JP5249947B2 - ノイラミン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
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Description
[W法]
(1)収率の低い工程が含まれるため通算収率が低い[化合物(Ia)の通算収率:0.2%];
(2)ヒドロキシ基のメチル化反応において副反応としてアセトアミド基のN−メチル化が起こる[化合物(IVb)の製造工程];
(3)効率の悪い酵素反応を含む[化合物(IVd)の製造工程];
(4)危険性の高い高温でのアジド化反応を含む[化合物(IVg)の製造工程];または、
(5)アシル化反応において、(a)カルボキシル基の保護が必要である、(b)2,3−ジアシル体が副生する、および、(c)試薬由来のオクタン酸を除去するためにシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製が必要である[化合物(IVk)の製造工程];
[Y法]
(1)収率の低い工程が含まれるため通算収率が低い[化合物(Va)の収率:34%、および、化合物(Va)から化合物(IIIa)までの通算収率:10乃至23%;計3乃至8%];
(2)効率の悪い酵素反応を含む[化合物(IVd)の製造工程];または、
(3)危険性の高い高温でのアジド化反応を含む[化合物(IVg)の製造工程];
[Z法]
(1)収率の低い工程が含まれるため通算収率が低い[化合物(VIa)の収率:35%,および、化合物(VIa)から化合物(IIIa)までの通算収率:1乃至33%;計0.4乃至12%];
(2)高価なシリル保護基を用いる;
(3)ヒドロキシ基のメチル化反応において副反応としてアセトアミド基のN−メチル化が起こる[化合物(VIb)の製造工程];または、
(4)危険性の高い高温でのアジド化反応を含む[化合物(IVg)の製造工程]。
[1]式(4)
[2]式(4)を有する化合物を、式(5)を有する化合物と反応させることによる、式(7)を有する化合物の製造方法であって、R3が、メチル基であり、R4およびR5が一緒となって、オキソ基を形成し、式(5)を有する化合物が、ジメチルカルボナートである[1]に記載された製造方法、
[3]式(7)
[4]R3が、メチル基であり、R4およびR5が一緒となって、オキソ基を形成する[3]に記載された化合物、
[5]式(8)
[6]R2が、メチル基であり、R3が、メチル基であり、R4およびR5が一緒となって、オキソ基を形成し、ルイス酸が、チタン(IV)イソプロポキシドである[5]に記載された製造方法、
[7]式(12)
[8]R2が、メチル基である[7]に記載された製造方法、
[9]式(13)
[10]R2が、メチル基である[9]に記載された化合物、
[11]式(13)
[12]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基であり、R7が、メチル基である[11]に記載された製造方法、
[13]式(13)
式(I)
[14]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基であり、R7が、メチル基であり、Xが、Clである[13]に記載された製造方法、
[15][2]、[6]、および、[8]のいずれかに記載された製造方法の少なくとも一つを反応工程の一部に含む、式(Ib)
[16][4]および[10]のいずれかに記載された化合物の少なくとも一つを経由する、式(Ib)
[17]化学純度が97重量%以上である式(I)
[18]化学純度が99重量%以上である[17]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[19]化学純度が99.5重量%以上である[17]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[20]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[17]乃至[19]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[21]式(VII)
[22]式(VII)を有する化合物を、0.3重量%以下の量で含む[21]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[23]式(VII)を有する化合物を、0.1重量%以下の量で含む[21]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[24]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[21]乃至[23]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[25]式(VIII)
[26]式(VIII)を有する化合物を0.3重量%以下の量で含む[25]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[27]式(VIII)を有する化合物を0.1重量%以下の量で含む[25]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[28]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[25]乃至[27]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[29]式(13)
[30]式(13)を有する化合物を0.3重量%以下の量で含む[29]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[31]式(13)を有する化合物を0.1重量%以下の量で含む[29]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[32]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[29]乃至[31]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[33]式(I)を有する化合物および式(II)を有する化合物の組成比が、重量比で90:10乃至100:0である[17]乃至[32]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[34]式(I)を有する化合物および式(II)を有する化合物の組成比が、重量比で92:8乃至100:0である[17]乃至[32]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[35]式(I)を有する化合物および式(II)を有する化合物の組成比が、重量比で95:5乃至100:0である[17]乃至[32]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[36]式(15)
式R1C(OR7)3
[式中、R1は、C1−C19アルキル基を示し、R7は、C1−C6アルキル基を示す]を有する化合物の製造方法、
[37]二層系を形成する溶媒が、炭化水素類である[36]に記載された製造方法、
[38]二層系を形成する溶媒が、シクロヘキサンまたはメチルシクロヘキサンである[36]に記載された製造方法、または、
[39]R1が、1−ヘプチル基であり、R7が、メチル基であり、Xが、Clである[36]乃至[38]のいずれかに記載された製造方法、
[40][17]乃至[35]のいずれかに記載の化合物またはその薬理上許容される塩を有効成分として含有するインフルエンザの治療及または予防用組成物、
[41]式(13)
[42]化学純度が99重量%以上である、[41]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[43]化学純度が99.5重量%以上である、[41]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[44]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[41]乃至[43]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[45]式(13)
[46]式(VII)を有する化合物を0.3重量%以下の量で含む[45]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[47]式(VII)を有する化合物を0.1重量%以下の量で含む[45]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[48]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[45]乃至[47]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[49]式(13)
[50]式(VIII)を有する化合物を0.3重量%以下の量で含む[49]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[51]式(VIII)を有する化合物を0.1重量%以下の量で含む[49]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[52]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[49]乃至[51]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物、
[53]式(13)
[54]式(13)を有する化合物を0.3重量%以下に量で含む[53]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、
[55]式(13)を有する化合物を0.1重量%以下の量で含む[53]に記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物またはその薬理上許容される塩、または
[56]R1が、1−ヘプチル基であり、R2が、メチル基である[53]乃至[55]のいずれかに記載された式(II)を有する化合物を含有してもよい式(I)を有する化合物
を提供する。
カラム:L-column ODS(4.6mmID×25cm、粒子径5μm、化学物質評価研究機構製)
カラム温度:30℃
測定波長:210nm
移動相:
A:0.1% PIC B−7(Low UV、Waters社製)水溶液/アセトニトリル(9/1、v/v)
B:0.1mol/l リン酸塩緩衝液(pH3.0)/アセトニトリル(7/3、v/v)
[ただし、0.1mol/l リン酸塩緩衝液(pH3.0)は、0.1mol/l リン酸二水素カリウム水溶液に、0.1mol/l リン酸を加え、pHを3.0に調製した緩衝液を示す]
グラジエント条件:
__________________________
時間(分) 移動相A(%) 移動相B(%)
 ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄
0−3 100 0
3−23 100→0 0→100
23−90 0 100
 ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄ ̄
流速:1ml/分
試料濃度:約1g/l
注入量:20μl
ピークを検出する範囲:0分から化合物(I)の保持時間の約1.2倍の時間まで
カラム:L-column ODS(4.6mmID×25cm、粒子径5μm、化学物質評価研究機構製)
カラム温度:30℃
測定波長:210nm
移動相:0.1mol/l リン酸塩緩衝液(pH3.0)/アセトニトリル(23/17、v/v)
[ただし、0.1mol/l リン酸塩緩衝液(pH3.0)は、0.1mol/l リン酸二水素カリウム水溶液に、0.1mol/l リン酸を加え、pHを3.0に調製した緩衝液を示す]
流速:1ml/分
試料濃度:約1g/l
注入量:20μl
ピークを検出する範囲:化合物(I)の保持時間の約1.2倍の時間から約18倍の時間まで
化合物(I)の化学純度
= 100−不純物としての化合物のピーク面積比率(%)の和
化合物(I)は、化合物(II)を含有してもよく、化合物(I)が化合物(II)を含有する場合は、化合物(I)および化合物(II)の混合物として化学純度が算出される。
化合物(I)の組成比
= [化合物(I)のピーク面積比率/[化合物(I)のピーク面積比率+化合物(II)のピーク面積比率]]×100
化合物(II)の組成比
= [化合物(II)のピーク面積比率/[化合物(I)のピーク面積比率+化合物(II)のピーク面積比率]]×100
A法は、式(I)を有する化合物[ただし、式(II)を有する化合物を含有してもよい]またはその薬理上許容される塩の製造方法を示す。
A−1工程は、公知の化合物(1)を酸の存在下にて、式R3OHを有するアルコール類と反応させて、化合物(2)を製造する工程である。式R3OHを有するアルコール類は、公知であるか、または、公知の化合物から容易に製造することができ、好適には、メタノールである。
A−2工程は、化合物(2)を酸の存在下にて、無水酢酸と反応させて、化合物(3)を製造する工程である。
A−3工程は、化合物(3)を式NaOR3を有する化合物と反応させて、化合物(4)を製造する工程である。
A−4工程は、化合物(4)を化合物(5)または化合物(6)と反応させて、化合物(7)を製造する工程である。化合物(5)または化合物(6)は、公知であるか、または、公知の化合物から容易に製造することができる。
A−5工程は、化合物(7)を塩基の存在下にて、式(R2O)2SO2を有する化合物と反応させて、化合物(8)を製造する工程である。式(R2O)2SO2を有する化合物は、公知であるか、または、公知の化合物から容易に製造することができる。
A−6工程は、化合物(8)をルイス酸の存在下にて、トリメチルシリルアジドと反応させて、化合物(9)を製造する工程である。
A−7工程は、(A−7a工程)化合物(9)をトリフェニルホスフィンで処理する工程;および、(A−7b工程)A−7a工程で得られた化合物を塩基および水で処理する工程を含む。
使用される溶媒は、好適には、エーテル類またはエステル類であり、より好適には、テトラヒドロフランまたは酢酸エチルであり、最も好適には、テトラヒドロフランである。
使用される塩基は、エステル基の加水分解反応および環状カルボナート基の除去反応を進行させるものであれば限定はなく、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;または、水酸化カルシウム、水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属水酸化物であり得、好適には、アルカリ金属水酸化物であり、より好適には、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであり、最も好適には、水酸化ナトリウムである。
A−8工程は、化合物(10)を化合物(11)と反応させて、化合物(12)を製造する工程である。化合物(11)は、F法にしたがって製造することができる。
A−9工程は、化合物(12)を水と反応させて、化合物(13)を製造する工程である。
A−10工程は、化合物(13)を酸の存在下にて、化合物(14)と反応させて、化合物(I)[ただし、式(II)を有する化合物を含有してもよい]を製造する工程である。化合物(14)は、G法にしたがって製造することができる。
A法における化合物(9)から化合物(12)の製造は、B法にしたがって行うこともできる。
B−1工程は、化合物(9)をトリフェニルホスフィンおよび水を用いて還元して、化合物(16)を製造する工程である。
る。
B−2工程は、化合物(16)を化合物(11)と反応させて、化合物(17)を製造する工程である。
B−3工程は、化合物(17)を塩基で処理して、化合物(12)を製造する工程である。
使用される溶媒は、好適には、アルコール類であり、より好適には、メタノールである。本工程において、水が存在することが好適である。
A法における化合物(8)から化合物(12)の製造は、C法にしたがって行うこともできる。
C−1工程は、化合物(8)を式NaOR3を有する化合物と反応させて、化合物(18)を製造する工程である。
C−2工程は、化合物(18)を酸または塩基の存在下にて、無水酢酸と反応させて、化合物(19)を製造する工程である。
C−3工程は、化合物(19)をルイス酸の存在下にて、トリメチルシリルアジドと反応させて、化合物(20)を製造する工程である。
C−4工程は、化合物(20)をトリフェニルホスフィンおよび水を用いて還元して、化合物(21)を製造する工程である。
C−5工程は、化合物(21)を化合物(11)と反応させて、化合物(22)を製造する工程である。
C−6工程は、化合物(22)を塩基で処理して、化合物(12)を製造する工程である。
A法における化合物(9)から化合物(13)の製造は、D法にしたがって行うこともできる。
D−1工程は、化合物(9)をトリフェニルホスフィンおよび水を用いて還元して、化合物(16)を製造する工程である。
D−2工程は、化合物(16)を化合物(23a)と反応させて、化合物(24)を製造する工程である。
D−3工程は、化合物(24)を塩基で処理して、化合物(13)を製造する工程である。
A法における化合物(10)から化合物(13)の製造は、E法にしたがって行うこともできる。
E−1工程は、化合物(10)を化合物(23a)と反応させて、化合物(13)を製造する工程である。
F法は、化合物(11)の製造方法を示す。
F−1工程は、化合物(23a)を塩基の存在下にて、ジ−t−ブチル ジカルボナート(Boc2O)と反応させて、化合物(25)を製造する工程である。化合物(23a)は、公知であるか、または、公知の化合物から容易に製造することができる。
F−2工程は、化合物(25)を塩基と反応させて化合物(25)のアニオンを発生させ、次いでジ−t−ブチル ジカルボナートと反応させて、化合物(11)を製造する工程である。
G法は、化合物(14)および化合物(15)の製造方法を示す。
G−1工程は、化合物(26)を式HXを有する酸の存在下にて、式R7OHを有する化合物と反応させて、化合物(15)を製造する工程である。化合物(26)は、公知であるか、または、公知の化合物から容易に製造することができる。
G−2工程は、化合物(15)を式R7OHを有する化合物と反応させて、化合物(14)を製造する工程である。
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−グアジノ−6−[(1R,2R)−2−ヒドロキシ−1−メトキシ−2−(オクタノイルオキシ)プロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸[化合物(Ib)]の合成
A−1工程:N−アセチルノイラミン酸メチル
N−アセチルノイラミン酸(340.00g)にオルトギ酸トリメチル(116.67g)、メタノール(2720ml)を加えて懸濁させ、撹拌下、懸濁液に濃硫酸(8.63g)を室温で加え、40℃で3時間撹拌した。液量が約1530mlになるまで減圧下溶媒を留去し、反応液にジブチルエーテル(4420ml)を30℃で加え、同温度で1時撹拌した。さらに0℃で1時間撹拌後、結晶をろ過した。メタノール(170ml)とジブチルエーテル(510ml)の混液で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を白色固体として得た(342.11g、収率96.3%)。
MS (FAB): m/z 324 [M+H]+
HRMS (ESI): Exact mass calcd for C12H22NO9 [M+H]+ 324.12946, Found 324.12966
IR (KBr): 3340, 2938, 1741, 1638, 1553, 1438, 1375, 1279, 1127, 1033 cm-1
1H NMR (D2O, 500 MHz): 1.80 (1H, dd, J = 12.1, 12.9 Hz), 1.94 (3H, s), 2.20 (1H, dd, J = 5.0, 12.9 Hz), 3.44 (1H, dd, J = 1.0, 9.2 Hz), 3.51 (1H, dd, J = 6.2, 11.8 Hz), 3.62 (1H, ddd, J = 2.8, 6.2, 9.2 Hz), 3.73 (1H, dd, J = 2.8, 11.8 Hz), 3.73 (3H, s), 3.81 (1H, dd, J= 10.2, 10.2 Hz), 3.95 (1H, ddd, J = 5.0, 10.2, 12.1 Hz), 3.96 (1H, dd, J = 1.0, 10.2 Hz).
13C NMR (D2O, 125 MHz): 22.2, 38.7, 52.1, 53.6, 63.2, 66.7, 68.3, 70.2, 70.4, 95.4, 171.5, 174.9。
A−1工程で得られた化合物(300.00g)にヘプタン(600ml)と無水酢酸(814.70g)を加えて懸濁させ、0℃に冷却し、撹拌下、濃硫酸(209.32g)を40℃以下で滴下した。40℃で4時間撹拌後、懸濁液を0℃に冷却し、トリエチルアミン(431.93g)を40℃以下で滴下した。0℃に冷却した水(1800ml)、26%アンモニア水(916.79g)とトルエン(4500ml)の混液に撹拌下、反応液を40℃以下で滴下し、25℃で1時間撹拌した。反応液を静置後、有機層を分離し、液量が約900mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物のトルエン溶液を得た。
A−2工程で得られた化合物のトルエン溶液にメタノール(1800ml)と25.4%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(15.79g)を室温で加え、反応液を25℃で15分撹拌した。反応液を液量が約900mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物のメタノール溶液を得た。
A−3工程で得られた化合物のメタノール溶液にジメチルカルボナート(961.26g)を加え、混合物を25℃で1時間撹拌し、さらに55℃で5時間撹拌した。反応液を0℃に冷却後、同温度で5分間撹拌し、結晶をろ過した。メタノール(600ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を白色固体として得た(234.32g、収率80.6%)。
MS (FAB): m/z 314 [M+H]+
Anal. calcd for C13H15NO8: C, 49.84; H, 4.83; N, 4.47. Found C, 49.82; H, 4.58; N, 4.46.
IR (KBr): 3194, 1801, 1787, 1734, 1662, 1398, 1277, 1225, 1177, 1089, 988 cm-1
1H NMR (DMSO-d6, 500 MHz): 1.89 (3H, s), 3.24 (1H, dd, J = 2.0, 10.2 Hz), 3.72 (3H, s), 4.07 (1H, dd, J = 2.0, 2.9 Hz), 4.15 (1H, dd, J = 8.4, 10.2 Hz), 4.52 (1H, dd, J = 7.2, 12.8 Hz), 4.54 (1H, dd, J = 8.2, 12.8 Hz), 4.90 (1H, dd, J= 4.2, 8.4 Hz), 4.98 (1H, ddd, J = 2.9, 7.2, 8.2 Hz), 6.15 (1H, s), 6.27 (1H, d, J = 4.2 Hz).
13C NMR (DMSO-d6, 125 MHz): 14.3, 53.0, 61.0, 65.9, 67.5, 72.3, 78.3, 78.8, 108.1, 146.8, 155.3, 162.2, 166.3。
A−4工程で得られた化合物(20.00g)にテトラヒドロフラン(80ml)、N,N−ジメチルアセタミド(20ml)を加えて懸濁させ、懸濁液を0℃で15分間撹拌した。懸濁液に60%水素化ナトリウム(3.32g)を加えて、0℃で10分撹拌した後、硫酸ジメチル(11.27g)を加え、15℃で2.25時間撹拌した。反応液に酢酸(3.83g)、トルエン(200ml)を加え、混合物を5%炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)で洗浄し、有機層1と水層1を分離した。有機層1を水(10ml)で洗浄し、有機層2と水層2を分離した。水層1と水層2を合致し、トルエン(200ml)で抽出し有機層3を分離した。有機層2と有機層3を合致し、液量が約60mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物のトルエン溶液を得た。
A−5工程で得られた化合物に2-メチル-2-プロパノール(20ml)とトリメチルシリルアジド(14.71g)を室温で加えた後、チタニウム(IV)イソプロポキシド(5.44g)を10℃で加え、混合物を20℃で20時間撹拌した(立体異性体比15:1)。反応液を0℃に冷却後、同温度で1時撹拌し、結晶をろ過した。トルエン(40ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を淡黄白色固体として得た(20.73g、収率87.7%、立体異性体比66:1)。
MS (FAB): m/z 371 [M+H]+
HRMS (ESI): Exact mass calcd for C14H19N4O8 [M+H]+ 371.12029, Found 371.12018
IR (KBr): 3314, 2106, 1795, 1731, 1668, 1550, 1379, 1285, 1180, 1075 cm-1
1H NMR (DMSO-d6, 500 MHz): 1.89 (3H, s), 3.36 (3H, s), 3.71 (3H, s), 3.88 (1H, dd, J = 1.3, 2.0 Hz), 3.99 (1H, ddd, J = 8.9, 9.2, 10.6 Hz), 4.20 (1H, dd, J = 1.3, 10.6 Hz), 4.29 (1H, dd, J = 2.5, 9.2 Hz), 4.54 (1H, dd, J = 7.9, 12.2 Hz), 4.56 (1H, dd, J= 7.9, 12.2 Hz), 5.06 (1H, ddd, J = 2.0, 7.9, 7.9 Hz), 5.81 (1H, d, J = 2.5 Hz), 8.16 (1H, d, J = 8.9 Hz).
13C NMR (DMSO-d6, 125 MHz): 23.4, 47.0, 53.0, 59.0, 61.7, 66.1, 76.7, 77.7, 79.1, 108.6, 144.7, 155.0, 161.7, 170.1.
標記化合物とその立体異性体のピーク面積比率は以下のHPLC測定条件にて測定した。
HPLC測定条件(3)
カラム:L-column ODS(4.6mmID×250mm、粒子径5μm、化学物質評価研究機構)
カラム温度:40℃
測定波長:254nm
移動相:アセトニトリル:0.02mol/l酢酸アンモニウム水溶液=65:35
流速:1ml/分
標記化合物の保持時間:約6.3分
立体異性体の保持時間:約6.6分
A−6工程で得られた化合物(5.00g)にトリフェニルホスフィン(3.90g)とテトラヒドロフラン(20ml)を室温で加え、混合物を50℃で10分間撹拌した。反応液に水(12.5ml)と25%水酸化ナトリウム水溶液(6.48g)を50℃で加え、同温度で2時間撹拌した。反応液を0℃に冷却し、濃塩酸(2.74g)を加え、静置後水層を分離し、標記化合物の水溶液を得た。
A−7工程で得られた化合物の水溶液にtert−ブチル(tert−ブトキシカルボニルイミノピラゾール−1−イル−メチル)カルバマート(4.19g)とメタノール(40ml)を室温で加え、混合物を同温度で43時間撹拌した。反応液に水(12.5ml)を加え、濃塩酸でpHを8.35に調節した後、液量が約25mlになるまで減圧下溶媒を留去した。得られた溶液を酢酸エチル(25ml)で3度洗浄し、水層を分離した。水層のpHを2.75に濃塩酸で調節した後、酢酸エチル(45ml)で2度抽出した。有機層を合致し、液量が約20mlになるまで、減圧下溶媒を留去した。濃縮液に水(20ml)を加え、液量が約20mlになるまで、減圧下溶媒を留去し、標記化合物の水溶液を得た。
A−8工程で得られた化合物の水溶液を80℃で3.7時間撹拌した。反応液を0℃に冷却し、メタノール(50ml)を加え、混合物を同温度で1.25時間撹拌後、結晶をろ過した。メタノール(10ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を白色固体として得た(3.34g、収率71.4%)。
MS (FAB): m/z 347[M+H]+
Anal. calcd for C13H22N4O7: C, 45.08; H, 6.40; N, 16.18. Found C, 44.85; H, 6.16; N, 16.09.
IR (KBr): 3440, 3375, 3256, 1699, 1653, 1587, 1401, 1329, 1284, 1171, 1087, 1029 cm-1
1H NMR (D2O, 500 MHz): 1.94 (3H, s), 3.31 (3H, s), 3.45 (1H, dd, J = 1.5, 8.6 Hz), 3.57 (1H, dd, J = 5.6, 12.0 Hz), 3.78 (1H, dd, J = 3.0, 12.0 Hz), 3.88 (1H, ddd, J = 3.0, 5.6, 8.6 Hz), 4.10 (1H, dd, J= 9.7, 9.7 Hz), 4.30 (1H, dd, J = 1.5, 9.7 Hz), 4.30 (1H, dd, J = 2.2, 9.7 Hz), 5.52 (1H, d, J = 2.2 Hz).
13C NMR (D2O, 125 MHz): 22.1, 47.7, 51.8, 60.5, 62.5, 69.6, 75.7, 77.8, 104.0, 149.4, 157.0, 169.0, 174.2。
A−9工程で得られた化合物(3.00g)にメタノール(15ml)とオルトオクタン酸トリメチル(5.31g)を加え、懸濁させ、室温で1mol/l塩化水素メタノール溶液(9.3ml)を加えて、同温度で1時間撹拌した。液量が約10.5mlになるまで減圧下溶媒を留去し、水(30ml)を加え、酢酸エチル(15ml)で2度洗浄した。水層を分離し、16.5%炭酸ナトリウム水溶液でpHを7に調節し、反応液を室温で10分間撹拌後、16.5%炭酸ナトリウム水溶液でpHを8.8に調節し、同pHを維持しながら2時間撹拌した。次いで濃塩酸でpHを5.7に室温で調節し、同pHを維持しながら反応液を0℃で1時間撹拌した後、結晶をろ過した。水(12ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥した。空気雰囲気下、結晶を室温で5時間吸湿させ、粗製の標記化合物を白色結晶として得た(3.89g、収率95.1%)。粗製の標記化合物(2.00g)にメタノール(12ml)を加え、37℃で溶解させ、溶液にメタノール(2ml)と水(28ml)を同温度で加え、25℃で1時間撹拌した後、結晶をろ過した。メタノール(2ml)と水(4ml)の混液で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥した。空気雰囲気下、結晶を室温で5時間吸湿させ、標記化合物を白色結晶として得た(1.84g、収率92.0%、化学純度:99.72%、化合物(Ib):化合物(IIb)=97:3、化合物(13)[R2=メチル基]の含有率:0.02%、化合物(VII)[R1=1−ヘプチル基、R2=メチル基]の含有率:0.08%、化合物(VIII)[R1=1−ヘプチル基]の含有率:0.04%)。
MS (FAB): m/z 473[M+H]+
KF水分値: 3.9%
Anal. calcd for C21H36 N4O8.1.065H2O: C, 51.29; H, 7.82; N, 11.39. Found C, 51.21; H, 7.82; N, 11.32.
IR (KBr): 3334, 3289, 2929, 1736, 1665, 1640, 1401, 1325, 1283, 1173, 1114 cm-1
1H NMR (CD3OD, 500 MHz): 0.88 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.25 -1.34 (8H, m), 1.62 (2H, tt, J = 7.2, 7.5 Hz), 1.99 (3H, s), 2.35 (2H, t, J = 7.5 Hz), 3.38 (3H, s), 3.45 (1H, dd, J= 2.5, 8.2 Hz), 4.09 -4.14 (2H, m), 4.23 (1H, dd, J = 9.0, 9.0 Hz), 4.29 - 4.36 (3H, m), 5.55 (1H, d, J = 2.5 Hz).
13C NMR (CD3OD, 125 MHz): 13.1, 21.5, 22.3, 24.7, 28.8, 28.9, 31.5, 33.7, 47.8, 51.4, 60.0, 65.5, 67.4, 76.1, 78.9, 102.3, 150.3, 157.6, 168.1, 172.2, 174.1。
(3aS,4R,7aR)−4−{(S)−ヒドロキシ[(4R)−2−オキソ−1,3−ジオキソラン−4−イル]メチル}−2−メチル−3a,7a−ジヒドロ−4H−ピラノ[3,4−d][1,3]オキサゾール−6−カルボン酸メチル(化合物(7)[R4,R5=オキソ基])の合成
A−1工程:N−アセチルノイラミン酸メチル
N−アセチルノイラミン酸(1)(15.00g)にオルトギ酸トリメチル(5.14g)、メタノール(120ml)を加えて懸濁させ、撹拌下、濃硫酸(0.38g)を室温で加え、反応液を40℃で3時間撹拌した。反応終了後にN,N−ジメチルアセトアミド(15ml)を加え、液量が約40mlになるまで減圧下溶媒を留去した。濃縮液に水(7.5ml)と酢酸エチル(150ml)を20℃で加え、混合物を30℃で0.5時撹拌後、酢酸エチル(150ml)を加え、同温でさらに0.5時間撹拌した。0℃で2時間撹拌後、結晶をろ過し、0℃に冷却した酢酸エチル(30ml)で結晶を洗浄し、標記化合物の湿品結晶(15.65g)を得た。
A−1工程で得られた湿品結晶(10.08g)に無水酢酸(25.72g)を加えて懸濁させ、撹拌下、濃硫酸(6.61g)を、40℃以下に保ちながらゆっくり滴下した。40℃で5時間撹拌後、反応液を0℃に冷却し、トリエチルアミン(13.64g)を40℃以下で滴下した。この反応溶液を、冷却した水(50ml)、28%アンモニア水(27.27g)、トルエン(140ml)の混液へ、40℃以下に保ちながら滴下し、さらに25℃で1時間撹拌した。静置後、分離した有機層を、水(20ml)で2回洗浄し、液量が約30mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物のトルエン溶液を得た。
A−2工程で得られた化合物のトルエン溶液に、メタノール(60ml)と28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(0.45g)を室温で加え、混合物を25℃で15分撹拌した。次いで、反応液を液量が約30mlになるまで減圧濃縮し、(3aS,4R,7aR)−4−[(1R,2R)−1,2,3−トリヒドロキシプロピル]−2−メチル−3a,7a−ジヒドロ−4H−ピラノ[3,4−d][1,3]オキサゾール−6−カルボン酸メチル(4)のメタノール溶液を得た。
A−3工程で得られた化合物のメタノール溶液にジメチルカルボナート(30.35g)を加え、混合物を25℃で1時間撹拌し、さらに55℃で5時間撹拌した。反応液を0℃に冷却後、同温度で5分間撹拌し、結晶をろ過した。メタノール(20ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を白色固体として得た(7.06g、収率76.9%)。
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−グアジノ−6−[(1R,2R)−2,3−ジヒドロキシ−1−メトキシプロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸(化合物(13)[R2=メチル基])の合成
B−1工程:(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−アミノ−6−{(S)−メトキシ[(4R)−2−オキソ−1,3−ジオキソラン−4−イル]メチル}−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸メチル
実施例1のA−6工程で得られた化合物(10.00g)に酢酸エチル(40ml)、トリフェニルホスフィン(7.79g)と水(1.94g)を室温で加えた後、72℃で2.5時間撹拌した。反応液を室温に冷却し、標記化合物の酢酸エチル溶液を得た。
B−1工程で得られた化合物の酢酸エチル溶液に室温でtert−ブチル(tert−ブトキシカルボニルイミノピラゾール−1−イル−メチル)カルバマート(8.80g)を加え、混合物を同温度で17.5時間撹拌した。反応液の液量が約30mlになるまで減圧下溶媒を留去し、トルエン(100ml)を加え、不溶物をろ過した。ろ液を水(30ml)で2度洗浄し、分離した有機層の液量が約40mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物のトルエン溶液を得た。
B−2工程で得られた化合物のトルエン溶液に室温でメタノール(50ml)、水(23ml)と炭酸カリウム(11.20g)を加え、混合物を同温度で4時間撹拌した。反応液を5℃に冷却し、水(50ml)を加えた後、7%塩酸でpHを8.3に調節した。溶液の液量が約110mlになるまで減圧下溶媒を留去し、酢酸エチル(50ml)で3度洗浄し、水層を分離した。7%塩酸で水層のpHを2.7に調節した後、酢酸エチル(90ml)で2度抽出した。有機層を合致し、液量が約40mlになるまで減圧下溶媒を留去した。濃縮液に水(40ml)を加え、液量が約40mlになるまで、減圧下溶媒を留去し、標記化合物の水溶液を得た。
B−3工程で得られた化合物の水溶液を実施例1のA−9工程と同様の操作に付し、標記化合物をを白色固体として得た(6.71g、収率71.8%)。
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−グアジノ−6−[(1R,2R)−2,3−ジヒドロキシ−1−メトキシプロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸(化合物(13)[R2=メチル基])の合成
C−1工程:(3aS,4R,7aR)−4−[(1R,2R)−2,3−ジヒドロキシ−1−メトキシプロピル]−2−メチル−3a,7a−ジヒドロ−4H−ピラノ[3,4−d][1,3]オキサゾール−6−カルボン酸メチル
(3aS,4R,7aR)−4−{(S)−ヒドロキシ[(4R)−2−オキソ−1,3−ジオキソラン−4−イル]メチル}−2−メチル−3a,7a−ジヒドロ−4H−ピラノ[3,4−d][1,3]オキサゾール−6−カルボン酸メチル(46.00g)を実施例1のA−5工程に付して得られた化合物のトルエン溶液(約675ml)に、メタノール(460ml)と25.4%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(14.36g)を室温で加え、混合物を同温度で30分撹拌した。反応液の液量が約138mlになるまで減圧下溶媒を留去し、メタノール(460ml)を加え、室温で30分撹拌した。反応液に酢酸(4.41g)を加え、液量が約138mlになるまで減圧下溶媒を留去した後に、トルエン(230ml)を加え、液量が138mlになるまで減圧下溶媒を再度留去し、標記化合物のトルエン懸濁液を得た。
C−1工程で得られた化合物のトルエン懸濁液に酢酸エチル(184ml)を加え、室温で30分撹拌し、トリエチルアミン(66.69g)、N,N‐ジメチルアミノピリジン(0.90g)と無水酢酸(34.47g)を20℃以下で加え、混合物を室温で1時間撹拌した。反応液にトルエン(460ml)と5%炭酸水素ナトリウム水溶液(230ml)を加え、室温で1時間撹拌した。静置後分離した有機層を5%炭酸水素ナトリウム水溶液(230ml)で洗浄した。有機層を分離し、液量が約230mlになるまで減圧下溶媒を留去後、不溶物をろ過した。残渣をトルエン138mlで洗浄し、ろ液と洗浄液を合致し、液量が約138mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物のトルエン溶液を得た。
C−2工程で得られた化合物のトルエン溶液に2-メチル-2-プロパノール(47ml)を加え、混合物を冷却後、チタニウム(IV)イソプロポキシド(8.68g)とトリメチルシリルアジド(23.92g)を加え、20℃で4時間撹拌した。反応液に10℃以下で亜硝酸ナトリウム水溶液(亜硝酸ナトリウム14.32g、水329ml)と塩酸(濃塩酸23.77g、水74ml)を加え、反応液を室温で30分間撹拌後、液量が約494mlになるまで減圧下溶媒を留去した。濃縮液を酢酸エチル(471ml)で抽出し、有機層1と水層1を分離した。水層1を酢酸エチル(471ml)で抽出し、有機層2を分離した。有機層1を5%炭酸水素ナトリウム水溶液(235ml)で2度洗浄し、有機層3を分離した。水層2と水層3を合致し、有機層2で抽出し、有機層4を分離した。有機層3と有機層4を合致し、酢酸エチル(80ml)を加え、液量が約245mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物の酢酸エチル溶液を得た。
C−3工程で得られた化合物の酢酸エチル溶液にトリフェニルホスフィン(35.23g)と水(8.80g)を0℃で加え、混合物を72℃で2時間撹拌した。反応液を室温に冷却し、標記化合物の酢酸エチル溶液を得た。
C−4工程で得られた化合物の酢酸エチル溶液に室温でtert−ブチル(tert−ブトキシカルボニルイミノピラゾール−1−イル−メチル)カルバマート(39.79g)を加え、混合物を同温度で1時間撹拌し、17時間静置した。反応液の液量が約141mlになるまで減圧下溶媒を留去後、トルエン(471ml)を加え、水(141ml)と10%食塩水(141ml)で洗浄した。分離した有機層の液量が約188 mlになるまで減圧下溶媒を留去し、標記化合物のトルエン溶液を得た。
C−5工程で得られた化合物のトルエン溶液にメタノール(235ml)、水(108ml)と炭酸カリウム(50.63g)を加え、混合液を室温で4.5時間撹拌した。30℃以下で水(235ml)を加えた後、7%塩酸でpHを8.3に調節した。溶液の液量が約518mlになるまで減圧下溶媒を留去し、反応液を酢酸エチル(235ml)で3度洗浄し、水層を分離した。7%塩酸で水層のpHを2.7に調節した後、酢酸エチル(423ml)で2度抽出した。有機層を合致し、液量が約282mlになるまで減圧下溶媒を留去し、不溶物をろ過した。残渣を酢酸エチル(376ml)で洗浄し、ろ液と洗浄液を合致後、液量が約188mlになるまで減圧下溶媒を留去した。濃縮液に水(188ml)を加え、液量が約188mlになるまで、減圧下溶媒を留去し、標記化合物の水溶液を得た。
C−6工程で得られた化合物の水溶液を実施例1のA−9工程と同様の操作に付し、標記化合物を白色固体として得た(30.97g、収率62.3%)。
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−グアジノ−6−[(1R,2R)−2,3−ジヒドロキシ−1−メトキシプロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸(化合物(13)[R2=メチル基])の合成
D−1工程:(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−アミノ−6−{(S)−メトキシ[(4R)−2−オキソ−1,3−ジオキソラン−4−イル]メチル}−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸メチル
実施例1のA−6工程で得られた化合物(1.00g)に酢酸エチル(4ml)、水(0.194 g)とトリフェニルホスフィン(0.78g)を加え、混合物を70℃で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、粗製の標記化合物を得た。
D−1工程で得られた粗製の化合物に水(4ml)、メタノール(1ml)と1H−ピラゾール−1−カルボキサミジン塩酸塩(0.52g)を加え、混合物を室温で65時間撹拌し、標記化合物の溶液を得た。
D−2工程で得られた化合物にメタノール(1ml)と炭酸カリウム(0.75g)を加え、混合物を室温下、約23時間撹拌後、標記化合物の生成量をHPLCにより測定した(生成量0.59g、生成率63.3%)。
カラム:L-column ODS(4.6mmID×250mm、粒子径5μm、化学物質評価研究機構)
カラム温度:40℃
測定波長:210nm
移動相:0.01M リン酸二水素カリウム緩衝液(pH3)/メタノール/PIC B−7(Low UV、Waters社製)(950/50/1)
流速:1ml/分
標記化合物の保持時間:約4.1分
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−グアジノ−6−[(1R,2R)−2,3−ジヒドロキシ−1−メトキシプロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸(化合物(13)[R2=メチル基])の合成
E−1工程:(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−アジド−6−{(S)−メトキシ[(4R)−2−オキソ−1,3−ジオキソラン−4−イル]メチル}−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸メチル(1.00g)をA−7工程と同様の操作に付して得られた化合物の水溶液に1H−ピラゾール−1−カルボキサミジン塩酸塩(1.01g)を二分割して加え、pHを7〜9に保持しながら混合物を室温下で約100時間撹拌し、標記化合物の生成量をHPLC測定条件(4)により測定した(生成量0.53g、収率56.5%)。
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−グアジノ−6−[(1R,2R)−2−ヒドロキシ−1−メトキシ−2−(オクタノイルオキシ)プロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸[化合物(Ib)]の合成
オクタンイミド酸メチル塩酸塩(8.39g)にメタノール(20ml)を加え、混合物を35℃で3時間撹拌した後、実施例1のA−9工程で得られた化合物(5.00g)とメタノール(5ml)を室温で加え、懸濁させた。これに1.6mol/l 塩化水素メタノール溶液(10.4ml)を室温で加え、同温度で2時間撹拌した。液量が約20mlになるまで、減圧下溶媒を留去し、水(60ml)を加え、酢酸エチル(25ml)で2度洗浄した。水層を分離し、20%炭酸ナトリウム水溶液でpHを7に調節した後、室温で5分間撹拌した。次いで20%炭酸ナトリウム水溶液でpHを8.7に調節し、反応液を1.5時間撹拌した後、結晶をろ過した。水(10ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、粗製の標記化合物を白色結晶として得た(6.21g、収率91.3%、化学純度:99.51%化合物(Ib):化合物(IIb)=95:5、化合物(13)[R2=メチル基]の含有率:<0.01%、化合物(VII)[R1=1−ヘプチル基、R2=メチル基]の含有率:0.06%、化合物(VIII)[R1=1−ヘプチル基]の含有率:0.09%)。
tert−ブチル(tert−ブトキシカルボニルイミノピラゾール−1−イル−メチル)カルバマート[化合物(11)]の合成
F−1工程:tert−ブチル(イミノピラゾール−1−イル−メチル)カルバマート
1H−ピラゾール−1−カルボキサミジン塩酸塩(100g)にN,N−ジメチルホルムアミド(350ml)とN,N−ジイソプロピルエチルアミン(125ml)を加えた後、ジtert-ブチル ジカルボナート(152g)のN,N−ジメチルホルムアミド(50ml)溶液を室温で約40分かけて加えた。同温度で2時間撹拌した後、水(500ml)を加え、混合物をトルエン(500ml)で抽出し、有機層1と水層1を分離した。有機層1をさらに水(300ml)で2度洗浄し、有機層2を分離した。水層1をトルエン(500ml)で抽出し有機層3を分離した。有機層2と有機層3を合致し、液量が約300mlになるまで減圧下溶媒を留去した。得られた溶液にヘキサン(500ml)を室温で加えて混合物を30分撹拌後、氷冷下30分撹拌し、結晶をろ過した。ヘキサン(100ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を得た(120.3g、収率83.9%)。
60%水素化ナトリウム(9.99g)のテトラヒドロフラン(100ml)懸濁液に−5〜0℃を保持しながら、B−1工程で得られた化合物(50g)のテトラヒドロフラン(100ml)溶液を1時間かけて加えた。混合物を同温度で30分撹拌後、ジtert-ブチル ジカルボナート(57.1g)のテトラヒドロフラン(100ml)溶液を−5から0℃を保持しながら加えた後、テトラヒドロフラン(250ml)を加えた。還流下、反応液を2時間撹拌した後、室温で酢酸(20.4ml)を加え、液量が約150mlになるまで減圧下溶媒を留去した。得られた溶液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(500ml)を加え、混合物を酢酸エチル(500ml)で抽出した。有機層を水(150ml)で洗浄し、液量が約75mlになるまで減圧下溶媒を留去した。残渣にヘキサン(200ml)を室温で加え、種晶を接種した。氷冷下で40分撹拌後、結晶をろ過し、ヘキサン(50ml)で結晶を洗浄し、減圧下乾燥し、標記化合物を得た(54.47g、収率73.8%)。
1H NMR (CDCl3, 500 MHz): 1.49 (9H, s), 1.55 (9H, s), 6.41 (1H, dd, J = 1.5, 2.7 Hz), 7.62 (1H, dd, J = 0.7, 1.5 Hz), 8.30 (1H, dd, J = 0.7, 2.7 Hz), 8.93 (1H, brs)。
13C NMR (CDCl3, 125 MHz): 28.1, 28.2, 81.4, 83.4, 109.8, 129.0, 139.2, 142.8, 149.4, 157.4。
オルトオクタン酸トリメチル(化合物(14)[R1=1−ヘプチル基、R7=メチル基])の合成
G−1工程:オクタンイミド酸メチル塩酸塩
オクタンニトリル(10.00g)にメタノール(2.81g)と酢酸メチル(30ml)を加え、混合物を0℃に冷却し、塩化水素(7.50g)を加え、混合物を同温度で25時間撹拌した。反応液にメチルシクロヘキサン(60ml)を加えた後、減圧下溶媒を留去した。残渣にメチルシクロヘキサン(20ml)を加え、混合物を室温で1.5時間撹拌した後、結晶をろ過した。メチルシクロヘキサンで結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を白色固体として得た(14.45g、収率93.4%)。
MS (FAB): m/z 158 [M+H]+
HRMS (ESI): Exact mass calcd for C9H20NO [M+H]+ 158.15449, Found 158.15433
IR (KBr): 3139, 3109, 2925, 2857, 1712, 1627, 1474, 1411, 1213, 1100 cm-1
1H NMR (CDCl3, 500 MHz): 0.82 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.19 - 1.33 (8H, m), 1.67 (2H, tt, J = 7.5, 7.8 Hz), 2.70 (2H, t, J = 7.8 Hz), 4.24 (3H, s), 11.52 (1H, brs), 12.46 (1H, brs).
13C NMR (CDCl3, 125 MHz): 14.1, 22.6, 25.7, 28.7, 28.8, 31.5, 32.9, 60.7, 180.5。
G−1工程で得られた化合物(40.00g)にメチルシクロヘキサン(240ml)とメタノール(80ml)を加え、混合物を35℃で6時間撹拌した。反応液を10℃に冷却し、メチルシクロヘキサン(20ml)を加え、5%炭酸水素ナトリウム水溶液(280ml)で洗浄した。更に5%炭酸水素ナトリウム水溶液(120ml)で洗浄し、有機層を分離した。不溶物をろ過し、残渣をメチルシクロヘキサン(20ml)で洗浄後、ろ液と洗浄液を合致し、減圧下溶媒を留去した。減圧蒸留(1.5−1.8torr、b.p.85〜90℃)により残渣を精製し、標記化合物を無色透明油状物として得た(35.37g、収率83.8%)。
MS (ESI): m/z 227 [M+Na]+
HRMS (ESI): Exact mass calcd for C11H24O3Na [M+Na]+ 227.16231, Found 227.16138
IR (neat): 2955, 2928, 2854, 1466, 1241, 1153, 1078, 1047, 977 cm-1
1H NMR (CDCl3, 500 MHz): 0.86 (3H, t, J = 6.8 Hz), 1.23 - 1.33 (8H, m), 1.67 - 1.71 (2H, m), 3.21 (9H, s).
13C NMR (CDCl3, 125 MHz): 14.1, 22.7, 22.8, 29.3, 29.5, 30.5, 31.9, 49.4, 116.0。
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−2−メトキシ−6−{(S)−メトキシ[(4R)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル]メチル}−テトラヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸メチル[化合物(VIb)]の合成
Z法記載の化合物(VIa)(1.00g)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液に60%水素化ナトリウム(0.16g)を0℃で加えた。混合物を同温度で5分撹拌した後、硫酸ジメチル(0.31g)を0℃で加え、室温でさらに2時間撹拌した(標記化合物のピーク面積比率:41.6%、N−メチル体のピーク面積比率:12.2%)。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(10ml)と水(2ml)を加え、混合物を酢酸エチル(20ml)で3度抽出した。有機層を5%炭酸水素ナトリウム水溶液(10ml)で1度、水(10ml)で2度洗浄した後、減圧下溶媒を留去した。残渣にジイソプロピルエーテル(2ml)を加え、混合物を室温で10分撹拌し、更に0℃で30分撹拌した後、結晶をろ過した。ジイソプロピルエーテル(2ml)で結晶を洗浄した後、減圧下乾燥し、標記化合物を白色固体として得た(0.28g、収率27.3%、標記化合物のピーク面積比率:97.2%、N−メチル体のピーク面積比率:0.3%)。
HPLC測定条件(4)
カラム:L-column ODS(4.6mmID×250mm、粒子径5μm、化学物質評価研究機構)
カラム温度:40℃
測定波長:195nm
移動相:アセトニトリル:0.02M リン酸二水素カリウム水溶液=60:40
流速:1ml/分
標記化合物の保持時間:約8.6分
N−メチル体の保持時間:約15.4分
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−アジド−6−[(1S,2R)−2,3−ジアセトキシ−1−メトキシプロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸メチル[化合物(IVg)]の合成
W法、Y法およびZ法記載の化合物(IVf)(10.0g)にN,N−ジメチルホルムアミド(250ml)、DOWEX(登録商標)50W−X8(10.0g)とアジ化ナトリウム(10.0g)を加え、混合物を80℃で7時間撹拌した(立体異性体比7:1)。反応液を室温に冷却し、イオン交換樹脂を通してろ過した。樹脂をメタノール(50ml)で洗浄し、ろ液と合致後、減圧下溶媒を留去した。濃縮残渣にジクロロメタン(100ml)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(50ml)と水(50ml)を加え、撹拌後有機層を分離した。有機層を10%食塩水(100ml)で洗浄した後、減圧下溶媒を留去し、未精製の標記化合物を得た(10.34g、立体異性体比6:1)。
HPLC測定条件(5)
カラム:L-column ODS(4.6mmID×250mm、粒子径5μm、化学物質評価研究機構)
カラム温度:40℃
測定波長:254nm
移動相:アセトニトリル:水=60:40
流速:1ml/分
標記化合物の保持時間:約6.2分
立体異性体の保持時間:約6.6分
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−[2,3−ビス(tert−ブトキシカルボニル)グアニジノ]−6−[(1R,2R)−2−ヒドロキシ−1−メトキシ−3−(オクタノイルオキシ)プロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸ジフェニルメチル[化合物(IVk)]の合成
W法の化合物(IVj)(0.50g)にジクロロメタン(20ml)とトリエチルアミン(0.10g)を0℃で加え、同温度で塩化オクチル(0.14g)を滴下し、混合物を3.5時間撹拌した。反応液に酢酸エチル(50ml)を加え、混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(30ml)と飽和食塩水(10ml)で洗浄した。有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、未精製の標記化合物を得た(0.57g、収率97.0%、標記化合物のピーク面積比率:63.2%、ジアシル体のピーク面積比率:5.6%)。
HPLC測定条件(6)
カラム:L-column ODS(4.6mmID×250mm、粒子径5μm、化学物質評価研究機構)
カラム温度:40℃
測定波長:254nm
移動相:アセトニトリル:0.02mol/l 酢酸アンモニウム水溶液=90:10
流速:1ml/分
標記化合物の保持時間:約6.8分
ジアシル体の保持時間:約24.6分
オルトオクタン酸トリメチル(化合物(14)[R1=1−ヘプチル基、R7=メチル基])の合成
実施例9のG−1工程にしたがって得られた化合物(160.44g)にメタノール(330ml)と石油エーテル(1l)を加え、混合物を還流下、18時間撹拌した。反応液を0℃に冷却し、同温度で2時間静置した。不溶物をろ過後、減圧下溶媒を留去した。減圧蒸留(2.2torr、b.p.93〜96℃)により残渣を精製し、標記化合物を無色透明油状物として得た(78.60g、収率44.7%)。
(4S,5R,6R)−5−アセタミド−4−グアジノ−6−[(1R,2R)−2−ヒドロキシ−1−メトキシ−2−(オクタノイルオキシ)プロピル]−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−2−カルボン酸[化合物(Ib)]
Z法の化合物(Vd)を、W法のジフェニルメチルエステル化反応[化合物(IVi)から化合物(IVj)への変換工程の(3)番目の反応]により化合物(IVj)へ誘導し、引き続きW法により化合物(Ia)へ誘導し、次いで、特許文献2の実施例の方法に従い、化合物(Ia)から標記化合物を合成した。合成した標記化合物の品質は、化学純度:91.88%、化合物(Ib):化合物(IIb)=85:15、化合物(13)[R2=メチル基]の含有率:3.54%、化合物(VII)[R1=1−ヘプチル基、R2=メチル基]の含有率:0.51%、化合物(VIII)[R1=1−ヘプチル基]の含有率:0.97%
製造例1の化合物が10%(W/W)、塩化ベンザルコニウムが0.04%(W/W)、フェネチルアルコールが0.40%(W/W)、精製水が89.56%(W/W)となるように液剤を調製する。
製造例1の化合物が10%(W/W)、塩化ベンザルコニウムが0.04%(W/W)、ポリエチレングリコール400が10%(W/W)、プロピレングリコールが30%(W/W)、精製水が49.96%(W/W)となるように液剤を調製する。
製造例1の化合物が40%(W/W)、ラクトースが60%(W/W)となるように散剤を調製する。
製造例1の化合物が10%(W/W)、レシチンが0.5%(W/W)、フロン11が34.5%(W/W)、フロン12が55%(W/W)となるようにエアゾール剤を調製する。
Claims (8)
- 式(4)
- 式(4)で表される化合物を、式(5)で表される化合物と反応させることによる、式(7)で表される化合物の製造方法であって、R3が、メチル基であり、R4およびR5が一緒となって、オキソ基を形成し、式(5)で表される化合物がジメチルカルボナートである請求項1に記載された製造方法。
- 式(7)
- R3が、メチル基であり、R4およびR5が一緒となって、オキソ基を形成する請求項3に記載された化合物。
- 式(8)
- R2が、メチル基であり、R3が、メチル基であり、R4およびR5が一緒となって、オキソ基を形成し、ルイス酸が、チタン(IV)イソプロポキシドである請求項5に記載された製造方法。
- 請求項2又は請求項6に記載された製造方法の少なくとも一つを反応工程の一部に含む、式(Ib)
[式中、Acは、アセチル基を示し、Meは、メチル基を示し、式(Ib)で表される化合物は、式(IIb)
[式(IIb)中、Ac及びMeは、式(Ib)におけるものと同意義を示す]で表される化合物を含有してもよい]で表される化合物またはその薬理上許容される塩の製造方法。 - 請求項4に記載された化合物を経由する、式(Ib)
[式中、Acは、アセチル基を示し、Meはメチル基を示し、式(Ib)で表される化合物は、式(IIb)
[式(IIb)中、Ac及びMeは、式(Ib)におけるものと同意義を示す]を有する化合物を含有してもよい]で表される化合物またはその薬理上許容される塩の製造方法。
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