JP5224522B2 - 圧電振動子及びその製造方法 - Google Patents

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本発明は、圧電振動子及びその製造方法に関する。
従来、圧電振動子の代表的なものとして、水晶を用いた種々の水晶振動子が開発されている。この水晶振動子は、例えば携帯電話機に搭載され、各回路が動作する際の基準となるクロック信号を生成する。
ここで図3に、表面実装型の水晶振動子10の構成を示す。なお、図3(a)は、水晶振動子10を下方から視認した場合の底面図を示し、図3(b)は、図3(a)中のA−A線に沿って切断した場合の縦断面図を示す。この水晶振動子10は、水晶片70を搭載する容器として、凹型形状のキャビティ30が形成された基板20を使用し、当該基板20はガラスからなる。
基板20に形成されたキャビティ30の内底面30A上には、搭載パッド50が配置され、当該搭載パッド50と、水晶片70の両面に形成された励振電極(図示せず)とは、導電性接着剤60を介して接続されている。蓋90は、基板20と同様にガラスからなり、基板20及び蓋90は、封止材80を介して接合されている。
基板20のうち所望の領域には、キャビティ30の内底面30Aから基板20の裏面20Aまで貫通するように、貫通電極40が形成され、当該貫通電極40は、搭載パッド50と電気的に接続されている。
また、基板20の裏面20A上には、パッドとしての外部端子100が、貫通電極40と電気的に接続するように、各角部付近にそれぞれ形成されている。この外部端子100は、基板20の裏面20A上に、例えば、クロム(Cr)からなる下地膜100A、銅(Cu)からなる金属膜100B、ニッケル(Ni)かならなるメッキ膜100C及び金(Au)からなるメッキ膜100Dを順次積層することにより形成される。
このように、ガラスからなる基板20の裏面20A上に、外部端子100を形成する際には、基板20の裏面20A上に、ガラスとの密着性が低い銅(Cu)からなる金属膜100Bを直接形成するのではなく、ガラスとの密着性が高いクロム(Cr)からなる下地膜100Aを形成した上で、銅(Cu)からなる金属膜100Bを形成する。
これにより、基板20の裏面20A上に、銅(Cu)からなる金属膜100Bを直接形成する場合と比較して、基板20と外部端子100との密着性を向上させることができる。
以下、水晶振動子に関する文献名を記載する。
特開2007−324852号公報
ところで、かかる構成の水晶振動子10を、例えばガラスエポキシ基板などのプリント基板に実装する際には、水晶振動子10の外部端子100とプリント基板とをはんだによって接合する。はんだ付けは、水晶振動子10及びプリント基板を加熱した後、冷却することにより行われる。
かかる冷却時には、ガラスとの密着性が高いクロム(Cr)からなる下地膜100Aが収縮することにより、外部端子100の基板20に対する応力が大きくなる。このため、基板20のうち外部端子100が形成された角部付近に、クラック(割れ目)が生じるおそれがあった。
本発明は、ガラスからなる基板にクラックが生じることを抑制することができる圧電振動子及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様による圧電振動子は、ガラスからなる基板と、前記基板のうち、圧電片を搭載するための搭載面から、前記搭載面と対向する非搭載面まで貫通するように、前記基板の所望の領域に形成された貫通電極と、前記基板の前記搭載面上に、前記貫通電極と電気的に接続するように搭載された前記圧電片と、前記圧電片を収容する収容部を形成するようにして、前記基板と接合された蓋と、前記基板の前記非搭載面のうち、前記貫通電極が露出する領域を含む外部端子形成領域内に、前記外部端子形成領域より小さい面積を有する下地膜が複数配置されると共に、前記外部端子形成領域及び前記下地膜上に、前記下地膜よりガラスとの密着性が低い金属膜が形成された外部端子とを備える。
また、本発明の一態様による圧電振動子の製造方法は、ガラスからなる基板のうち、圧電片を搭載するための搭載面から、前記搭載面と対向する非搭載面まで貫通するように、前記基板の所望の領域に、貫通電極を形成する貫通電極形成ステップと、前記基板の前記非搭載面のうち、前記貫通電極が露出する領域を含む外部端子形成領域内に、前記外部端子形成領域より小さい面積を有する下地膜を複数配置した後、前記外部端子形成領域及び前記下地膜上に、前記下地膜よりガラスとの密着性が低い金属膜を形成することにより、外部端子を形成する外部端子形成ステップと、前記基板の前記搭載面上に、前記貫通電極と電気的に接続するように、前記圧電片を搭載する搭載ステップと、前記圧電片を収容する収容部を形成するようにして、前記基板と蓋とを接合する接合ステップとを備える。
本発明の圧電振動子及びその製造方法によれば、ガラスからなる基板との密着性を確保しつつ、実装時に発生する、外部端子の基板に対する応力を低減させることができ、従って基板にクラックが生じることを抑制することができる。
また、本発明の圧電振動子及びその製造方法によれば、下地膜の形状を変更するだけで、外部端子全体の形状を維持することができる。
また、本発明の圧電振動子及びその製造方法によれば、金属膜を形成することなくプリント基板に実装する際、実装時における基板に対する応力を低減させることができ、従って基板にクラックが生じることを抑制することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、説明を明瞭にするために図の一部を誇張して図示している。
図1(a)〜(e)に、本発明の実施の形態による水晶振動子の製造方法を示す。なお、図1(a)〜(d)は、各工程別素子を下方から視認した場合の底面図を示し、図1(e)は、図1(a)中のA−A線に沿って切断した場合の縦断面図を示す。
まず図1(a)及び(e)に示すように、ガラスからなり、凹型形状のキャビティ210が形成された基板200を用意する。なお、基板200に用いられるガラスとして、ほうけい酸ガラス、結晶化ガラス、ソーダライムガラス等を用いることができる。そして、キャビティ210の内底面210Aから基板200の裏面200Aまで貫通するように、基板200のうちの所望の領域に、貫通電極220を形成する。
続いて、基板200の裏面200A上のうち、後に外部端子を形成する領域(以下、これを外部端子形成領域と呼ぶ)に、例えばクロム(Cr)からなり、膜厚が例えば1〜5nm程度であってかつ突起状の下地膜230Aを、マトリクス状に複数配置するように形成する。なお、この場合、下地膜230Aとしては、クロム(Cr)ではなく、例えばチタン(Ti)、ニッケル(Ni)、ニクロム(Ni−Cr)などを使用することができる。
続いて、図1(b)及び(e)に示すように、基板200の裏面200Aのうち外部端子形成領域及び下地膜230A上に、下地膜230Aを覆うようにして、例えば銅(Cu)からなる金属膜230Bを例えば0.1〜0.3μm程度形成する。その際、金属膜230Bは、貫通電極220と電気的に接続される。
図1(c)及び(e)に示すように、この金属膜230B上に、例えばニッケル(Ni)かならなるメッキ膜230Cを例えば1〜5μm程度形成する。図1(d)及び(e)に示すように、このメッキ膜230C上に、例えば金(Au)からなるメッキ膜230Dを例えば0.02〜0.5μm程度形成することにより、外部端子230を形成する。
なお、この場合、金属膜230B上に、ニッケル(Ni)かならなるメッキ膜230Cと、金(Au)からなるメッキ膜230Dとを積層したが、金属膜230B上に、スズ(Sn)からなるメッキ膜のみを形成するようにしても良い。
図1(e)に示すように、基板200に形成されたキャビティ210の内底面210A上に、貫通電極220と電気的に接続するようにして、搭載パッド240を形成する。そして、搭載パッド240及び水晶片260を、導電性接着剤250を介して電気的に接続し固定する。その後、基板200と、例えばガラスからなる蓋280とを、封止材270を介して接合し封止を行うことにより、水晶振動子290を製造する。なお、蓋280に用いられるガラスとして、ほうけい酸ガラス、結晶化ガラス、ソーダライムガラス等を用いることができる。
このようにして製造された水晶振動子290は、図1(a)〜(e)に示すように、水晶片260を搭載する容器として、凹型形状のキャビティ210が形成された基板200を使用し、当該基板200はガラスからなる。なお、キャビティ210は、水晶片260を収容する収容部に対応する。
基板200に形成されたキャビティ210の内底面210A上には、搭載パッド240が配置され、当該搭載パッド240と、水晶片260の両面に形成された励振電極(図示せず)とは、導電性接着剤250を介して接続されている。蓋280は、基板200と同様にガラスからなり、基板200及び蓋280は、封止材270を介して接合されている。
基板200のうち所望の領域には、キャビティ210の内底面210Aから基板200の裏面200Aまで貫通するように、貫通電極220が形成され、当該貫通電極220は、搭載パッド240と電気的に接続されている。これにより、水晶片260は、キャビティ210の内底面210A上に、貫通電極220と電気的に接続するように搭載されている。
なお、基板200のうち、キャビティ210の内底面210Aは、水晶片260を搭載するための搭載面に対応し、裏面200Aは、キャビティ210の内底面210Aすなわち搭載面に対向する非搭載面に対応する。
また、基板200の裏面200A上には、パッドとしての外部端子230が、貫通電極220と電気的に接続するように、各角部付近にそれぞれ形成されている。この外部端子230は、基板200の裏面200A上のうち、外部端子形成領域に、例えばクロム(Cr)からなる突起状の下地膜230Aを、マトリクス状に複数配置するようにして形成した構成を有する。
さらに、外部端子230は、基板200の裏面200Aのうち外部端子形成領域及び下地膜230A上に、下地膜230Aを覆うようにして、例えば銅(Cu)からなる金属膜230Bを形成し、当該金属膜230B上に、例えばニッケル(Ni)かならなるメッキ膜230Cと、例えば金(Au)からなるメッキ膜230Dとを順次積層することにより形成される。
このように本実施の形態によれば、基板200の裏面200Aのうち、貫通電極220が露出する領域を含む外部端子形成領域に、ガラスとの密着性が高く、かつ外部端子領域より小さい面積を有する下地膜230Aを複数配置した上で、外部端子形成領域及び下地膜230A上に、下地膜230Aよりガラスとの密着性が低い金属膜230Bを形成する。
これにより、外部端子形成領域の全面に下地膜100Aを形成する場合(図3)と比較して、ガラスからなる基板200との密着性を確保しつつ、実装時に発生する、外部端子230の基板に対する応力を低減させることができ、従って基板200にクラックが生じることを抑制することができる。
また、本実施の形態によれば、下地膜230Aの形状を突起状にするだけで、外部端子230全体の形状を維持することができる。
なお、上述の実施の形態は一例であって、本発明を限定するものではない。例えば図2に示すように、基板310の裏面310A上のうち、外部端子形成領域(すなわち、少なくとも貫通電極330が露出する付近)に、例えばクロム(Cr)からなる突起状の膜320を、マトリクス状に複数配置するようにしても良い。この場合、かかる構成の水晶振動子300をプリント基板に実装する際には、貫通電極330をプリント基板の配線パターンに接続するように実装する。また、クロム(Cr)上に金(Au)などの金属を積層させた膜(図示せず)としても良い。
また、上述の実施の形態においては、キャビティ210が形成された基板200と、平板状の蓋280とを接合する場合について述べたが、平板状の基板とキャビティが形成された蓋とを接合しても良い。
また、上述の実施の形態においては、水晶片260が搭載された水晶振動子290を製造したが、例えば圧電セラミックなど、他の種々の圧電片が搭載された圧電振動子を製造するようにしても良い。
本発明の実施の形態による水晶振動子の製造方法における工程別素子の底面図及び断面構造を示す縦断面図である。 他の実施の形態による水晶振動子の構成を示す底面図である。 従来の水晶振動子の構成を示す底面図及び断面構造を示す縦断面図である。
符号の説明
200 基板
210 キャビティ
220 貫通電極
230 外部端子
230A 下地膜
230B 金属膜
240 搭載パッド
260 水晶片
280 蓋

Claims (2)

  1. ガラスからなる基板と、
    前記基板のうち、圧電片を搭載するための搭載面から、前記搭載面と対向する非搭載面まで貫通するように、前記基板の所望の領域に形成された貫通電極と、
    前記基板の前記搭載面上に、前記貫通電極と電気的に接続するように搭載された前記圧電片と、
    前記圧電片を収容する収容部を形成するようにして、前記基板と接合された蓋と、
    前記基板の前記非搭載面のうち、前記貫通電極が露出する領域を含む外部端子形成領域内に、前記外部端子形成領域より小さい面積を有する下地膜が複数配置されると共に、前記外部端子形成領域及び前記下地膜上に、前記下地膜よりガラスとの密着性が低い金属膜が形成された外部端子と
    を備えることを特徴とする圧電振動子。
  2. ガラスからなる基板のうち、圧電片を搭載するための搭載面から、前記搭載面と対向する非搭載面まで貫通するように、前記基板の所望の領域に、貫通電極を形成する貫通電極形成ステップと、
    前記基板の前記非搭載面のうち、前記貫通電極が露出する領域を含む外部端子形成領域内に、前記外部端子形成領域より小さい面積を有する下地膜を複数配置した後、前記外部端子形成領域及び前記下地膜上に、前記下地膜よりガラスとの密着性が低い金属膜を形成することにより、外部端子を形成する外部端子形成ステップと、
    前記基板の前記搭載面上に、前記貫通電極と電気的に接続するように、前記圧電片を搭載する搭載ステップと、
    前記圧電片を収容する収容部を形成するようにして、前記基板と蓋とを接合する接合ステップと
    を備えることを特徴とする圧電振動子の製造方法。
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