JP5262136B2 - 電子部品の製造方法 - Google Patents
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次いで、図3(g)に示すように、蓋基板20に形成した絶縁膜32の上に、導電膜34を形成する。次いで、図3(h)に示すように、ビアホール21の内部を、めっき、導電性ペーストなどの導電材36で充填して、その上に外部端子接続電極23a(図1(a)参照)を形成する。微小なビアホール21を充填する場合には、めっきが望ましい。
12 素子基板(第2の基板)
12a 表面(一方主面)
14 下部電極膜
15 圧電膜
16 上部電極膜
17 パッド
18 接合層
20 蓋基板(第1の基板)
20b 裏面(一方主面)
21,21x ビアホール
22a 導電材(導電部材)
22b 金属膜(導電部材)
23a,23b 外部端子接続電極
30 コンタクトメタル
32 絶縁膜
34 導電膜(導電部材)
36 導電材(導電部材)
Claims (4)
- 一方主面同士が間隔を設けて対向する第1及び第2の基板を備え、前記第1及び第2の基板が振動空間を隔てて対向する電子部品を製造する方法であって、
前記第1の基板の前記一方主面にコンタクトメタルを形成する、コンタクトメタル形成工程と、
前記第1の基板の前記一方主面とは反対側の他方主面のビアホール開口部から前記コンタクトメタルに達するビアホールを形成し、該ビアホールの底面に前記コンタクトメタルを露出させる、ビアホール形成工程と、
前記ビアホールの内周面をエッチングして、前記ビアホール形成工程において前記内周面に形成された凸部の少なくとも先端側を除去する、エッチング工程と、
前記第1の基板の前記他方主面のうち少なくとも前記ビアホール開口部に接する部分と、前記ビアホールの前記内周面と、前記ビアホールの前記底面に露出する前記コンタクトメタルとに、酸化膜又は窒化膜からなる絶縁膜を形成する、絶縁膜形成工程と、
前記コンタクトメタルに形成された前記絶縁膜を除去する、絶縁膜除去工程と、
前記絶縁膜と前記絶縁膜が除去された前記コンタクトメタルとに配置され前記ビアホール開口部を介して前記コンタクトメタルに接続された導電部材を形成する、ビアホール導電形成工程と、
を備え、
前記ビアホール形成工程において、前記ビアホールはICPエッチング法を用いて形成することを特徴とする、電子部品の製造方法。 - 前記絶縁膜が、SiO2、SiNx、Ta2O5、AlNのいずれかからなることを特徴とする、請求項1に記載の電子部品の製造方法。
- 前記第1の基板が、半導体又は金属であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の電子部品の製造方法。
- 前記電子部品は、フィルタ、共振子又は発振子を含むことを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の電子部品の製造方法。
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