JP5254308B2 - 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 - Google Patents
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Description
(第1の実施の形態)
始めに、図1を参照し、本発明の第1の実施の形態に係る液処理装置の概略構成について説明する。
τ〜2×L2/D (1)
ただし
L:穴部の形状により決定される一定の数
D:拡散係数
に示すように、拡散係数Dに逆比例する。
DAB=7.4×10−8×(ΨBMB)0.5×T/(μ×VA 0.6) (2)
ただし、
ΨB:溶媒Bの会合度
MB:溶媒Bの分子量
T:絶対温度
μ:溶媒Bの粘度
VA:標準沸点における溶質Aの分子容量
に示すWilke-Changの式で説明されるように、絶対温度Tに比例する。
(第1の実施の形態の第1の変形例)
次に、図8を参照し、本発明の第1の実施の形態の第1の変形例に係る液処理方法について説明する。
(第1の実施の形態の第2の変形例)
次に、図9及び図10を参照し、本発明の第1の実施の形態の第2の変形例に係る液処理方法について説明する。
(第2の実施の形態)
次に、図11を参照し、本発明の第2の実施の形態に係る液処理装置の概略構成について説明する。
30 回転プレート
40 保持部材
70 処理液供給機構
80 リンス液供給機構
90 有機溶剤供給機構
112 発光素子
200 制御部
Claims (14)
- 基板を処理液により処理する液処理装置において、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持されている基板に処理液を供給する処理液供給部と、
前記基板にリンス液を供給するリンス液供給部と、
前記基板のみが吸収する波長領域の光を発光し、発光した光を前記基板に照射する発光素子と
を有し、
前記基板は、該基板の表面に穴部又はパターンを形成され、
前記発光素子は、前記波長領域の光を用いて前記基板を加熱することによって前記穴部又はパターンの内部の処理液を加熱し、その結果、加熱された処理液の拡散係数を増加させて該加熱された処理液と前記リンス液との混合を促進する、
ことを特徴とする液処理装置。 - 前記基板保持部と、前記処理液供給部と、前記リンス液供給部と、前記発光素子とを制御する制御部を有し、
前記制御部は、
前記基板に、前記処理液供給部により処理液を供給し、処理液を供給した前記基板に、前記リンス液供給部によりリンス液を供給し、リンス液を供給した前記基板を乾燥させるように制御するとともに、
少なくともリンス液を供給する際の一期間において、前記発光素子により発光された光を前記基板に照射するように制御するものである、請求項1に記載の液処理装置。 - 前記基板保持部を回転する回転駆動部を更に有し、
前記回転駆動部は、前記基板保持部を回転することによって該基板保持部に保持されている基板を回転し、
前記制御部は、前記回転駆動部を用いて、前記基板に前記処理液を供給するときに前記基板保持部を回転する速度より、前記基板に前記リンス液を供給するときに前記基板保持部を回転する速度を小さくする、
請求項2に記載の液処理装置。 - 前記制御部は、前記基板にリンス液を供給する際に、一定時間リンス液を供給した後、前記発光素子による光の照射を開始するように制御するものである、請求項2又は請求項3に記載の液処理装置。
- 前記基板は、シリコン基板であり、
前記発光素子により発光された光は、400〜1000nmの波長領域にピーク波長を有するものである、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記基板に有機溶剤を供給する有機溶剤供給部を有し、
前記制御部は、
前記有機溶剤供給部を制御するものであって、
リンス液を供給した前記基板に、前記有機溶剤供給部により有機溶剤を供給し、供給した有機溶剤によりリンス液を除去した後、前記基板を乾燥させるように制御するとともに、
前記基板に有機溶剤を供給する際に、前記発光素子により発光された光を前記基板に照射するように制御するものである、請求項2乃至請求項4のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記制御部は、前記基板に処理液を供給する前に、前記発光素子により発光された光を前記基板に照射するように制御するものである、請求項2乃至請求項4のいずれか一項又は請求項6に記載の液処理装置。
- 基板を処理液により処理する液処理方法において、
基板保持部に保持されている基板に、処理液供給部により処理液を供給する処理液供給工程と、
処理液を供給した前記基板に、リンス液供給部によりリンス液を供給するリンス液供給工程と、
リンス液を供給した前記基板を乾燥させる乾燥工程と
を有し、
少なくとも前記リンス液供給工程の一期間において、発光素子により発光された、前記基板のみが吸収する波長領域の光を前記基板に照射して前記基板を加熱することによって、前記基板の表面に形成された穴部又はパターンの内部の処理液を加熱し、その結果、加熱された処理液の拡散係数を増加させて該加熱された処理液と前記リンス液との混合を促進する、
ことを特徴とする、液処理方法。 - 前記処理液供給工程及び前記リンス液供給工程は、前記処理液又は前記リンス液を供給しているときに、前記基板保持部を回転する回転駆動部を用いて、前記基板保持部を回転することによって該基板保持部に保持されている基板を回転し、
前記処理液供給工程の前記回転駆動部によって回転する速度より、前記リンス液供給工程の該基板保持部によって回転する速度を小さくする、
請求項8に記載の液処理方法。 - 前記リンス液供給工程において、前記基板に一定時間リンス液を供給した後、前記発光素子による光の照射を開始する、請求項8又は請求項9に記載の液処理方法。
- 前記基板は、シリコン基板であり、
前記発光素子により発光された光は、400〜1000nmの波長領域にピーク波長を有するものである、請求項8乃至請求項10のいずれか一項に記載の液処理方法。 - 前記乾燥工程は、リンス液を供給した前記基板に、有機溶剤供給部により有機溶剤を供給し、供給した有機溶剤によりリンス液を除去した後、前記基板を乾燥させるものであり、
前記乾燥工程において、前記基板に有機溶剤を供給する際に、前記発光素子により発光された光を前記基板に照射する、請求項8乃至請求項11のいずれか一項に記載の液処理方法。 - 前記処理液供給工程の前に、前記発光素子により発光された光を前記基板に照射する、請求項8乃至請求項12のいずれか一項に記載の液処理方法。
- コンピュータに請求項8乃至請求項13のいずれか一項に記載の液処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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