JP5230492B2 - 配線基板、およびこれを備えた制御装置 - Google Patents

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Description

本発明は、厚膜抵抗体が設けられた配線基板、およびこれを備えた制御装置に関する。
従来から、絶縁基体と、絶縁基体に設けられた厚膜抵抗体とを備えた配線基板が知られている(例えば、特許文献1参照)。厚膜抵抗体は、絶縁基体の上面に平板状に形成することができるので、絶縁基体の上面にチップ抵抗を設ける場合と比較して、配線基板の低背化を実現できる。このため、厚膜抵抗体が設けられた配線基板は、例えば、近年小型化が益々要求されている携帯電話や車載部品等の情報処理装置に用いられる。
このような厚膜抵抗体は、例えば、スクリーン印刷による抵抗体ペーストの塗布、抵抗体ペーストの乾燥、抵抗体ペーストの焼成といった工程を経ることによって、配線基板の上面に形成される。このような工程を経ることによって配線基板の上面に形成された厚膜抵抗体は、塗布および焼成時のばらつきにより所望の抵抗値が得られ難いという問題があった。このような問題を解決するために、従来では、抵抗体ペーストの焼成後に例えばレーザを用いて厚膜抵抗体に切り込み溝を形成して抵抗値を調整する、いわゆるトリミングが行われていた(例えば、特許文献2参照)。
特開2006−287173号公報 特開2009−16592号公報
しかしながら、上記のトリミングが行われた後において、厚膜抵抗体が設けられた配線基板が実際に使用されていくうちに、厚膜抵抗体に形成された切り込み溝からクラックが生じることがあった。すなわち、厚膜抵抗体の抵抗値をトリミングにより調整し所望の抵抗値とした場合であっても、配線基板が実際に使用されていくうちに生じた厚膜抵抗体のクラックによって、厚膜抵抗体の抵抗値が上昇する。すなわち、厚膜抵抗体の抵抗値が所望の抵抗値(調整した抵抗値)から上昇するので、配線基板の信頼性が低下する。なお、この課題は、配線基板の使用温度が変化することによって、厚膜抵抗体の抵抗値が所望の抵抗値から変動した場合であっても、同様である。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、信頼性を向上することができる配線基板、およびこれを備えた制御装置に関する。
本発明の一つの態様による配線基板は、絶縁基体と、絶縁基体に設けられた厚膜抵抗体と、厚膜抵抗体の表面と接触している押圧体と、絶縁基体に設けられており押圧体に対して電圧を印加するための電極とを含んでいる。押圧体は、厚膜抵抗体の表面を押圧するための圧電体からなり、電極によって印加された電圧を、厚膜抵抗体の表面を押圧するための力に変換する。
本発明の配線基板、およびこれを備えた制御装置は、信頼性を向上することができるという効果を奏する。
図1は、本発明の一実施形態に係る配線基板の一例を示す平面図である。 図2は、図1中に示した切断線A−A´に沿って切断した断面図である。 図3は、図1中に示した切断線B−B´に沿って切断した断面図である。 図4は、本発明の一実施形態に係る制御装置の一例を示す概略図である。 図5は、変更例1に係る配線基板の一例を示す平面図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
但し、以下で参照する各図は、説明の便宜上、本発明の一実施形態の構成部材のうち、本発明を説明するために必要な主要部材のみを簡略化して示したものである。したがって、本発明に係る配線基板、および制御装置は、本明細書が参照する各図に示されていない任意の構成部材を備え得る。また、各図中の部材の寸法は、実際の構成部材の寸法および各部材の寸法比率等を忠実に表したものではない。
図1は、本発明の一実施形態に係る配線基板1の一例を示す平面図である。図2は、図1中に示した切断線A−A´に沿って切断した断面図である。図3は、図1中に示した切断線B−B´に沿って切断した断面図である。図1〜図3に示すように、本実施形態に係る配線基板1は、絶縁基体2、厚膜抵抗体3、および圧電体4を備えている。
絶縁基体2は、絶縁性の良好な部材を用いればよく、ここでは特に限定されない。例えば、絶縁基体2は、セラミック材料、ガラス材料等からなる。ここで、セラミック材料は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭化珪素質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、窒化珪素質焼結体、ガラスセラミックス等である。また、ガラス材料は、例えば、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等である。
厚膜抵抗体3は、絶縁基体2の上面に設けられている。また、厚膜抵抗体3は、絶縁基体2の上面に形成された第1電極2aおよび第2電極2bと接続されている。第1電極2aは、厚膜抵抗体3に対して電圧を印加するための役割を担う部材である。このため、第1電極2aは、図2に示すように、絶縁基体2に埋設された第1配線導体21と接続されている。また、第2電極2bは、GND(グランド)に接地されている。このため、第2電極2bは、図2に示すように、絶縁基体2に埋設された第2配線導体22と接続されている。
ここで、厚膜抵抗体3は、例えば、スクリーン印刷による抵抗体ペーストの塗布、抵抗体ペーストの乾燥、抵抗体ペーストの焼成といった工程を経ることによって、配線基板2の上面に形成される。この抵抗体ペーストには、RuO等の導電体粒子、配線基板2へ付着させるための固結剤、印刷を容易にするための樹脂、ペーストの粘度を維持するための溶剤等が含まれる。すなわち、厚膜抵抗体3には、RuO等の導電体粒子等が含まれることになる。ここで、RuOは、酸化物でありながら、おおよそ3×10−7Ωmという金属に近い抵抗率を示し、熱的にも非常に安定であり、微細な粉末を作製できるといった多くの利点を有している。なお、導電体粒子は、RuOの代わりに、LaBであってもよい。すなわち、導電体粒子は、酸化物導電体やホウ化物導電体であればよい。
また、厚膜抵抗体3には、切り込み溝3aが形成されている。切り込み溝3aは、厚膜抵抗体3の抵抗値が所望の抵抗値となるように、レーザ等で厚膜抵抗体3に形成された溝である。本実施形態においては、切り込み溝3aを形成することで、厚膜抵抗体3の抵抗値を所望の抵抗値とすることを、「トリミング」という。
圧電体4は、厚膜抵抗体3の表面(露出面)と接触しており、厚膜抵抗体3の表面を押圧するための役割を担う部材である。本実施形態においては、圧電体4は、厚膜抵抗体3の一部を挟むように(言い換えれば、覆うように)して、絶縁基体2の上面および厚膜抵抗体3の表面に設けられている。また、圧電体4は、絶縁基体2の上面に形成された第3電極2cおよび第4電極2dと接続されている。第3電極2cは、圧電体4に対して電圧を印加するための役割を担う部材である。このため、第3電極2cは、図3に示すように、絶縁基体2に埋設された第3配線導体23と接続されている。また、第4電極2dは、GNDに接地されている。このため、第4電極2dは、図3に示すように、絶縁基体2に埋設された第4配線導体24と接続されている。
次に、上記の構成に係る配線基板1の動作について説明する。
まず、第1導体配線21、第2導体配線22、第1電極2a、および第2電極2bを介して、厚膜抵抗体3に電圧を印加する。また、第3導体配線23、第4導体配線24、第3電極2c、および第4電極2dを介して、圧電体4に電圧を印加する。本実施形態においては、圧電体4に印加する電圧は、正(プラス)の直流電圧である。具体的には、圧電体4が分極している方向と同じ方向に正の直流電圧を印加することで、圧電体4は膨張する。ここで、圧電体4が分極している方向とは、圧電体4に存在する原子が所定の位置からずれて配置(分極)された場合における、当該ずれて配置された方向をいう。なお、直流電圧の代わりに、交流電圧を印加してもよい。圧電体4に正の直流電圧が印加されると、圧電体4は膨張する。なお、圧電体4に印加される直流電圧が高ければ高いほど、圧電体4による膨張の変位は大きくなる。そして、膨張した圧電体4によって、厚膜抵抗体3の表面が押圧される。厚膜抵抗体3の表面が押圧されるので、厚膜抵抗体3の抵抗値が低下する。すなわち、厚膜抵抗体3の表面が押圧されることにより、厚膜抵抗体3が含むRuO等の導電体粒子のそれぞれについて、互いに接触する数が増加(接点の増加)し、かつ互いに接触する面積(接触面積)が大きくなるからである。
以上のように、本実施形態に係る配線基板1によれば、配線基板1が実際に使用されていくうちに、厚膜抵抗体3の切り込み溝3aに生じたクラックによって、厚膜抵抗体3の抵抗値が上昇した場合であっても、圧電体4に電圧を印加することにより、厚膜抵抗体3の抵抗値を低下させることができる。この結果、信頼性が向上する配線基板1を実現できる。
ここで、上記の構成に係る配線基板1は、図4に示すような制御装置100に用いることができる。図4に示すように、本実施形態に係る制御装置100は、本実施形態に係る配線基板1、検出部51、判定部52、および電圧印加部53を備えている。なお、図4において、図3と同様の機能を有する構成については、同じ参照符号を付記し、その詳細な説明を省略する。
検出部51は、厚膜抵抗体3の抵抗値を検出する役割を担う部材である。ここで、検出部51は、公知の抵抗測定器等から構成される。なお、検出部51が抵抗値を検出するタイミングについては、特に限定されない。例えば、検出部51は、厚膜抵抗体3の抵抗値が変化する毎あるいは一定時間毎に、厚膜抵抗体3の抵抗値を検出する。検出部51は、検出した抵抗値を判定部52へ出力する。
判定部52は、検出部51により検出された抵抗値が閾値以上であるか否かを判定する。なお、閾値は、判定部52の図示しないレジスタに予め記録される。検出部51により検出された抵抗値が、判定部52によって閾値以上であると判定された場合、判定部52は、圧電体4に対して電圧を印加するように、電圧印加部53に対して指示する。一方、検出部51により検出された抵抗値が、判定部52によって閾値未満であると判定された場合、判定部52は、電圧印加部53に対して何も指示しない。
電圧印加部53は、判定部52から上記の指示があった場合に、第3導体配線23および第3電極2cを介して、圧電体4に対して電圧を印加する。すなわち、電圧印加部53は、圧電体4に対して、正の直流電圧を印加する。このため、電圧印加部53は、直流電圧を生成するための電源装置を含んでいる。
以上のように、本実施形態に係る制御装置100によれば、電圧印加部53は、検出部51により検出された抵抗値が、判定部52によって閾値以上であると判定された場合、圧電体4に対して電圧を印加することができる。
なお、上述した実施形態は、本発明の実施形態の一具体例を示すものであり、種々の変更が可能である。以下、いくつかの主な変更例を示す。
(変更例1)
本実施形態においては、圧電体4は、厚膜抵抗体3の一部を覆うようにして、絶縁基体2の上面および厚膜抵抗体3の表面に設けられている例について説明したが、これに限定されない。例えば、図5に示すように、変更例1における配線基板1aの圧電体4aは、厚膜抵抗体3の全部を覆うようにして、絶縁基体2の上面および厚膜抵抗体3の表面に設けられていてもよい。これにより、圧電体4が厚膜抵抗体3の一部を覆うようにして設けられている場合と比較して、低い電圧値(すなわち、圧電体4による少ない膨張変位)で、厚膜抵抗体3の抵抗値を大きく低下させることができる。また、圧電体4を厚膜抵抗体3に対する保護膜とすることもできる。なおこの場合、第1電極2aと圧電体4a、および第2電極2bと圧電体4aとが互いに接触しないように、第1電極2aと圧電体4a、および第2電極2bと圧電体4aとの間に、絶縁膜を設ける必要がある。
なお、圧電体4は、厚膜抵抗体3の切り込み溝3aを覆うようにして、絶縁基体2の上面および厚膜抵抗体3の表面に設けられていてもよい。
(変更例2)
また、本実施形態においては、厚膜抵抗体3の電極(第1電極2a、第2電極2b)と、圧電体4の電極(第3電極2c、第4電極2d)とが、それぞれ絶縁基体2の上面に形成されている例について説明したが、これに限定されない。例えば、厚膜抵抗体3の電極と、圧電体4の電極とは、共に共有されていてもよい。この場合、絶縁基体2の上面には、電圧を印加するための役割を担う電極(電源電極)と、GNDに接地された電極(GND電極)との2つのみを形成すればよい。また、厚膜抵抗体3と圧電体4とは、電源電極のみ共有してもよい。さらに、厚膜抵抗体3と圧電体4とは、GND電極のみ共有してもよい。なお、ノイズの影響等を考慮すると、本実施形態のように、厚膜抵抗体3の電極と圧電体4の電極とは、それぞれ絶縁基体2の上面に形成されていることが好ましい。
(変更例3)
また、制御装置は、図4に示すような制御装置100に限られない。例えば、タイマを備えておくことにより、一定時間毎に、圧電体4に対して、電圧が印加されるようにしてもよい。また、入力装置を備えておくことにより、入力装置がオペレータによって操作された場合に、圧電体4に対して、電圧が印加されるようにしてもよい。
(変更例4)
また、本実施形態においては、圧電体4を用いた例について説明したが、これに限定されない。例えば、圧電体4以外に、モータ、電磁石等であってもよい。すなわち、厚膜抵抗体3の表面と接触しており、厚膜抵抗体3の表面を押圧するための押圧体であれば、圧電体4に限らず、任意である。
(変更例5)
なお、本実施形態においては、厚膜抵抗体3に切り込み溝3aが形成されている例について説明したが、これに限定されない。すなわち、厚膜抵抗体3に切り込み溝3aは形成されていなくともよい。つまり、配線基板1の使用温度が変化することによって、厚膜抵抗体3の抵抗値が所望の抵抗値から変動した場合であっても、本発明を適用することができる。
すなわち、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。つまり、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
以上のように、本発明は、信頼性を向上することができる配線基板、またはこれを備えた制御装置として有用である。
1、1a 配線基板
2 絶縁基体
2c 第3電極(電極)
2d 第4電極(電極)
3 厚膜抵抗体
4 圧電体
51 検出部
52 判定部
53 電圧印加部

Claims (3)

  1. 絶縁基体と、
    前記絶縁基体に設けられた厚膜抵抗体と、
    前記厚膜抵抗体の表面と接触しており、前記厚膜抵抗体の表面を押圧するための圧電体からなる押圧体と
    前記絶縁基体に設けられており、前記押圧体に対して電圧を印加するための電極とを備え
    前記押圧体は、前記電極によって印加された電圧を、前記厚膜抵抗体の表面を押圧するための力に変換することを特徴とする配線基板。
  2. 前記押圧体は、前記厚膜抵抗体の全部を覆うようにして前記絶縁基体に設けられていることを特徴とする請求項に記載の配線基板。
  3. 請求項またはに記載の配線基板と、
    前記厚膜抵抗体の抵抗値を検出する検出部と、
    前記検出部により検出された抵抗値が閾値以上であるか否かを判定する判定部と、
    前記検出部により検出された抵抗値が、前記判定部によって閾値以上であると判定された場合、前記電極を介して前記押圧体に対して電圧を印加する電圧印加部とを備えたことを特徴とする制御装置。
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