方の加熱量より大きい
   ことを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の加熱調理器。
9. 前記被加熱物を前記ターンテーブル上に載置して回転しながら加熱する均一加熱モードと、
   前記被加熱物を前記ターンテーブルを使用せず、前記第１の底面上に直接載置して加熱する集中加熱モードとを有する
   ことを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の加熱調理器。