JP5258547B2 - 集積回路の検査方法及び装置 - Google Patents

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Description

本発明は、集積回路を電気的に試験方法及び装置に関する。
半導体ウエーハに形成された未切断の集積回路、チップ状に切断された集積回路、チップ状に切断されてパッケージ又はモールドをされた集積回路等の集積回路(すなわち、被検査体)は、プローブカードを用いた試験装置により、仕様書通りの性能を有するか否かの試験をされる。
この種の試験に用いるプローブカードは、一般に、複数の信号路すなわち導電路を有するプローブ基板と、該プローブ基板の一方の面に配置されて前記導電路に電気的に接続された複数の接触子とを含む。
そのようなプローブ基板としては、ガラス入りエポキシ樹脂で製作された配線基板、セラミックで形成されたセラミック基板、ポリイミド樹脂のような電気絶縁性の樹脂で形成されたフレキシブル多層配線基板、セラミック基板の下面にフレキシブル多層配線基板を配置した併用基板等が用いられている。
近年、集積回路を高温度下で試験することが行われている。この場合、集積回路はこれを配置するステージに設けられた発熱体により所定の温度に加熱され、それにより接触子が配置されたプローブ基板もステージ及び集積回路からの熱を受けて加熱される。その結果、集積回路及びプローブ基板が熱膨張する。
しかし、集積回路の熱膨張量とプローブ基板の熱膨張量とが異なると、集積回路の電極と接触子の針先との相対的位置関係が変化し、針先が集積回路の電極に押圧されない接触子が存在することを避けることができない。
上記のことから、発熱体をプローブ基板内に配置し、この発熱体を発熱させてプローブ基板を加熱し、それによりプローブ基板の温度を調整する試験装置が提案されている(特許文献1)。
しかし、特許文献1に記載された試験装置では、発熱体として単一の金属層をプローブ基板に設けているにすぎない。このため、プローブカード、特にセラミック基板が所定の温度に上昇するまでに長時間を要し、作業能率が低い。
例えば、1つのウエーハの試験を終了するたびにステージをプローブカードに対して移動させる試験装置においては、ステージがプローブカードから離間されるたびに、プローブカードが大気温度に晒されて、プローブカードの温度が低下する。
また、多数のウエーハを、それぞれが複数のウエーハを含むロットに分けて、1ロットずつ試験する試験装置においては、1つのウエーハの試験を終了するたびのみならず、1ロット分のウエーハの交換のためにステージを移動させるたびに、プローブカードが大気温度に晒される。そのような装置においても、プローブカードが大気温度に晒される間にプローブ基板の温度が大きく低下する。
上記のことから、従来の試験装置では、次のウエーハの試験のためにプローブカードを再度所定の温度に上昇させなければならない。しかし、従来の試験装置では、温度低下を招いたプローブカードを所定の温度に再度上昇させるためには、長時間を要し、試験効率が著しく低い。
また、従来の試験装置では、試験信号を集積回路に供給しているにもかかわらず、加熱電力をヒーターに供給すると、試験信号が加熱電力により大きな影響を受け、正確な試験結果を得ることができない。
特開平4−359445号公報
本発明の目的は、プローブカードを効果的に所定の温度に加熱することができるようにすることにある。
本発明に係る、集積回路の試験方法は、
前記集積回路を受けるチャックトップが前記集積回路に対し電気信号の授受を行うプローブカードの近傍に存在するか否かを判定する第1のステップと、
該第1のステップにおける判定結果に応じて前記プローブカードに備えられた発熱体に供給する加熱電力を調整する第2のステップとを含む。
本発明に係る、集積回路の試験装置の1つは、
複数の導電路及び給電路を有するプローブ基板、並びに該プローブ基板の一方の面に配置されて前記導電路に電気的に接続された複数の接触子を含むプローブカードと、
前記集積回路が配置されるチャックトップであって、受けた集積回路が、前記プローブカードと対向し該プローブカードの接触子に接触する試験位置と、受けた集積回路が前記プローブカードと対向し該プローブカードの接触子に接触しない非試験位置と、受けた集積回路が前記プローブカードと対向しない前記集積回路の交換のための退避位置とに移動可能のチャックトップと、
前記給電路を介して供給される加熱電力により発熱するように前記プローブ基板に配置された発熱体と、
前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に位置するか否かの判定に用いる電気信号を出力する第1のセンサと、
前記プローブカードに供給する試験用信号を制御すると共に、前記発熱体に供給する加熱電力を制御する制御装置であって、前記第1のセンサの出力信号を基に前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否かを判定し、当該判定の結果に応じて、前記加熱電力の供給量を調整する制御装置とを含む。
前記制御装置は、さらに、前記試験用信号が前記集積回路に供給されているか否かを判定し、当該判定の結果及び前記第1のセンサの出力信号を基に前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否かの前記判定結果の両判定結果に応じて、前記加熱電力の供給量を調整することができる
本発明に係る、集積回路の試験装置の他の1つは、
さらに、前記プローブカードの温度を検出すべく前記プローブカードに配置された第2のセンサを含むことができ、前記制御装置は、前記第2のセンサの出力信号を基に前記プローブカードが所定の温度を有するか否かを判定し、当該判定の結果及び前記両判定結果に応じて、前記加熱電力の供給量を調整することができる
前記第1のステップは、前記プローブカード又は前記チャックトップに設けられたセンサの出力信号を基に、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否かを判定することを含むことができる。
前記第1のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否かを判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在しないとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を所定の値に調整することを含むことができる。
上記の場合、前記第2のステップは、さらに、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を適宜な値に調整することを含むことができる。
前記第1のステップは、前記試験中であるか否かを判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記試験中でないとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を適宜な値に調整することを含むことができる。
上記の場合、前記第2のステップは、さらに、前記試験中であるとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を適宜な値に調整することを含むことができる。
前記第1のステップは、前記プローブカードが所定の温度を有するか否かを判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記プローブカードが所定の温度でないとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を所定の値に調整することを含むことができる。
上記の場合、前記第2のステップは、さらに、前記プローブカードが所定の温度であるとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を零に調整することを含むことができる。
前記第1のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否か、及び前記試験中であるか否かを判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せずかつ試験中でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含むことができる。
上記の場合、前記第2のステップは、さらに、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するが、試験中でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を適宜な値に調整することを含むことができる。
前記第1のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否か、及び前記温度が適正であるか否かを判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記プローブカードの近傍に存在せずかつ前記温度が適正でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含むことができる。
上記の場合、前記第2のステップは、さらに、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するが、前記適正温度でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含む、ことができる。
前記第1のステップは、前記試験中であるか否か、及び前記温度が適正であるか否かを判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記試験中でなくかつ前記適正温度でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含むことができる。
上記の場合、前記第2のステップは、前記試験中で有りかつ前記適正温度でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を適宜な値に調整することを含むことができる。
前記第1のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否か、前記試験中であるか否か、及び前記プローブカードの温度の適否を判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せず、かつ試験中でなく、さらに前記適正温度でないとき、前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含むことができる。
前記第1のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否か、前記試験中であるか否か、及び前記プローブカードの温度の適否を判定することを含むことができ、また前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在し、かつ試験中であり、さらに前記適正温度でないとき、前記加熱電力の供給量を適宜な値に調整することを含むことができる。
電気的試験方法は、さらに、前記加熱電力を前記プローブカード用の電源回路及び前記プローブカード用以外の電源回路から選択される電源回路から供給することを含むことができる。
本発明によれば、チャックトップがプローブカードの近傍に存在するか否か、集積回路の試験中であるか否か、及びプローブカードが所定の温度を有するか否かに応じて、発熱体に供給する加熱電力の量が調整されて、プローブカードの温度が調整される。その結果、プローブカードは効果的に加熱される。
チャックトップがプローブカードの近傍に存在しないとき、発熱体に加熱電力を供給すれば、チャックトップがプローブカードの近傍に存在しないときにプローブカードが加熱され、その結果プローブカードはより効果的に加熱される。
また、チャックトップがプローブカードの近傍に存在するとき、加熱電力の供給量をチャックトップがプローブカードの近傍に存在しないときの供給量より小さい値に調整するならば、加熱電力による試験信号への影響が小さくなる。
試験中であるとき、発熱体への加熱電力の供給量をチャックトップがプローブカードの近傍に存在しないときの供給量より小さい値、特に零に調整するならば、加熱電力による試験信号への影響がより小さくなる。
プローブカードの温度が適正でないとき、発熱体への加熱電力の供給量をチャックトップがプローブカードの近傍に存在しないときの供給量より小さい値に調整するならば、加熱電力による試験信号への影響が小さくなる。
図1を参照するに、試験装置10は、円板状の半導体ウエーハ12を被検査体とし、ウエーハ12に形成された複数の集積回路を一回で又は複数回に分けて検査、すなわち試験する。各集積回路は、パッド電極のような複数の電極(図示せず)を上面に有する。
図1及び図2を参照するに、試験装置10は、板状の複数の接触子14を備える電気的接続装置、すなわちプローブカード16と、ウエーハ12が配置される検査ステージ18と、プローブカード16に電気的に接続されるテストヘッド20と、プローブカード16をその外周縁部において受けるカードホルダ22と、検査ステージ18に対するカードホルダ22の高さ又は傾きを制御するカード制御部24と、カードホルダ22に対する検査ステージ18の位置を制御するステージ制御部26と、接触子14に対する試験信号(すなわち、試験のために集積回路に供給する供給信号、供給信号に対する集積回路からの応答信号等の電気信号)の授受を行うべくテストヘッド20を制御するテスター制御部28と、プローブカード16の温度を制御するヒーター制御部30と、加熱電力(加熱電流)を供給する加熱電源32とを含む。
図示の例では、各接触子14は、クランク状の形状を有する板状のプローブを用いている。そのような接触子14は、例えば、特開2005-201844号公報等に記載されている公知のものである。
しかし、各接触子14は、タングステン線のような金属細線から製作されたプローブ、フォトリソグラフィー技術と堆積技術とを用いて製作された板状のプローブ、ポリイミドのような電気絶縁シートの一方の面に複数の配線を形成し、それら配線の一部を接触子として用いるプローブ等、従来から公知のものであってもよい。
プローブカード16は、平坦な下面を有する補強部材34と、補強部材34の下面に保持された円形平板状の配線基板36と、配線基板36の下面に配置された平板状の電気接続器38と、電気接続器38の下面に配置されたプローブ基板40と、補強部材34の上に配置された円板状のカバー42とを含む。これらの部材34〜42は、複数のボルトにより分離可能に堅固に組み付けられている。
補強部材34は、ステンレス板のような金属材料で製作されている。例えば、特開2008−145238号公報に記載されているように、補強部材34は、内方環状部と、外方環状部と、両環状部を連結する複数の連結部と、外方環状部から半径方向外方へ延びる複数の延長部と、内方環状部の内側に一体的に続く中央枠部とを有し、それらの部分の間が上下の両方向に開放する空間として作用する形状とすることができる。
また、例えば、特開2008−145238号公報に記載されているように、補強部材34の上側に補強部材34の熱変形を抑制する環状の熱変形抑制部材を配置し、その熱変形抑制部材の上にカバー42を配置してもよい。
配線基板36は、図示の例では、ガラス入りエポキシ樹脂のような電気絶縁樹脂により円板状に製作されており、また接触子14に対する信号の受け渡しに用いる複数の内部配線46と、加熱電力の供給に用いる複数の給電路48とを有している。
配線基板36の上面の環状周縁部には、テストヘッド20に接続される多数のコネクタ44が配置されている。各コネクタ44は、内部配線46に電気的に接続された複数の端子(図示せず)を有する。
補強部材34と配線基板36とは、補強部材34の下面と配線基板36の上面とを互いに当接させた状態に、複数のねじ部材(図示せず)により同軸的に結合されている。
電気接続器38は、例えば、特開2008−145238号公報に記載されている公知のものである。電気接続器38は、電気絶縁性のピンホルダを上下方向に貫通して伸びるポゴピンのような公知の複数の接続ピン50,52を備えており、また配線基板36の内部配線46及び給電路48をそれぞれ接続ピン50及び52によりプローブ基板40の、後に説明する導電路72及び給電路70に電気的に接続している。
電気接続器38は、ピンホルダの上面が配線基板36の下面に当接された状態に、複数のねじ部材及び適宜な部材(いずれも図示せず)により、ピンホルダにおいて配線基板36の下面に結合されている。
さらに、接続ピン50及び52のそれぞれは、その上端及び下端をスプリングにより離間させており、また上端を配線基板36の内部配線46又は給電路48の下端部に続く端子部(図示せず)に押圧されていると共に、下端をプローブ基板40の上面に設けられた他の端子部に押圧されている。
プローブ基板40は、図示の例では、ポリイミド樹脂のような電気絶縁性樹脂により形成されたフレキシブル多層シート54を多層のセラミック基板56の下面に設けた併用基板であり、また多層シート54の下面に接触子14を片持ち状に配置している。
多層シート54は、複数の内部配線(図示せず)を内部に有すると共に、内部配線に電気的に接続された複数のプローブランド(図示せず)を下面に有する公知の形状及び構造を有しており、またセラミック基板56と一体的に形成されている。
各接触子14は、その先端部(針先)を下方に突出させた状態に、半田のような導電性接合材による接合、レーザによる溶接等の手法により、前記したプローブランドに片持ち梁状に装着されている。
図3に示すように、セラミック基板56は、複数の発熱層58と複数の導電層60とを備える。図3に示す例では、厚さ方向(図示の例では、上下方向)に間隔をおいた複数層(図示の例では、4層)の発熱層58が設けられており、また厚さ方向に隣り合う発熱層58の間、最上部の発熱層58の上側、及び最下部の発熱層58の下側のそれぞれに複数層(図示の例では、3層)の導電層60が設けられている。
各発熱層58は、発熱体62を薄いセラミック層64の一方の面に有する。各発熱層58の発熱体62は、一筆書き状、同心円状等、適宜な形状を有するパターンとされている。
これに対し、各導電層60は、配線パターンのような配線66を薄いセラミック層68の一方の面に形成している。セラミック基板56の各配線66は、多層シート54の内部配線に電気的に接続されており、またその内部配線と共に、接触子14に対する電気信号の受け渡しに利用される。
各発熱体62は、発熱層58及び導電層60を厚さ方向に貫通して伸びる一対の給電路70に電気的に接続されている。発熱体62は、発熱体毎に設けられた一対の給電路に接続されていてもよいし、複数の発熱体62で共通の一対の給電路70に並列的に接続されていてもよい。
各配線66は、発熱層58及び導電層60を厚さ方向に貫通して伸びる導電路72に電気的に接続されている。給電路70及び導電路72のそれぞれは、発熱層58及び導電層60に設けられた導電性ビアの結合により形成されている。
各導電路72は、対応する導電層60の配線66には電気的に接続されているが、導電層60の給電路70には電気的に接続されていない。このため、各発熱層58には、導電路72が発熱体62に接触することなく貫通する抜き穴、発熱体62が存在しないパターン不存在領域等の電気絶縁領域(図示せず)が設けられている。
上記とは逆に、各給電路70は、対応する発熱層58の発熱体62には電気的に接続されているが、導電層60の配線66には電気的に接続されていない。このため、各導電層60には、給電路70が配線66に接触することなく貫通する抜き穴、配線66が存在しない配線不存在領域等、他の電気絶縁領域(図示せず)が設けられている。
導電層60の代わりに、電気的絶縁層であってもよい。この場合、厚さ方向に隣り合う発熱層58の間、最上部の発熱層58の上側、及び最下部の発熱層58の下側のそれぞれに複数の絶縁層を設けてもよいし、単一の絶縁層を設けてもよい。また、厚さ方向に隣り合う発熱層58の間、最上部の発熱層58の上側、及び最下部の発熱層58の下側に設ける上記した電気絶縁領域は、抜き穴である必要はない。
しかし、厚さ方向に隣り合う絶縁層の導電路72は、発熱層58の発熱体62に接触することなく、互いに接続されている。このため、各発熱層58は、上記したパターン不存在領域を有する。これにより、導電路72を経る試験信号は、給電路70を経る加熱電力の影響を受けない。
上記のようなプローブ基板40は、セラミック基板56の上面が電気接続器38の下面に向けて押圧された状態に、複数のねじ部材及び適宜な部材(いずれも図示せず)により、配線基板36の下面に結合されている。これにより、電気接続器38の接続ピン50及び52の下端は、それぞれ、給電路70及び導電路72の上端に押圧されて、給電路70及び導電路72に電気的に接続されている。
再度図1及び図2を参照するに、カードホルダ22は、電気絶縁材料から製作されており、またリング状の周縁部22aと、周縁部22aの下端部から内方へ伸びる上向きの段部22bとを有している。段部22bは、内向きフランジのようにリング状の形状を有しており、また配線基板36の外周縁部の下側を受けている。
プローブカード16は、配線基板36の外周縁部が段部22bに受けられて、プローブカード16がテストヘッド20の筐体の下側に位置するように、補強部材34の延長部及び配線基板36の外周縁部において、複数のねじ部材(図示せず)により、カードホルダ22の段部22bに取り付けられている。
カードホルダ22は、検査ステージ18に対するカードホルダ22の傾きを変更するカード支持機構(図示せず)を介して、試験装置10のフレーム又は筐体に取り付けられている。
前記したカード支持機構は、試験に先だって、特に1ロット分の試験又は1つの被検査体の試験に先だって、カード制御部24により制御されて、検査ステージ18に対するカードホルダ22、ひいてはプローブカード16の高さ又は傾きを変更する。これにより、プローブカード16は、接触子14の針先により形成される仮想的な針先面がチャックトップ76に受けられたウエーハ12に対し、所定の高さ位置となるように、位置決められる。
上記のようなカード支持機構は、例えば、特開2002−14047号、特開2007−183194号等の公報に記載されている。
検査ステージ18は、ウエーハ12を解除可能に真空的に吸着するステージ、すなわちチャックトップ76と、プローブカード16に対しチャックトップ76を、前後方向、左右方向及び上下方向に三次元的に移動させると共に、上下方向へ伸びるθ軸線の周りに角度的に回転移動させるチャックトップ移動機構78とを備えている。
検査ステージ18は、ステージ移動機構(図示せず)によりプローブカード16に対し前後及び左右の方向へ移動される。これにより、検査ステージ18は、ウエーハ12を試験する間は前後及び左右の方向への移動を防止されるが、試験すべき1ロット分のウエーハ12の交換のために、ステージ移動機構により前後及び左右の方向へ移動される。
また、検査ステージ18は、1ロット分のウエーハ12の試験の間、1つのウエーハの試験を終了するたびに、試験すべきウエーハ12の交換のために、上記したステージ移動機構により前後及び左右の方向へ移動される。
上記のようなステージ移動機構を設ける代わりに、チャックトップ移動機構78によるチャックトップ76を前後方向及び左右方向へ移動させる機能を利用してもよい。
ウエーハ12の試験に先だって、チャックトップ移動機構78は、ステージ制御部26により制御されて、チャックトップ76を、三次元的に移動させると共に、θ軸線の周りに角度的に回転移動させる。これにより、チャックトップ76に受けられたウエーハ12は、これに設けられた集積回路の電極が接触子14の針先に対向するように、位置決められる。
試験すべきウエーハ12の交換時、検査ステージ18は、上記したステージ移動機構により前後及び左右の方向へ、待避位置に向けて移動される前に、ウエーハ12が接触子14に接触しない非試験位置に向けてチャックトップ76がチャックトップ移動機構78により下降される。
テストヘッド20は、完成した複数の集積回路を配線基板のような支持基板に配置した複数の回路基板と、これら回路基板を収容するボックスとを備えた既知のものであり、プローブカード16の上方に配置されている。
図示の例では、各回路基板の集積回路は、配線80とコネクタ44とを介して、配線基板36の内部配線46に電気的に接続されている。これにより、各回路基板の集積回路は、実際の試験時に、テスター制御部28により制御されて、ウエーハ12の集積回路に対しプローブカード16を介して試験信号を受け渡す。
加熱電源32は、セラミック基板56に設けられた温度ヒューズ82を介して、給電路70に加熱電力を供給する。図示してはいないが、温度ヒューズ82は、加熱電源32から給電路70までの加熱用電流の供給路に配置されている。
温度ヒューズ82は、一般的な電気的ヒューズと同様に、セラミック基板56の温度が許容値を超えると、断線して、加熱電源32と給電路70との間の加熱電力の供給路を遮断する。これにより、プローブカード16の安全性が維持される。
加熱電源32は、プローブカード16専用のものとしてもよい。そのようにすれは、上記した試験装置10、特にプローブカード16を既存の試験装置に容易に適用することができる。しかし、テスターの電源回路のようにプローブカード16専用の以外の回路を加熱電源として用いてもよい。
プローブカード16は、また、プローブ基板40、特にセラミック基板56の上面に配置された温度センサ84及び過熱防止部材86と、プローブ基板40、特に多層シート54の下面に設けられたステージセンサ88とを含む。これらのセンサ84,88及び部材86は、ヒーター制御部30に接続されている。
温度センサ84は、プローブカード16、特にプローブ基板56の温度を検出し、プローブ基板56の温度に対応する電気信号をヒーター制御部30に供給する。ヒーター制御部30は、温度センサ84からの信号を基に、所定の加熱電力を出力するように、加熱電源32を制御する。
過熱防止部材86は、ICリレー、半導体リレー、トランジスタ等の回路遮断部材であり、また加熱電力の供給路に配置されている。ヒーター制御部30は、温度センサ84からの信号を基に、プローブ基板56の温度が許容値を超えているか否かを判定し、超えているとき、過熱防止部材86を作動させて、加熱電力の供給路を遮断させる。
温度ヒューズ82、過熱防止部材86として、上記のような回路遮断部材を用いる代わりに、バイメタルのような回路遮断部材を用いてもよい。この場合、プローブ基板56の温度が回路遮断部材により定まる許容値を超えると、その回路遮断部材自体が開路して、加熱電力の供給路を遮断する。このときの回路遮断部材が開路したことはヒーター制御部30において確認される。
過熱防止部材86が上記いずれであっても、プローブカード16の安全性が維持される。これにより、プローブカード16の安全性は、プローブ基板56の温度が許容値を超えたことにより温度ヒューズ82が開路して、加熱電力の供給路が遮断されることと相まって、2重に高くなる。
ヒーター制御部30は、プローブ基板56の温度が許容値を超えているとき、加熱電源32に加熱電力の供給を遮断させる信号を出力する。そのようなヒーター制御部30の機能は、プローブカード16の安全性をさらに高める。
ステージセンサ88は、検査ステージ18、特にチャックトップ76がプローブ基板40の近傍(特に、下方)に位置するか否かの判定に用いる電気信号を発生し、その電気信号をヒーター制御部30に出力する。
ステージセンサ88として、プローブ基板40とチャックトップ76との間の電気的容量を検出する容量センサを用いることができる。しかし、ステージセンサ88として、容量センサ以外のセンサ、例えば、リミットスイッチ、エリアセンサ、ラインセンサ等,他のセンサを用いてもよい。
発熱体62への通電は、チャックトップ76がプローブカード16の下方に存在しないとき、チャックトップ76がプローブカード16の下方に移動されるとき、ウエーハ12に試験用電気信号が供給されていないとき等、未試験の間の任意な期間に行ってもよいし、ウエーハ12に試験用電気信号を供給している実試験の間の任意な期間に行ってもよい。
チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在するか否か、集積回路の試験中であるか否か、及びプローブカード16が所定の温度を有するか否かに応じて、発熱体62に供給する加熱電力の量が調整されて、プローブカード16の温度が調整される。その結果、プローブカード16は効果的に加熱される。
テスター制御部28は、検査ステージ18、特に、チャックトップ76がプローブカード16(特に、プローブ基板40)の近傍(特に、下方)に存在するか否か、集積回路に対し試験信号の授受を行っているか(試験中であるか)否か、及びプローブカード16(特に、プローブ基板40)が所定の温度を有するか否かを判定し、その判定結果に応じて発熱体62に供給する加熱電力を調整する。
チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在するか否かの判定は、センサ88の出力信号を用いて行うことができる。また、試験中であるか否かの判定は、テスター制御部28自身が試験信号の授受を行っているか否かにより行うことができる。さらに、プローブカード16が所定の温度を有するか否かの判定は、センサ84の出力信号を用いて行うことができる。
テスター制御部28による加熱電力の具体的な調整は、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在するか否かの判定、試験中であるか否かの判定、及びプローブカード16が所定の温度を有するか否かの判定の、いずれか1つ、2つの組合せ、及び3つの組合せのいずれかに基づいて行ってもよい。
以下に、テスター制御部28による加熱電力の制御方法(すなわち、調整方法)について説明する。但し、括弧内に一例を示す。
[1つの判定結果による例]
形態 判定及び結果 加熱電力の調整
1A: 近傍か? N 所定の値(所定の温度に加熱又は維持する値)
1B: 近傍か? Y 適宜な値(1Aより小さい値、零を含む)
2A: 試験中か? N 適宜な値(所定の温度に加熱又は維持する値)
2B: 試験中か? Y 適宜な値(2Aより小さい値、零を含む)
3A: 適正温度か? N 適宜な値(所定の温度に加熱又は維持する値)
3B: 適正温度か? Y 調整不要にため適宜な値(零を含む)
[2つの判定結果の組合せによる例]
形態 判定 及び 結果 加熱電力の調整
4A: 近傍Y+試験中Y 適宜な値(4Bより小さい値、零を含む)
4B: 近傍Y+試験中N 適宜な値(4Dより小さい値、零を含む)
4C: 近傍N+試験中Y 適宜な値(実際には存在しない)
4D: 近傍N+試験中N 所定の値(所定の温度に加熱又は維持する値

5A: 近傍Y+適正温度Y 調整不要のため適宜な値、零を含む
5B: 近傍Y+適正温度N 適宜な値(5Dより小さい値、零を含む)
5C: 近傍N+適正温度Y 調整不要のため適宜な値、零を含む
5D: 近傍N+適正温度N 所定の値(所定の温度に加熱又は維持する値)

6A: 試験中Y+適正温度Y 調整不要のため適宜な値(零を含む)
6B: 試験中Y+適正温度N 適宜な値(6Dより小の値、零を含む)
6C: 試験中N+適正温度Y 調整不要のため適宜な値(零を含む)
6D: 試験中N+適正温度N 所定の値(所定の温度に加熱する値)
[3つの判定結果の組合せによる例]
形態 判定 及び 結果 加熱電力の調整
7A: 近傍Y+試験中Y+適正温度Y 調整不要のため適宜な値(零を含む)
7B: 近傍Y+試験中Y+適正温度N 適宜な値(7Gより小さい値、零を含む)
7C: 近傍Y+試験中N+適正温度Y 調整不要のため適宜な値(零を含む)
7D: 近傍Y+試験中N+適正温度N 所定の温度に加熱する値
7E: 近傍N+試験中Y+適正温度Y 適宜調整(実際には存在しない)
7F: 近傍N+試験中Y+適正温度N 適宜な値(実際には存在しない)
7G: 近傍N+試験中N+適正温度Y 調整不要のため適宜な値(零を含む)
7H: 近傍N+試験中N+適正温度N 所定の温度に加熱する値
テスター制御部28による加熱電力の制御方法のより具体例を以下に説明する。
(1)テスター制御部28は、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しないときは、発熱体62に加熱電力を供給し、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在するときは、加熱電力の供給量を適宜な値、例えばチャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しないときの供給量より小さい値に調整する。その結果、プローブカード16はより効果的に加熱される。
(2)テスター制御部28は、試験中であるときは、加熱電力の供給量をチャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しないときの供給量より小さい値に調整する、特に零にする。その結果、加熱電力による試験信号への影響が小さくなる。
(3)テスター制御部28は、プローブカード16の温度が適正でないとき、発熱体62への加熱電力の供給量を適宜な値、例えばチャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しないときの供給量より小さい値に調整する。これによっても、加熱電力による試験信号への影響が小さくなる。
(4)テスター制御部28は、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しないときと、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在するが、試験中でないときとに、発熱体62に加熱電力を供給する。
(5)テスター制御部28は、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しかつ試験中であるとき、加熱電力の供給量を前記検査ステージが前記プローブカードの近傍に存在しないときの供給量より小さい値に調整する、特に零にする。
(6)テスター制御部28は、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しないとき、発熱体62に加熱電力を供給し、チャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在し、かつ試験中であり、さらにプローブカード16の温度が適正でないとき、加熱電力の供給量を適宜な値、例えばチャックトップ76がプローブカード16の近傍に存在しないときの供給量より小さい値に調整する。
各発熱層58の発熱体62は、加熱電力が供給されることにより、半径方向における各部位で発熱する。これにより、セラミック基板56、ひいてはプローブ基板40は、半径方向及び上下方向における各部位において加熱されて、短時間で所定の温度に上昇される。
上記の結果、プローブ基板40の熱膨張量が短時間でウエーハ12上の集積回路の熱膨張量に等しくなる温度にプローブ基板40が短時間で加熱されて、試験効率が著しく向上する。
上記のようにプローブ基板56を短時間で所定の温度に上昇させることができる利点は、特に、プローブ基板56の温度が所定の温度より低い場合に有効である。
例えば、チャックトップ76がプローブカード16の下方に存在していないと、プローブ基板16の温度は、チャックトップ76がプローブカード16の下方に移動されるまでの間に所定の値より低い値に低下される。
上記のような場合、ウエーハ12上の集積回路の試験は、プローブ基板40の熱膨張量が集積回路の熱膨張量とほぼ同じになるまで、停止しなければならい。この試験停止期間は、試験効率に大きく影響する。
しかし、チャックトップ76及びプローブカード16によれば、既に述べたように、プローブ基板40の熱膨張量が短時間でウエーハ12上の集積回路の熱膨張量に等しくなる温度にプローブ基板40が短時間で加熱されるから、試験停止期間が著しく短縮される。
一筆書き状及び同心円状に形成されたパターンの形状を有する発熱体62を用いる代わりに、渦巻き状のパターンの形状を有する発熱体を用いてもよいし、複数の部分に分割された同心円状(又は、渦巻き状)のパターンの形状を有する発熱体62を用いてもよい。
また、上下方向に隣り合う発熱層58のパターンを、同心円又は渦巻きの中心軸線の周りに角度的に変位させてもよい。そのようにすれば、プローブ基板40は、同心円又は渦巻きの中心軸線の周りの各部位において均一に加熱される。
発熱体62によるプローブ基板40の各部位、特に半径方向における各部位の加熱をより均一にするために、発熱体62の各部位の幅寸法又は配置ピッチを半径方向において異なる値にしてもよい。
次に、図4を参照して、試験装置10によるプローブカード16の加熱方法について、さらに説明する。
以下の説明では、チャックトップ76がプローブ基板40の下方に位置されているものとして説明する。それゆえに、チャックトップ76がプローブ基板40の近傍に存在していない間は、所定の値を有する加熱電力が発熱体62に供給される。
先ず、試験装置10は、1ロット分の試験の開始に先だって、発熱体62に加熱電力を供給して、プローブカード16を予備加熱する(ステップ100)。このときの加熱電力は、プローブカード16を急速に加熱する値とされる。
次いで、試験装置10は、プローブカード16が所定の温度に達したか否かの判定をし(ステップ101)、所定の温度に達していないと、ステップ100に戻る。
しかし、ステップ101の判定の結果、所定の温度に達していると、試験装置10は、チャックトップ76をチャックトップ移動機構78により移動させて、接触子14の針先がウエーハ12上の集積回路の電極に対向させる、いわゆるアライメントを実行する(ステップ102)。
次いで、この間も、発熱体62への加熱電力の供給が継続される(ステップ103)。このときの加熱電力は、プローブカード16を所定の温度に維持する値、例えば、ステップ101における値より小さい値とされる。
次いで、プローブカード16が所定の温度に達したか否かの判定が再度行われ(ステップ104)、所定の温度に達していないと、ステップ103に戻る。
しかし、所定の温度に達していると、試験装置10は、チャックトップ76に受けられているウエーハ12上の集積回路の電気的試験を実行する(ステップ105)。
ステップ105において、発熱体62への加熱電力の供給は、プローブカードの温度に応じて、停止される、ステップ100又は102における値より小さい値に維持される。これにより、加熱電力が試験信号に与える影響が小さくなる。
次いで、試験装置10は、1ロット分のウエーハ12についての試験が終了したか否かを判定する(ステップ106)。
1ロット分の終了していないと、試験装置10は、試験すべきウエーハ12を交換し(ステップ107)、その後ステップ103に戻る。
しかし、1ロット分の試験が終了していると、試験装置10は、そのロットについての試験を終了し、次のロットのウエーハ12についての試験を準備する(ステップ108)。
次のロットのウエーハ12についての試験の準備が完了すると、試験装置10は、ステップ102に戻る。また、全てのロットについての試験が完了すると、動作を終了する。
ステップ100から108において、発熱体62への加熱電力の供給は、プローブカード16の温度、試験中であるか否か等に応じて、ステップ100から104の間、及びステップ105から108の間に行われる。
そのような加熱電力の制御、調整は、上記した(1)から(7)のように行うことができる。
発熱層58は、かならずしも多層である必要はなく、単層であってもよい。また発熱層58をセラミック基板56以外の基板に設けてもよい。さらに、図示の例のようなパターン形状を有する発熱体62を用いる代わりに、他の形状又は構造を有する発熱体を用いてもよい。
また、チャックトップ76の一部のみがプローブカード16の下側に位置する場合において、プローブカード16に対するチャックトップ76の位置を正確に検出するために、複数の温度ヒューズ82、複数の温度センサ84、複数の過熱防止部材86及び複数のステージセンサ88をそれぞれ設けてもよい。特に、複数の温度センサ84又は複数のステージセンサ88を設けることが好ましい。
図示の例では、温度ヒューズ82、温度センサ84、過熱防止部材86及びステージセンサ88をセラミック基板56の上面又は下面に設けているが、それら又はそれらの少なくとも1つをセラミック基板56内に配置してもよい。
図示の例では、また、温度ヒューズ82、温度センサ84、過熱防止部材86及びステージセンサ88を備えているが、それらのうち、1つ又は2つを備え、それらの少なくとも1つをセラミック基板56に配置してもよい。
本発明においては、要するに、温度センサ84及びステージセンサ88のいずれか一方、又はそれら両センサ84,88を備え、それらいずれか一方の出力信号、それらいずれか一方の出力信号と試験中であるか否か、それら両出力信号と試験中であるか否かを用いて加熱電力を制御してもよい。
本発明は、上記実施例に限定されず、その趣旨を逸脱しない限り、種々変更することができる。
プローブカードを用いた試験装置の一実施例を示す図である。 図1に示す試験装置で用いるプローブカードの一実施例を示す断面図である。 図2に示すプローブカードで用いるセラミック基板の一実施例を示す分解斜視図である。 図1に示す試験装置によるプローブカードの加熱方法を説明するための図である。
符号の説明
10 試験装置
12 半導体ウエーハ
14 接触子
16 プローブカード
18 検査ステージ
20 テストヘッド
22 カードホルダ
34 補強部材
36 配線基板
38 電気接続器
40 プローブ基板
42 カバー
54 多層シート
56 セラミック基板
58 発熱層
60 導電層
62 発熱体
64,68 セラミック層
66 配線
70 給電路
72 導電路

Claims (20)

  1. 集積回路の電気的試験をする方法であって、
    前記集積回路を受けるチャックトップが前記集積回路に対し電気信号の授受を行うプローブカードの近傍に存在するか否かを判定する第1のステップと、
    該第1のステップにおける判定結果に応じて前記プローブカードに備えられた発熱体に供給する加熱電力を調整する第2のステップとを含む、集積回路の試験方法。
  2. 前記第1のステップは、前記プローブカード又は前記チャックトップに設けられたセンサの出力信号を基に行われることを含む、請求項1に記載の試験方法。
  3. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在しないとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を所定の値に調整することを含む、請求項1及び2のいずれか1項に記載の電気的試験方法。
  4. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在しないときの値より小さい値に調整することを含む、請求項1及び2のいずれか1項に記載の電気的試験方法。
  5. 前記第1のステップは、さらに、前記集積回路が試験中であるか否かを判定することを含む、請求項1及び2のいずれか1項に記載の電気的試験方法。
  6. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在し、前記試験中であるとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在し、試験中でないときの供給量より小さい値に調整することを含む、請求項5に記載の電気的試験方法。
  7. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せずかつ前記試験中でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含む、請求項5に記載の電気的試験方法。
  8. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在し、前記試験中でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せず前記試験中でないときの値より小さい値に調整することを含む、請求項5に記載の電気的試験方法。
  9. 前記第1のステップは、さらに、前記プローブカードが所定の温度を有するか否かを判定することを含む、請求項1及び2のいずれか1項に記載の電気的試験方法。
  10. 前記第2のステップは、前記プローブカードが所定の温度であるとき、前記発熱体に供給する前記加熱電力を零に調整することを含む、請求項9に記載の電気的試験方法。
  11. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せずかつ前記プローブカードが所定の温度でないときに、前記発熱体への前記加熱電力を所定の値に調整することを含む、請求項9に記載の電気的試験方法。
  12. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するが、適正温度でないときに、前記発熱体への前記加熱電力の供給量を前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せず前記適正温度でないときの値より小さな値に調整することを含む、請求項9に記載の電気的試験方法。
  13. 前記第1のステップは、さらに、前記試験中であるか否か、及び前記温度が適正であるか否かを判定することを含む、請求項1及び2のいずれか1項に記載の電気的試験方法。
  14. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在し、前記試験中でなくかつ前記適正温度でないときに、前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含む、請求項13に記載の電気的試験方法。
  15. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せず、かつ試験中でなく、さらに前記適正温度でないとき、前記加熱電力の供給量を所定の値に調整することを含む、請求項13に記載の電気的試験方法。
  16. 前記第2のステップは、前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在し、かつ試験中であり、さらに前記適正温度でないとき、前記加熱電力の供給量を前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在せず、試験中でなくかつ前記適正温度であるときの前記発熱体への前記加熱電力の供給量より小さい値に調整することを含む、請求項13に記載の電気的試験方法。
  17. さらに、前記加熱電力を前記プローブカード用の電源回路及び前記プローブカード用以外の電源回路から選択される電源回路から供給することを含む、請求項1から16のいずれか1項に記載の電気的試験方法。
  18. 集積回路を試験する装置であって、
    複数の導電路及び給電路を有するプローブ基板、並びに該プローブ基板の一方の面に配置されて前記導電路に電気的に接続された複数の接触子を含むプローブカードと、
    前記集積回路が配置されるチャックトップであって、受けた集積回路が、前記プローブカードと対向し該プローブカードの接触子に接触する試験位置と、受けた集積回路が前記プローブカードと対向し該プローブカードの接触子に接触しない非試験位置と、受けた集積回路が前記プローブカードと対向しない前記集積回路の交換のための退避位置とに移動可能のチャックトップと、
    前記給電路を介して供給される加熱電力により発熱するように前記プローブ基板に配置された発熱体と、
    前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に位置するか否かの判定に用いる電気信号を出力する第1のセンサと、
    前記プローブカードに供給する試験用信号を制御すると共に、前記発熱体に供給する加熱電力を制御する制御装置であって、前記第1のセンサの出力信号を基に前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否かを判定し、当該判定の結果に応じて、前記加熱電力の供給量を調整する制御装置とを含む、集積回路の電気的試験装置。
  19. 請求項18に記載の集積回路を試験する装置であって、
    前記制御装置は、さらに、前記試験用信号が前記集積回路に供給されているか否かを判定し、当該判定の結果及び前記第1のセンサの出力信号を基に前記チャックトップが前記プローブカードの近傍に存在するか否かの前記判定結果の両判定結果に応じて、前記加熱電力の供給量を調整する、集積回路の電気的試験装置。
  20. 請求項19に記載の集積回路を試験する装置であって、
    さらに、前記プローブカードの温度を検出すべく前記プローブカードに配置された第2のセンサを含み、
    前記制御装置は、前記第2のセンサの出力信号を基に前記プローブカードが所定の温度を有するか否かを判定し、当該判定の結果及び前記両判定結果に応じて、前記加熱電力の供給量を調整する、集積回路の電気的試験装置。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8927909B2 (en) * 2010-10-11 2015-01-06 Stmicroelectronics, Inc. Closed loop temperature controlled circuit to improve device stability
KR101460565B1 (ko) 2011-05-31 2014-11-13 세메스 주식회사 베젤 온도 제어 장치
TWM436227U (en) * 2012-03-23 2012-08-21 Mpi Corp Heating point testing appliances
JP5904638B2 (ja) * 2012-04-11 2016-04-13 株式会社日本マイクロニクス 多層配線基板とその製造方法
CN103454571B (zh) * 2012-05-30 2017-10-27 富泰华工业(深圳)有限公司 测试系统、测试方法以及使用该测试系统的测试设备
KR102077062B1 (ko) 2013-02-25 2020-02-13 삼성전자주식회사 프로브 카드 및 이를 포함하는 프로빙 장치
JP6259590B2 (ja) 2013-06-12 2018-01-10 株式会社日本マイクロニクス プローブカード及びその製造方法
JP6209376B2 (ja) * 2013-07-08 2017-10-04 株式会社日本マイクロニクス 電気的接続装置
JP6209375B2 (ja) * 2013-07-08 2017-10-04 株式会社日本マイクロニクス 電気的接続装置
US9678109B2 (en) * 2014-01-09 2017-06-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Probe card
TWI664130B (zh) * 2016-01-29 2019-07-01 旺矽科技股份有限公司 晶圓匣
JP6782103B2 (ja) * 2016-06-21 2020-11-11 株式会社日本マイクロニクス プローブカード、検査装置および検査方法
US11307223B2 (en) * 2019-04-25 2022-04-19 Tokyo Electron Limited Inspection device and method of controlling temperature of probe card
JP7281981B2 (ja) * 2019-06-27 2023-05-26 東京エレクトロン株式会社 プローバおよびプローブカードのプリヒート方法
JP2022091378A (ja) * 2020-12-09 2022-06-21 東京エレクトロン株式会社 電源および検査装置
KR20220146304A (ko) 2021-04-23 2022-11-01 삼성전자주식회사 전원변환부를 갖는 프로브 카드 및 이를 포함하는 테스트 시스템

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE1000697A6 (fr) 1987-10-28 1989-03-14 Irish Transformers Ltd Appareil pour tester des circuits electriques integres.
JPH04359445A (ja) 1991-06-05 1992-12-11 Fujitsu Ltd 温度試験用プロービング装置
JP4010747B2 (ja) 2000-06-28 2007-11-21 株式会社日本マイクロニクス 表示用パネルの検査装置
JP4173306B2 (ja) 2001-11-30 2008-10-29 東京エレクトロン株式会社 信頼性評価試験装置、信頼性評価試験システム及び信頼性評価試験方法
JP2005072143A (ja) 2003-08-21 2005-03-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローブ装置
JP4592292B2 (ja) 2004-01-16 2010-12-01 株式会社日本マイクロニクス 電気的接続装置
JP4589710B2 (ja) * 2004-12-13 2010-12-01 株式会社日本マイクロニクス プローバ
JP2007183193A (ja) * 2006-01-10 2007-07-19 Micronics Japan Co Ltd プロービング装置
JP2007183194A (ja) 2006-01-10 2007-07-19 Micronics Japan Co Ltd プロービング装置
JP2007208138A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Mitsumi Electric Co Ltd 半導体装置の検査方法
JP2008128838A (ja) 2006-11-21 2008-06-05 Shinko Electric Ind Co Ltd プローブ装置
JP2008145238A (ja) 2006-12-08 2008-06-26 Micronics Japan Co Ltd 電気接続器及びこれを用いた電気的接続装置

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